工作波长193纳米投影光刻物镜研究设计

介绍工作波长为 1 93nm的投影光刻物镜研究设计 ,对波长、数值孔径和分辨力的选择 ,光学结构型式的确定 ,以及材料和试制加工工艺的考虑 ,然后给出一个数值孔径NA =0 .6 2 ,光学结构为双远心的投影光刻物镜设计结果。

微细加工技术与设备

TN305.7 20010429500.35μm分步重复投影光刻物镜设计=Design of 0.35μm step-and-repeat projection lighography objective[刊,中]/林妩媚,王效才(中科院光电技术研究所.四川,成都(610209))//光学学报.-2000,20(8).-1148-1150分析了0.35μm分步重复投影光刻物镜的设计要点,包括数值孔径、结构型式的确定、材料的选择。介绍了光刻物镜设计的难点、创新点及设计结果。