期刊导航
期刊开放获取
河南省图书馆
退出
期刊文献
+
任意字段
题名或关键词
题名
关键词
文摘
作者
第一作者
机构
刊名
分类号
参考文献
作者简介
基金资助
栏目信息
任意字段
题名或关键词
题名
关键词
文摘
作者
第一作者
机构
刊名
分类号
参考文献
作者简介
基金资助
栏目信息
检索
高级检索
期刊导航
共找到
1
篇文章
<
1
>
每页显示
20
50
100
已选择
0
条
导出题录
引用分析
参考文献
引证文献
统计分析
检索结果
已选文献
显示方式:
文摘
详细
列表
相关度排序
被引量排序
时效性排序
光刻工艺稳定性研究
被引量:
3
1
作者
汪继芳
《集成电路通讯》
2005年第1期38-40,共3页
光刻技术是一种精密的表面加工技术,它是一种图形技术与图形刻蚀工艺相结合综合性工艺,是平面工艺中至关重要的一步,其工艺质量是影响器件性能、可靠性及成品率的关键因素之一。本文主要介绍了光刻工艺中容易出现的问题及解决方法,并通...
光刻技术是一种精密的表面加工技术,它是一种图形技术与图形刻蚀工艺相结合综合性工艺,是平面工艺中至关重要的一步,其工艺质量是影响器件性能、可靠性及成品率的关键因素之一。本文主要介绍了光刻工艺中容易出现的问题及解决方法,并通过分析和实验得出了稳定性方案。
展开更多
关键词
光刻
工艺
稳定性
表面加工技术
工艺质量
光刻胶选择
下载PDF
职称材料
题名
光刻工艺稳定性研究
被引量:
3
1
作者
汪继芳
机构
中国兵器工业第
出处
《集成电路通讯》
2005年第1期38-40,共3页
文摘
光刻技术是一种精密的表面加工技术,它是一种图形技术与图形刻蚀工艺相结合综合性工艺,是平面工艺中至关重要的一步,其工艺质量是影响器件性能、可靠性及成品率的关键因素之一。本文主要介绍了光刻工艺中容易出现的问题及解决方法,并通过分析和实验得出了稳定性方案。
关键词
光刻
工艺
稳定性
表面加工技术
工艺质量
光刻胶选择
分类号
TN405.7 [电子电信—微电子学与固体电子学]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
光刻工艺稳定性研究
汪继芳
《集成电路通讯》
2005
3
下载PDF
职称材料
已选择
0
条
导出题录
引用分析
参考文献
引证文献
统计分析
检索结果
已选文献
上一页
1
下一页
到第
页
确定
用户登录
登录
IP登录
使用帮助
返回顶部