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涂胶膜厚优化试验与控制方法
被引量:
5
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作者
洪诗捷
沈奕
《现代显示》
2005年第11期44-46,共3页
针对本公司目前所用RC-550涂胶机,对影响涂胶膜厚的主要参数(胶轮压力、光刻胶粘度和流量以及胶轮转动速度等)进行试验,得出光刻胶涂布的最优化条件,并对如何获得稳定的涂胶膜厚提出合理化建议。
关键词
液晶显示器
光刻胶
膜厚
RC-550涂胶机
胶轮压力
光刻胶粘度
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职称材料
题名
涂胶膜厚优化试验与控制方法
被引量:
5
1
作者
洪诗捷
沈奕
机构
汕头超声显示器有限公司
出处
《现代显示》
2005年第11期44-46,共3页
文摘
针对本公司目前所用RC-550涂胶机,对影响涂胶膜厚的主要参数(胶轮压力、光刻胶粘度和流量以及胶轮转动速度等)进行试验,得出光刻胶涂布的最优化条件,并对如何获得稳定的涂胶膜厚提出合理化建议。
关键词
液晶显示器
光刻胶
膜厚
RC-550涂胶机
胶轮压力
光刻胶粘度
Keywords
LCD
photo-resist
film thickness
分类号
TQ330.45 [化学工程—橡胶工业]
TS262.2 [轻工技术与工程—发酵工程]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
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1
涂胶膜厚优化试验与控制方法
洪诗捷
沈奕
《现代显示》
2005
5
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职称材料
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