激光直写光刻技术的发展与应用(特邀)

以“光”为媒介的激光直写技术是研制先进功能材料与功能元器件的重要途径、探索未知光电子世界的窗口,也是通向更高制造目标的桥梁。激光直写产生的微纳结构形貌及其排列所形成的许多新特性、新现象和新机理是研究制备新材料、新器件的重要途径,牵引着光电子器件与材料研究和应用的发展,在柔性触控传感、微波天线、薄膜成像器件、3D显示面板、虚实融合光波导镜片等新型信息领域具有巨大的应用价值,引领着激光直写光刻技术向大面积、3D形貌、多维调控方向发展。本文综述了激光直写光刻技术在制备新型微纳结构方面面临的重大挑战以及激光直写光刻技术创新和装备成果,同时展示了该技术在新型显示、大尺寸触控、光场调控等领域的应用。

基于Intel8254的准分子激光外触发器的研究

介绍了一种利用可编程Intel8254定时器/计数器在微机上实现准分子激光微加工过程激光外触发控制的新方法。针对准分子激光的光刻直写技术的需求特点对所使用的分频器以及8254的组合工作方式进行了研究,并在实际应用中对该外触发器的优势进行了分析。结果表明,由此方法制作的准分子激光外触发控制器具有性能可靠、结构简单和可编程控制等特点。