光产酸源的新进展

本人已对UV产酸物质、UV产酸过程及UV固化作过综述。在UV产酸固化过程中,光产酸物质(光产酸源)事实上是作为一种酸引发剂,去引发一些物质发生开环聚合、加成聚合或交联反应的。它是一个由小分子变为大分子或由线型高分子变为体型硕大分子的过程。

化学增幅抗蚀剂用光产酸源

对化学增幅抗蚀剂体系的组成及化学增幅作用做了阐述。介绍了化学增幅作用中的关键组分———光产酸源和酸增殖剂的发展概况 ,并对重氮盐、盐、有机多卤化物、磺酸酯类化合物等产酸源的产酸机理、适用光源分别进行了阐述。从目前国际发展的趋势来看 ,硫盐和磺酸酯类的光产酸源占据主要地位 ,有机多卤化物中的三嗪化合物还有少量应用。

ArF激光光致抗蚀剂的研究进展

本文对近10年来有关ArF激光(193nm)光致抗蚀剂的研究开发情况进行了调研,对193nm光致抗蚀剂组成物的各个组分进行了归纳综述.从本文可以看出,利用193nm成像技术可以刻画线幅很细(<0.13μm)的图像,能适应信息技术的发展对于光致抗蚀剂高分辨率的要求.但若想将193nm成像技术在实践中推广应用,还有诸多问题需待研究解决.