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基于光刻胶热熔法的全息光栅表面粗糙度平滑处理
1
作者
李文昊
巴音贺希格
齐向东
《微细加工技术》
EI
2007年第1期11-14,共4页
根据表面热动力学原理提出了一种成本低廉、制作周期短、易于实现的光刻胶热熔法,阐述了光刻胶热熔法的基本原理,探讨了光刻胶热熔对光刻胶光栅表面刻槽形状的影响。实验中,分别对经过和未经过热熔处理的光刻胶光栅做了离子束刻蚀。结...
根据表面热动力学原理提出了一种成本低廉、制作周期短、易于实现的光刻胶热熔法,阐述了光刻胶热熔法的基本原理,探讨了光刻胶热熔对光刻胶光栅表面刻槽形状的影响。实验中,分别对经过和未经过热熔处理的光刻胶光栅做了离子束刻蚀。结果表明,利用表面张力作用可使熔融状态下的光刻胶光栅刻槽表面变得平滑,粗糙度降低,并且成功地在K9玻璃基底上得到了槽形较好的全息光栅。
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关键词
全息光栅
光刻胶热熔法
离子束刻蚀
原子力显微镜
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职称材料
DMD并行光刻制作微透镜阵列提高有机发光二极管的耦合效率
2
作者
周芳
庄孝磊
+1 位作者
申溯
陈林森
《苏州大学学报(自然科学版)》
CAS
2010年第3期61-65,共5页
分析了半球形微透镜阵列提高有机发光二极管耦合效率的特性,利用光线追迹法对其进行了模拟仿真.利用DMD并行光刻和热熔法结合制作了不同口径的球冠状微透镜阵列模板,通过电铸和UV压印制作了微透镜阵列薄膜.并将其附在有机发光二极管玻...
分析了半球形微透镜阵列提高有机发光二极管耦合效率的特性,利用光线追迹法对其进行了模拟仿真.利用DMD并行光刻和热熔法结合制作了不同口径的球冠状微透镜阵列模板,通过电铸和UV压印制作了微透镜阵列薄膜.并将其附在有机发光二极管玻璃基底表面,测量其光亮度.实验结果表明,在垂直基底方向上,微透镜阵列薄膜可将光亮度提高42%.
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关键词
DMD并行
光刻
光刻胶热熔法
微透镜阵列薄膜
有机发光二极管
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职称材料
硅微透镜阵列的制备工艺
3
作者
乌李瑛
刘丹
+5 位作者
刘民
张笛
权雪玲
瞿敏妮
马玲
程秀兰
《半导体光电》
CAS
北大核心
2023年第3期389-394,共6页
开发了一种和MEMS工艺兼容的基于硅微加工技术的简易硅微透镜阵列制造技术。利用光刻胶热熔法和等离子体刻蚀法相结合的方法,实现了在硅晶圆上制作不同尺寸的硅微透镜阵列的工艺过程。实验中,对透镜制作过程中的热熔工艺、刻蚀工艺进行...
开发了一种和MEMS工艺兼容的基于硅微加工技术的简易硅微透镜阵列制造技术。利用光刻胶热熔法和等离子体刻蚀法相结合的方法,实现了在硅晶圆上制作不同尺寸的硅微透镜阵列的工艺过程。实验中,对透镜制作过程中的热熔工艺、刻蚀工艺进行了深入的研究。最终确定了最优的工艺参数,制备了孔径在20~90μm、表面质量高的硅微透镜阵列。
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关键词
硅微透镜阵列
光刻胶热熔法
电感耦合等离子体刻蚀
刻蚀缺陷
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职称材料
单层曲面复眼成像系统的优化设计
被引量:
14
4
作者
邸思
杜如虚
《光电工程》
CAS
CSCD
北大核心
2010年第2期27-31,共5页
与传统曲面复眼结构不同,提出了在曲面基底上设计非均一微透镜阵列的构想。整个透镜阵列呈环状对称分布,沿径向排列的各级透镜其焦距由所处位置决定,与基底到光探测阵列的距离相吻合。根据几何光学成像原理计算了各级透镜的设计参数并...
与传统曲面复眼结构不同,提出了在曲面基底上设计非均一微透镜阵列的构想。整个透镜阵列呈环状对称分布,沿径向排列的各级透镜其焦距由所处位置决定,与基底到光探测阵列的距离相吻合。根据几何光学成像原理计算了各级透镜的设计参数并通过光线追迹加以验证。仿真结果表明,这种设计可对全视场在光探测阵列上聚焦,解决了传统曲面复眼边缘视场成像质量急剧下降的问题。同时还论证了采用光刻胶热熔法在曲面基底上制作非均一微透镜阵列的可行性。
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关键词
曲面复眼
微透镜阵列
光线追迹
光刻胶热熔法
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职称材料
微透镜阵列制作技术研究
被引量:
4
5
作者
甘代伟
《装备制造技术》
2011年第9期44-45,49,共3页
详细介绍了光刻胶热熔法、光敏玻璃热成型法、离子交换法、飞秒激光酸刻蚀法等4种比较实用的制作微透镜阵列的方法,阐述了其原理,分析了各自的优缺点。
关键词
微透镜阵列
光刻胶热熔法
光敏玻璃
热
成型
法
离子交换
法
飞秒激光酸刻蚀
法
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职称材料
用于短波红外探测器的微透镜阵列制作
被引量:
4
6
作者
冯献飞
邓军
+2 位作者
刘明
李超慧
邹德恕
《光电工程》
CAS
CSCD
北大核心
2017年第6期633-637,共5页
采用光刻胶热熔法制作具有特定尺寸的微透镜,制作的微透镜能将微透镜阵列技术应用于短波1μm?3μm红外探测器中,有效地提高探测器件的光电性能。采用AZ P4620厚光刻胶,利用紫外光刻技术,对透镜制作中的前烘、曝光和显影、坚膜、热熔等...
采用光刻胶热熔法制作具有特定尺寸的微透镜,制作的微透镜能将微透镜阵列技术应用于短波1μm?3μm红外探测器中,有效地提高探测器件的光电性能。采用AZ P4620厚光刻胶,利用紫外光刻技术,对透镜制作中的前烘、曝光和显影、坚膜、热熔等工艺进行了深入细致的实验研究,确定了最优的工艺参数,实现了球冠直径在(5.5±0.5)μm,曲率半径3μm的微透镜,且透镜有很好的均匀性和一致性,满足近红外探测器件的要求。
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关键词
微透镜阵列
光刻胶热熔法
前烘
热
熔
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职称材料
仿生复眼结构的制作与测试研究
被引量:
1
7
作者
陈德沅
石云波
+1 位作者
邹坤
贺婷
《传感技术学报》
CAS
CSCD
北大核心
2015年第11期1591-1595,共5页
为了更好地利用生物复眼的光学性能,介绍了一种新型仿生复眼结构。通过使用传统光刻胶热熔法和NOA73紫外曝光固化技术,得到了NOA73和PDMS材料的微透镜阵列,比较了它们的聚焦效果和光强分布,得到NOA73材料具有更好的光学性能;然后利用PDM...
为了更好地利用生物复眼的光学性能,介绍了一种新型仿生复眼结构。通过使用传统光刻胶热熔法和NOA73紫外曝光固化技术,得到了NOA73和PDMS材料的微透镜阵列,比较了它们的聚焦效果和光强分布,得到NOA73材料具有更好的光学性能;然后利用PDMS的柔韧性进行了两次倒模,再通过紫外曝光把NOA73固化,得到了背靠背形式的仿生复眼结构;最后对结构进行了成像测试、光强分布测试,并对结果进行了仿真和理论分析,可知该结构具有良好的形貌,光损耗小,光学性能优异并且具有很好的重复性,制作简单,成本低,能够模仿生物复眼的部分光学特性。
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关键词
光学
仿生复眼
光刻胶热熔法
PDMS
NOA73
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职称材料
MOEMS器件的硅微透镜阵列制造工艺
8
作者
王进
《仪表技术与传感器》
CSCD
北大核心
2019年第10期5-7,共3页
开发了一种适于MOEMS器件的基于硅微加工技术的简易的硅微透镜阵列制造工艺。通过光刻胶热熔法与ICPRIE(感应耦合等离子反应离子刻蚀)相结合的方式,实现在硅晶圆上批量生产微透镜阵列。通过多层涂胶的方式以及以2.5℃/min的速率从115℃...
开发了一种适于MOEMS器件的基于硅微加工技术的简易的硅微透镜阵列制造工艺。通过光刻胶热熔法与ICPRIE(感应耦合等离子反应离子刻蚀)相结合的方式,实现在硅晶圆上批量生产微透镜阵列。通过多层涂胶的方式以及以2.5℃/min的速率从115℃升温至130℃的热熔工艺,获得口径为2.41 mm、矢高99.9μm的光刻胶微透镜阵列。通过控制ICPRIE的胶与硅的刻蚀选择比达到约1∶1,将光刻胶曲率准确地转移到硅晶圆上。
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关键词
微透镜阵列
MOEMS
硅微加工技术
光刻胶热熔法
ICPRIE
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职称材料
自写入光波导聚合物微透镜阵列的设计与制作
被引量:
10
9
作者
李凤
陈四海
+2 位作者
赖建军
周一帆
高益庆
《中国激光》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2011年第3期197-202,共6页
利用聚合物SU-8光刻胶在激光作用下折射率会发生变化的特点,将其作为最后的光学材料,采用光刻胶热熔法和图形转移法,设计并制作了填充因子接近0.75、自写入光波导、六角排列的微透镜阵列。对阵列的表面形态、三维结构和光学性能分别进...
利用聚合物SU-8光刻胶在激光作用下折射率会发生变化的特点,将其作为最后的光学材料,采用光刻胶热熔法和图形转移法,设计并制作了填充因子接近0.75、自写入光波导、六角排列的微透镜阵列。对阵列的表面形态、三维结构和光学性能分别进行了观察、测试与分析,发现用SU-8胶制作的微透镜阵列外观良好,边缘清晰;自写入光波导微透镜阵列的三维结构良好;波导末梢的光点分布均匀,光强一致性高。这种自写入光波导的微透镜阵列降低了透镜阵列与探测阵列精确装配的难度,而且其制作工艺流程简单、成本低廉、适合批量复制,这种阵列元件还有质量轻、体积小的特点,有很广的应用前景。
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关键词
光学器件
微光学元件
聚合物微透镜阵列
光刻胶热熔法
SU-8胶
自写入
原文传递
一种新型聚合物微透镜阵列的制造技术
被引量:
18
10
作者
王伟
周常河
《中国激光》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2009年第11期2869-2872,共4页
提出了一种利用软模压印制备微透镜阵列的技术。采用传统的光刻胶热熔方法制备微透镜阵列母板,利用复制模具的方法在聚二甲基硅氧烷(PDMS)上得到一个和母板表面图形相反的模具,最后通过压印的方法把PDMS模具上的图形转移到涂有紫外固化...
提出了一种利用软模压印制备微透镜阵列的技术。采用传统的光刻胶热熔方法制备微透镜阵列母板,利用复制模具的方法在聚二甲基硅氧烷(PDMS)上得到一个和母板表面图形相反的模具,最后通过压印的方法把PDMS模具上的图形转移到涂有紫外固化胶的玻璃基片上,待紫外胶完全固化后可得到和母板一致的微透镜阵列。经过测试微透镜阵列的焦点图像和表面形貌可发现最后制备的微透镜阵列表面形貌均匀、聚焦性能良好、光强均匀。
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关键词
光学制造
微透镜阵列
光刻胶热熔法
软刻蚀
压印技术
原文传递
题名
基于光刻胶热熔法的全息光栅表面粗糙度平滑处理
1
作者
李文昊
巴音贺希格
齐向东
机构
中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
出处
《微细加工技术》
EI
2007年第1期11-14,共4页
基金
"十一五"国家科技支撑计划重大项目资助(2006BAK03A02)
中国科学院知识创新工程青年基金资助项目(Q05J03Z)
文摘
根据表面热动力学原理提出了一种成本低廉、制作周期短、易于实现的光刻胶热熔法,阐述了光刻胶热熔法的基本原理,探讨了光刻胶热熔对光刻胶光栅表面刻槽形状的影响。实验中,分别对经过和未经过热熔处理的光刻胶光栅做了离子束刻蚀。结果表明,利用表面张力作用可使熔融状态下的光刻胶光栅刻槽表面变得平滑,粗糙度降低,并且成功地在K9玻璃基底上得到了槽形较好的全息光栅。
关键词
全息光栅
光刻胶热熔法
离子束刻蚀
原子力显微镜
Keywords
holographic grating
photoresist melting method
Ar ion beam etch
atomic force microscope(AFM)
分类号
TN305.7 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
DMD并行光刻制作微透镜阵列提高有机发光二极管的耦合效率
2
作者
周芳
庄孝磊
申溯
陈林森
机构
苏州大学信息光学工程研究所
出处
《苏州大学学报(自然科学版)》
CAS
2010年第3期61-65,共5页
基金
江苏省基础研究计划项目(BK20082766)
苏州市科技专项项目(ZXG0802)
文摘
分析了半球形微透镜阵列提高有机发光二极管耦合效率的特性,利用光线追迹法对其进行了模拟仿真.利用DMD并行光刻和热熔法结合制作了不同口径的球冠状微透镜阵列模板,通过电铸和UV压印制作了微透镜阵列薄膜.并将其附在有机发光二极管玻璃基底表面,测量其光亮度.实验结果表明,在垂直基底方向上,微透镜阵列薄膜可将光亮度提高42%.
关键词
DMD并行
光刻
光刻胶热熔法
微透镜阵列薄膜
有机发光二极管
Keywords
DMD-based parallel lithography
thermal reflow
microlens arrays film
OLED
分类号
TN205 [电子电信—物理电子学]
TN303 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
硅微透镜阵列的制备工艺
3
作者
乌李瑛
刘丹
刘民
张笛
权雪玲
瞿敏妮
马玲
程秀兰
机构
上海交通大学电子信息与电气工程学院先进电子材料与器件平台
出处
《半导体光电》
CAS
北大核心
2023年第3期389-394,共6页
基金
国家科技部“十三五”高性能计算重点研发计划项目子课题项目(2016YFB0200205)
2018年度上海研发公共服务平台建设项目(18DZ2295400)
+1 种基金
2021年上海交通大学决策咨询重点课题项目(JCZXSJA-04)
2020年上海交通大学决策咨询课题项目(JCZXSJB2020-010)。
文摘
开发了一种和MEMS工艺兼容的基于硅微加工技术的简易硅微透镜阵列制造技术。利用光刻胶热熔法和等离子体刻蚀法相结合的方法,实现了在硅晶圆上制作不同尺寸的硅微透镜阵列的工艺过程。实验中,对透镜制作过程中的热熔工艺、刻蚀工艺进行了深入的研究。最终确定了最优的工艺参数,制备了孔径在20~90μm、表面质量高的硅微透镜阵列。
关键词
硅微透镜阵列
光刻胶热熔法
电感耦合等离子体刻蚀
刻蚀缺陷
Keywords
silicon microlens array
photoresist hot melt method
ICP-RIE
etch defect
分类号
TN248 [电子电信—物理电子学]
O43 [机械工程—光学工程]
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职称材料
题名
单层曲面复眼成像系统的优化设计
被引量:
14
4
作者
邸思
杜如虚
机构
中国科学院香港中文大学深圳先进集成技术研究所
出处
《光电工程》
CAS
CSCD
北大核心
2010年第2期27-31,共5页
文摘
与传统曲面复眼结构不同,提出了在曲面基底上设计非均一微透镜阵列的构想。整个透镜阵列呈环状对称分布,沿径向排列的各级透镜其焦距由所处位置决定,与基底到光探测阵列的距离相吻合。根据几何光学成像原理计算了各级透镜的设计参数并通过光线追迹加以验证。仿真结果表明,这种设计可对全视场在光探测阵列上聚焦,解决了传统曲面复眼边缘视场成像质量急剧下降的问题。同时还论证了采用光刻胶热熔法在曲面基底上制作非均一微透镜阵列的可行性。
关键词
曲面复眼
微透镜阵列
光线追迹
光刻胶热熔法
Keywords
spherical compound-eye
microlens array
ray tracing
photo-resist melting method
分类号
O439 [机械工程—光学工程]
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职称材料
题名
微透镜阵列制作技术研究
被引量:
4
5
作者
甘代伟
机构
陕西国防工业职业技术学院
出处
《装备制造技术》
2011年第9期44-45,49,共3页
文摘
详细介绍了光刻胶热熔法、光敏玻璃热成型法、离子交换法、飞秒激光酸刻蚀法等4种比较实用的制作微透镜阵列的方法,阐述了其原理,分析了各自的优缺点。
关键词
微透镜阵列
光刻胶热熔法
光敏玻璃
热
成型
法
离子交换
法
飞秒激光酸刻蚀
法
Keywords
Microlens array
Melting photoresist method
photosensitive glass thermoforming method method
ion exchange method
femtosecond laser with acid etching method
分类号
TH74 [机械工程—光学工程]
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职称材料
题名
用于短波红外探测器的微透镜阵列制作
被引量:
4
6
作者
冯献飞
邓军
刘明
李超慧
邹德恕
机构
北京工业大学信息学部光电子技术省部共建教育部重点实验室
出处
《光电工程》
CAS
CSCD
北大核心
2017年第6期633-637,共5页
基金
2017年光电子技术教育部重点实验室基金(PXM2017_014204_500034)的经费支持
文摘
采用光刻胶热熔法制作具有特定尺寸的微透镜,制作的微透镜能将微透镜阵列技术应用于短波1μm?3μm红外探测器中,有效地提高探测器件的光电性能。采用AZ P4620厚光刻胶,利用紫外光刻技术,对透镜制作中的前烘、曝光和显影、坚膜、热熔等工艺进行了深入细致的实验研究,确定了最优的工艺参数,实现了球冠直径在(5.5±0.5)μm,曲率半径3μm的微透镜,且透镜有很好的均匀性和一致性,满足近红外探测器件的要求。
关键词
微透镜阵列
光刻胶热熔法
前烘
热
熔
Keywords
microlens array
melting photoresist
pre-baking
hot melt
分类号
TH741.8 [机械工程—光学工程]
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职称材料
题名
仿生复眼结构的制作与测试研究
被引量:
1
7
作者
陈德沅
石云波
邹坤
贺婷
机构
中北大学电子测试技术国防重点实验室
中北大学仪器科学与动态测试教育部重点实验室
出处
《传感技术学报》
CAS
CSCD
北大核心
2015年第11期1591-1595,共5页
基金
国家重点基础研究发展"973"计划项目(2012CB723401)
文摘
为了更好地利用生物复眼的光学性能,介绍了一种新型仿生复眼结构。通过使用传统光刻胶热熔法和NOA73紫外曝光固化技术,得到了NOA73和PDMS材料的微透镜阵列,比较了它们的聚焦效果和光强分布,得到NOA73材料具有更好的光学性能;然后利用PDMS的柔韧性进行了两次倒模,再通过紫外曝光把NOA73固化,得到了背靠背形式的仿生复眼结构;最后对结构进行了成像测试、光强分布测试,并对结果进行了仿真和理论分析,可知该结构具有良好的形貌,光损耗小,光学性能优异并且具有很好的重复性,制作简单,成本低,能够模仿生物复眼的部分光学特性。
关键词
光学
仿生复眼
光刻胶热熔法
PDMS
NOA73
Keywords
optical
biological compound eye
photoresist melting method
PDMS
NOA73
分类号
TH161.1 [机械工程—机械制造及自动化]
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职称材料
题名
MOEMS器件的硅微透镜阵列制造工艺
8
作者
王进
机构
中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所纳米加工平台
出处
《仪表技术与传感器》
CSCD
北大核心
2019年第10期5-7,共3页
文摘
开发了一种适于MOEMS器件的基于硅微加工技术的简易的硅微透镜阵列制造工艺。通过光刻胶热熔法与ICPRIE(感应耦合等离子反应离子刻蚀)相结合的方式,实现在硅晶圆上批量生产微透镜阵列。通过多层涂胶的方式以及以2.5℃/min的速率从115℃升温至130℃的热熔工艺,获得口径为2.41 mm、矢高99.9μm的光刻胶微透镜阵列。通过控制ICPRIE的胶与硅的刻蚀选择比达到约1∶1,将光刻胶曲率准确地转移到硅晶圆上。
关键词
微透镜阵列
MOEMS
硅微加工技术
光刻胶热熔法
ICPRIE
Keywords
microlens arrays
MOEMS(micro-opto-electro-mechanical systems)
silicon micromachining technique
thermal reflow method of photoresist
ICPRIE(inductively coupled plasma reaction ion etching)
分类号
TN405 [电子电信—微电子学与固体电子学]
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职称材料
题名
自写入光波导聚合物微透镜阵列的设计与制作
被引量:
10
9
作者
李凤
陈四海
赖建军
周一帆
高益庆
机构
南京航空航天大学自动化学院
南昌航空大学测试与光电工程学院
华中科技大学光电子科学与工程学院武汉光电国家实验室
出处
《中国激光》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2011年第3期197-202,共6页
基金
国家自然科学基金(61072131)
新世纪优秀人才计划基金(NCET-07-0319)
南昌航空大学科研基金(EC200908228)资助课题
文摘
利用聚合物SU-8光刻胶在激光作用下折射率会发生变化的特点,将其作为最后的光学材料,采用光刻胶热熔法和图形转移法,设计并制作了填充因子接近0.75、自写入光波导、六角排列的微透镜阵列。对阵列的表面形态、三维结构和光学性能分别进行了观察、测试与分析,发现用SU-8胶制作的微透镜阵列外观良好,边缘清晰;自写入光波导微透镜阵列的三维结构良好;波导末梢的光点分布均匀,光强一致性高。这种自写入光波导的微透镜阵列降低了透镜阵列与探测阵列精确装配的难度,而且其制作工艺流程简单、成本低廉、适合批量复制,这种阵列元件还有质量轻、体积小的特点,有很广的应用前景。
关键词
光学器件
微光学元件
聚合物微透镜阵列
光刻胶热熔法
SU-8胶
自写入
Keywords
optical devices
mciro-optical element
polymer mcirolens array
melting photoresist
SU-8 photoresist
self-written
分类号
O439 [机械工程—光学工程]
原文传递
题名
一种新型聚合物微透镜阵列的制造技术
被引量:
18
10
作者
王伟
周常河
机构
中国科学院上海光学精密机械研究所信息光学实验室
中国科学院研究生院
出处
《中国激光》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2009年第11期2869-2872,共4页
基金
国家自然科学基金(60878035)
国家973计划(2006CB80600)资助课题
文摘
提出了一种利用软模压印制备微透镜阵列的技术。采用传统的光刻胶热熔方法制备微透镜阵列母板,利用复制模具的方法在聚二甲基硅氧烷(PDMS)上得到一个和母板表面图形相反的模具,最后通过压印的方法把PDMS模具上的图形转移到涂有紫外固化胶的玻璃基片上,待紫外胶完全固化后可得到和母板一致的微透镜阵列。经过测试微透镜阵列的焦点图像和表面形貌可发现最后制备的微透镜阵列表面形貌均匀、聚焦性能良好、光强均匀。
关键词
光学制造
微透镜阵列
光刻胶热熔法
软刻蚀
压印技术
Keywords
optical fabrication microlens array thermal reflow soft lithography imprint technology
分类号
O435 [机械工程—光学工程]
TN205 [电子电信—物理电子学]
原文传递
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
基于光刻胶热熔法的全息光栅表面粗糙度平滑处理
李文昊
巴音贺希格
齐向东
《微细加工技术》
EI
2007
0
下载PDF
职称材料
2
DMD并行光刻制作微透镜阵列提高有机发光二极管的耦合效率
周芳
庄孝磊
申溯
陈林森
《苏州大学学报(自然科学版)》
CAS
2010
0
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职称材料
3
硅微透镜阵列的制备工艺
乌李瑛
刘丹
刘民
张笛
权雪玲
瞿敏妮
马玲
程秀兰
《半导体光电》
CAS
北大核心
2023
0
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职称材料
4
单层曲面复眼成像系统的优化设计
邸思
杜如虚
《光电工程》
CAS
CSCD
北大核心
2010
14
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职称材料
5
微透镜阵列制作技术研究
甘代伟
《装备制造技术》
2011
4
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职称材料
6
用于短波红外探测器的微透镜阵列制作
冯献飞
邓军
刘明
李超慧
邹德恕
《光电工程》
CAS
CSCD
北大核心
2017
4
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职称材料
7
仿生复眼结构的制作与测试研究
陈德沅
石云波
邹坤
贺婷
《传感技术学报》
CAS
CSCD
北大核心
2015
1
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职称材料
8
MOEMS器件的硅微透镜阵列制造工艺
王进
《仪表技术与传感器》
CSCD
北大核心
2019
0
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职称材料
9
自写入光波导聚合物微透镜阵列的设计与制作
李凤
陈四海
赖建军
周一帆
高益庆
《中国激光》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2011
10
原文传递
10
一种新型聚合物微透镜阵列的制造技术
王伟
周常河
《中国激光》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2009
18
原文传递
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