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步进扫描投影光刻机照明系统技术研究进展 被引量:10
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作者 刘佳红 张方 黄惠杰 《激光与光电子学进展》 CSCD 北大核心 2022年第9期197-205,共9页
光刻技术是制造集成电路的核心技术,光刻机是制造集成电路的核心设备,照明系统是光刻机的核心部件之一。介绍了深紫外步进扫描投影光刻机照明系统的工作原理,重点分析了光瞳整形技术、光场匀化技术和偏振照明技术,归纳和概述了相关的技... 光刻技术是制造集成电路的核心技术,光刻机是制造集成电路的核心设备,照明系统是光刻机的核心部件之一。介绍了深紫外步进扫描投影光刻机照明系统的工作原理,重点分析了光瞳整形技术、光场匀化技术和偏振照明技术,归纳和概述了相关的技术原理和实现方法。 展开更多
关键词 光刻机照明系统 步进扫描投影 光瞳整形 光场匀化 偏振照明
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