衰减相移掩模光刻技术研究

论述了衰减相移掩模光刻技术的原理和曝光实验研究，给出了光刻曝光实验部分结果。

光学光刻技术的研究进展

论述了相移光刻掩模技术和１９３ｎｍ准分子激光光刻技术的有关理论、实现方法、光学系统设计、透镜材料、光致抗蚀剂以及应用方面的研究进展。