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步进扫描投影光刻机照明系统技术研究进展
被引量:
10
1
作者
刘佳红
张方
黄惠杰
《激光与光电子学进展》
CSCD
北大核心
2022年第9期197-205,共9页
光刻技术是制造集成电路的核心技术,光刻机是制造集成电路的核心设备,照明系统是光刻机的核心部件之一。介绍了深紫外步进扫描投影光刻机照明系统的工作原理,重点分析了光瞳整形技术、光场匀化技术和偏振照明技术,归纳和概述了相关的技...
光刻技术是制造集成电路的核心技术,光刻机是制造集成电路的核心设备,照明系统是光刻机的核心部件之一。介绍了深紫外步进扫描投影光刻机照明系统的工作原理,重点分析了光瞳整形技术、光场匀化技术和偏振照明技术,归纳和概述了相关的技术原理和实现方法。
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关键词
光刻机照明系统
步进扫描投影
光瞳整形
光场匀化
偏振
照明
原文传递
题名
步进扫描投影光刻机照明系统技术研究进展
被引量:
10
1
作者
刘佳红
张方
黄惠杰
机构
中国科学院上海光学精密机械研究所信息光学与光电技术实验室
中国科学院大学
出处
《激光与光电子学进展》
CSCD
北大核心
2022年第9期197-205,共9页
文摘
光刻技术是制造集成电路的核心技术,光刻机是制造集成电路的核心设备,照明系统是光刻机的核心部件之一。介绍了深紫外步进扫描投影光刻机照明系统的工作原理,重点分析了光瞳整形技术、光场匀化技术和偏振照明技术,归纳和概述了相关的技术原理和实现方法。
关键词
光刻机照明系统
步进扫描投影
光瞳整形
光场匀化
偏振
照明
Keywords
lithography illumination system
step-and-scan projection
pupil shaping
homogenization
polarization illumination
分类号
O436 [机械工程—光学工程]
原文传递
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
步进扫描投影光刻机照明系统技术研究进展
刘佳红
张方
黄惠杰
《激光与光电子学进展》
CSCD
北大核心
2022
10
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