光刻镜头象质测试方法

提出了一种用于测量紫外光或深紫外光光斑位置的新方法，并将这种方法同传统的哈特曼检验法结合起来形成了一种测试光刻镜头象质的新方法。这种方法测量原理简单、测量精度高。在不采取隔振和恒温措施的实验室环境下，横向象差的测量精度为－１．２～＋１．１μｍ，重复测量精度为－１．７μｍ＜３σ＜１．７μｍ。

光刻机镜头的结构设计与装配

介绍工作波长为193nm的投影光刻物镜的研制,对结构型式的确定和材料的选择以及加工装配工艺进行充分考虑,提出投影光刻物镜结构设计和装配方法.本文研制的镜头在光刻机中获得了广泛应用.

像差、像质评价

O435.2 99063528光刻镜头像质测试方法=A testing method for im-age quality of photolithographic lens[刊,中]/周明宝,杜春雷,林大键,郭勇(中科院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室.四川,成都(610209))∥光电工程.—1998,25(1).

光栅横向剪切干涉仪系统误差的校正方法

针对光栅横向剪切干涉仪研究了旋转绝对检测的方法,并用前36项Zernike多项式标定出剪切装置的系统误差非对称项。研究结果表明,将面形检测的绝对算法应用于检测镜头系统波像差,在干涉仪系统误差消除后可以达到相对理想的检测精度。实验数据的重复性的均方根可以达到0.14nm。