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激光超衍射光刻原理与技术
被引量:
1
1
作者
梁紫鑫
赵圆圆
段宣明
《激光与光电子学进展》
CSCD
北大核心
2022年第9期470-492,共23页
现有主流光刻技术与设备变得越来越复杂的原因之一在于其仍然囿于线性光学光刻范畴,未能突破光学衍射极限,是衍射极限附近的光刻技术。采用紫外、可见或近红外等长波长光源进行纳米光刻,必须突破光学衍射极限,实现超衍射光刻,研究和发...
现有主流光刻技术与设备变得越来越复杂的原因之一在于其仍然囿于线性光学光刻范畴,未能突破光学衍射极限,是衍射极限附近的光刻技术。采用紫外、可见或近红外等长波长光源进行纳米光刻,必须突破光学衍射极限,实现超衍射光刻,研究和发展激光超衍射纳米光刻技术具有十分重要的科学意义和应用价值。本文从光学衍射极限的基本概念出发,系统阐述各类超衍射光刻原理与方法,重点回顾激光远场超衍射光刻相关研究成果与最新进展,并对其现存的问题和发展方向进行评述。
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关键词
光刻
超衍射
激光直写
投影
光刻
非线性光学
光刻
分辨率
光刻效率
原文传递
题名
激光超衍射光刻原理与技术
被引量:
1
1
作者
梁紫鑫
赵圆圆
段宣明
机构
暨南大学光子技术研究院
出处
《激光与光电子学进展》
CSCD
北大核心
2022年第9期470-492,共23页
基金
广州市重点领域研发计划项目(202007010002)
国家重点研发计划(2016YFA0200500)。
文摘
现有主流光刻技术与设备变得越来越复杂的原因之一在于其仍然囿于线性光学光刻范畴,未能突破光学衍射极限,是衍射极限附近的光刻技术。采用紫外、可见或近红外等长波长光源进行纳米光刻,必须突破光学衍射极限,实现超衍射光刻,研究和发展激光超衍射纳米光刻技术具有十分重要的科学意义和应用价值。本文从光学衍射极限的基本概念出发,系统阐述各类超衍射光刻原理与方法,重点回顾激光远场超衍射光刻相关研究成果与最新进展,并对其现存的问题和发展方向进行评述。
关键词
光刻
超衍射
激光直写
投影
光刻
非线性光学
光刻
分辨率
光刻效率
Keywords
lithography
super-diffraction
laser direct writing
projection lithography
nonlinear optics
lithographic resolution
lithography efficiency
分类号
O436 [机械工程—光学工程]
原文传递
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
激光超衍射光刻原理与技术
梁紫鑫
赵圆圆
段宣明
《激光与光电子学进展》
CSCD
北大核心
2022
1
原文传递
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参考文献
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