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LED用图形化蓝宝石衬底的光刻工艺优化
被引量:
2
1
作者
潘春荣
刘云祥
+1 位作者
谢斌晖
陈铭欣
《传感器与微系统》
CSCD
北大核心
2021年第1期56-59,共4页
基于对单片衬底曝光场分布规律的研究,建立了曝光场分布优化的数学模型,推导出计算单片衬底曝光场数目及曝光场顶点坐标值的解析表达式;根据曝光场顶点与衬底中心点之间的关系,开发了优化衬底曝光场分布的算法;将该算法应用于实际曝光...
基于对单片衬底曝光场分布规律的研究,建立了曝光场分布优化的数学模型,推导出计算单片衬底曝光场数目及曝光场顶点坐标值的解析表达式;根据曝光场顶点与衬底中心点之间的关系,开发了优化衬底曝光场分布的算法;将该算法应用于实际曝光加工过程,结果表明:曝光场数量减少了近10%,提高了光刻机的生产效率。
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关键词
图形化蓝宝石衬底
光刻工艺优化
生产效率
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职称材料
题名
LED用图形化蓝宝石衬底的光刻工艺优化
被引量:
2
1
作者
潘春荣
刘云祥
谢斌晖
陈铭欣
机构
江西理工大学机电工程学院
福建晶安光电有限公司
出处
《传感器与微系统》
CSCD
北大核心
2021年第1期56-59,共4页
基金
国家自然科学基金资助项目(51665018)。
文摘
基于对单片衬底曝光场分布规律的研究,建立了曝光场分布优化的数学模型,推导出计算单片衬底曝光场数目及曝光场顶点坐标值的解析表达式;根据曝光场顶点与衬底中心点之间的关系,开发了优化衬底曝光场分布的算法;将该算法应用于实际曝光加工过程,结果表明:曝光场数量减少了近10%,提高了光刻机的生产效率。
关键词
图形化蓝宝石衬底
光刻工艺优化
生产效率
Keywords
patterned sapphire substrate
lithography process optimization
production efficiency
分类号
TN305.7 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
LED用图形化蓝宝石衬底的光刻工艺优化
潘春荣
刘云祥
谢斌晖
陈铭欣
《传感器与微系统》
CSCD
北大核心
2021
2
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