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先导光刻中的光学邻近效应修正 被引量:4
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作者 韦亚一 粟雅娟 刘艳松 《微纳电子技术》 CAS 北大核心 2014年第3期186-193,共8页
按照逻辑器件发展的节点顺序,依次论述了各种光学邻近效应修正技术:基于经验的光学邻近效应修正、基于模型的光学邻近效应修正、曝光辅助图形、光源和掩模版的优化、反演光刻技术以及两次曝光技术等。概括了各种技术出现的逻辑技术节点... 按照逻辑器件发展的节点顺序,依次论述了各种光学邻近效应修正技术:基于经验的光学邻近效应修正、基于模型的光学邻近效应修正、曝光辅助图形、光源和掩模版的优化、反演光刻技术以及两次曝光技术等。概括了各种技术出现的逻辑技术节点、数据处理流程、修正的表现形式和效果、优势和发展前景等。最后就先导光刻工艺的研发模式(先建立光学和光刻胶模型,再进行"计算光刻"),论证了光刻工艺的研发必须和光学邻近效应修正的数据流程实现互动的观点,即任何光刻工艺参数的变动都会影响到"计算光刻"模型的准确性,需要重新进行修正,以避免原计算可能导致的失败。因此,光学邻近效应修正是先导光刻工艺研发的核心。 展开更多
关键词 光学邻近效应修正(OPC) 辅助图形 计算光刻 光源和掩模版的优化(SMO) 像素式光照 两次曝光技术
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一种基于离散实镜像理论的修正物理光学法在金属平行板内嵌电大尺寸结构中的应用 被引量:1
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作者 高翔 李超 +1 位作者 谷胜明 方广有 《电子与信息学报》 EI CSCD 北大核心 2012年第4期969-975,共7页
传统的物理光学法(PO)能够方便高效地处理开放空间中电大尺寸结构的电磁散射问题,并且通常能获得较好的精度。然而,对于电大尺寸结构内嵌在金属平行板之间的这种特殊问题,传统的PO方法不再适用,而采用全波分析方法来处理往往需要消耗巨... 传统的物理光学法(PO)能够方便高效地处理开放空间中电大尺寸结构的电磁散射问题,并且通常能获得较好的精度。然而,对于电大尺寸结构内嵌在金属平行板之间的这种特殊问题,传统的PO方法不再适用,而采用全波分析方法来处理往往需要消耗巨大的计算资源。该文在离散实镜像理论的基础上,提出了一种修正的物理光学法(DRMI-PO),基本思想是先将金属平行板间的激励电磁流展开为傅里叶级数,再对级数的每一项分别应用2维物理光学法求解场,最后把所有求得的场解作线性组合。与多层快速多极子(MLFMA)的全波方法相比,DRMI-PO在解决该类特殊结构的电磁仿真问题时能在保证足够高精度的同时大幅度提高计算效率;作为应用实例,对两种不同极化方式的太赫兹波段扇形波束扫描天线分别进行了DRMI-PO数值仿真与实验测试,结果表明仿真和实验得出的天线方向图吻合较好,从而证实了DRMI-PO方法的有效性。 展开更多
关键词 电磁散射 离散实镜像 修正物理光学 金属平行板 电大尺寸结构 扇形波束扫描天线
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发动机喷嘴光学测量中光学畸变的修正方法
3
作者 丰雷 丁星星 《科学咨询》 2022年第9期37-41,共5页
使用光学方法测量发动机喷嘴内部情况时,由于喷嘴透明固壁的曲面形状会引起光学畸变,从而影响测量的精度。针对该现象,采用理论分析的方法,以一个全新的角度详细阐述了一种光学修正方法,该方法适用于任意曲面状的透明固壁。将得到的光... 使用光学方法测量发动机喷嘴内部情况时,由于喷嘴透明固壁的曲面形状会引起光学畸变,从而影响测量的精度。针对该现象,采用理论分析的方法,以一个全新的角度详细阐述了一种光学修正方法,该方法适用于任意曲面状的透明固壁。将得到的光学修正方法应用在圆管中,获得的结果与现有的理论推导结果、实验结果一致。 展开更多
关键词 光学测量 光学畸变 光学修正 任意曲面状固壁
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光学邻近效应修正技术发展综述及思考
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作者 柯顺魁 《山东工业技术》 2018年第10期207-207,共1页
光学邻近修正技术是纳米级晶圆制造的核心,随着晶圆制造工艺上的逻辑器件技术节点的不断缩小,导致光学邻近修正越来越困难。本文对近年来晶圆制造的光学邻近效应技术的发展进行综述,并对逻辑器件技术节点到20nm以下情况下的先进光刻工... 光学邻近修正技术是纳米级晶圆制造的核心,随着晶圆制造工艺上的逻辑器件技术节点的不断缩小,导致光学邻近修正越来越困难。本文对近年来晶圆制造的光学邻近效应技术的发展进行综述,并对逻辑器件技术节点到20nm以下情况下的先进光刻工艺进行深入思考,提出应强化光学邻近修正模型研发在先进光刻工艺研发中的核心地位,加强光学邻近修正技术的研发。 展开更多
关键词 光学邻近效应修正(OPC) 先进光刻 OPC经验学习
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一种基于IC电路设计的多次图形化方法
5
作者 王雷 张顾斌 张雪 《半导体技术》 CAS 北大核心 2024年第8期713-718,共6页
集成电路光刻工艺中的多次图形化技术在版图拆分时着重强化图形分辨率,而非考虑电路复杂程度带来的图形复杂度和拆分难度,拆分后的版图依然包含多个电路设计单元,具有多种复杂结构,不利于光刻条件的进一步优化。以存储器为例,提出了一... 集成电路光刻工艺中的多次图形化技术在版图拆分时着重强化图形分辨率,而非考虑电路复杂程度带来的图形复杂度和拆分难度,拆分后的版图依然包含多个电路设计单元,具有多种复杂结构,不利于光刻条件的进一步优化。以存储器为例,提出了一种基于电路设计的多次图形化方法,根据电路功能单元或器件工作电压对设计版图进行识别分组。将版图进行重新布局拆分,使拆分后图形具备类似的空间周期和图形特征,克服了传统光刻工艺需要兼顾各种图形带来的缺陷。对图形结构空间周期进行全周期优化和最大化优化,降低了对光刻设备的依赖程度,为多次图形化技术提供了一种新的思路和可行性方案。 展开更多
关键词 多次图形化 版图拆分 存储器 光罩 工艺窗口 光学临近效应修正(OPC)
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A Systematic Study of the Forbidden Pitch in the CD Through-Pitch Curve for Beyond 130nm
6
作者 赵宇航 朱骏 曹永峰 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第5期889-892,共4页
The forbidden pitch "dip" in the critical dimension (CD) through the pitch curve is a well-known optical proximity effect. The CD and CD process window near the "dip",usually found near a pitch range of 1.1 to 1... The forbidden pitch "dip" in the critical dimension (CD) through the pitch curve is a well-known optical proximity effect. The CD and CD process window near the "dip",usually found near a pitch range of 1.1 to 1.4 wavelength/ NA (numerical aperture),is smaller when compared with other pitches. This is caused by inadequate imaging contrast for an unequal line and space grating. Although this effect is relatively well-known, its relationship with typical process condition parameters,such as the effective image blur caused by the photo-acid diffusion during the post exposure bake or the aberration in the imaging lens, has not been systematically studied. In this paper, we will examine the correlation between the image blur and the effect on the CD, including the decrease in the CD value (the depth of the "dip") and the CD process window. We find that both the decrease in the CD value and the focus latitude near the forbidden pitch correlate very well with the effective Gaussian image blur. Longer effective diffusion length correlates well with a smaller process window and a deeper CD "dip". We conclude that the dip depth is very sensitive to the change in image contrast. 展开更多
关键词 forbidden pitch effective resist diffusion length OPC OAI deep-UV
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用在可制造性设计中的光刻规则检查 被引量:1
7
作者 陆梅君 金晓亮 +1 位作者 毛智彪 梁强 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2006年第12期920-923,共4页
可制造性设计(DFM)已经发展成为优化通晓制造技术设计中的有效工具,它包含从理论、规则到工具的整体应用来提升从设计到硅片的流程。基于制程模型的光刻规则检查(LRC),可查出没被设计规则检查(DRC)出来的设计布局的不足之处。本设计把... 可制造性设计(DFM)已经发展成为优化通晓制造技术设计中的有效工具,它包含从理论、规则到工具的整体应用来提升从设计到硅片的流程。基于制程模型的光刻规则检查(LRC),可查出没被设计规则检查(DRC)出来的设计布局的不足之处。本设计把光刻规则检查加入到设计流程中,用来优化设计规则,改善布局更有利光学邻近效应修正,使布局图形有更大的制程窗口。 展开更多
关键词 可制造性设计 光刻规则检查 光学邻近效应修正 设计规则 制程窗口
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亚分辨率辅助图形对28纳米密集线条光刻成像的影响 被引量:1
8
作者 陈权 段力 毛智彪 《中国集成电路》 2016年第5期53-58,共6页
亚分辨率辅助图形(Sub-Resolution-Assist-Feature,SRAF)是光刻工艺图形增强技术(Resolution Enhancement Technology,RET)中广泛应用的一种方法。本文设计实验在密集图形(线宽/距离比约1:1)外侧放置不同的SRAF,研究了SRAF对于密集图形... 亚分辨率辅助图形(Sub-Resolution-Assist-Feature,SRAF)是光刻工艺图形增强技术(Resolution Enhancement Technology,RET)中广泛应用的一种方法。本文设计实验在密集图形(线宽/距离比约1:1)外侧放置不同的SRAF,研究了SRAF对于密集图形内部线条成像的影响,通过实验数据总结和理论分析,提出了最佳的SRAF放置位置。此外,本文还设计了一种与设计图形线宽一样大小的SRAF,并比较了其与传统尺寸SRAF对密集图形内侧线条成像的影响。 展开更多
关键词 亚分辨率辅助图形 SRAF 光学邻近效应修正 OPC 分辨率
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一种新型双重图形技术拆分方法
9
作者 于丽贤 粟雅娟 韦亚一 《微纳电子技术》 北大核心 2016年第4期259-264,共6页
基于奇数周期理论,提出一种新型快速高效率的双重图形技术(DPT)拆分方法。对于图形拆分过程中遇到的剩余违规冲突问题,分析其存在的原因,阐述了已知解决途径;基于奇数周期理论,详细阐述了新型图形拆分方法的实现步骤,该方法主要适用于... 基于奇数周期理论,提出一种新型快速高效率的双重图形技术(DPT)拆分方法。对于图形拆分过程中遇到的剩余违规冲突问题,分析其存在的原因,阐述了已知解决途径;基于奇数周期理论,详细阐述了新型图形拆分方法的实现步骤,该方法主要适用于未在设计阶段考虑兼容DPT的设计版图,能够对版图顺利完成包含更改设计和引入切割的图形拆分过程;采用新方法拆分实际版图,进一步证明了该方法能够同时减少剩余冲突和引入切割数目;采用EDA工具模拟了拆分之后进行光源掩膜优化(SMO)和光学临近效应修正(OPC)的光刻分辨率增强流程,验证了DPT能够提高分辨率、增大光刻工艺窗口。 展开更多
关键词 光刻 双重图形技术(DPT) 图形拆分 光学临近效应修正(OPC) 奇数周期
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Studies of the correction for phase diverse speckle 被引量:1
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作者 ZHANG Ai-hong WANG Ting-ting FAN Zhi-gang 《Optoelectronics Letters》 EI 2007年第4期315-317,共3页
Phase diverse speckle is a novel kind of imaging technique and can be used to overcome image degradation from unknown phase aberrations, such as atmospheric turbulence. The wave-front phase expanded on the Zernike pol... Phase diverse speckle is a novel kind of imaging technique and can be used to overcome image degradation from unknown phase aberrations, such as atmospheric turbulence. The wave-front phase expanded on the Zernike polynomials is esti- mated from a pair of images (in the focal and out of focus planes). In this paper the principle of PDS is analyzed, and genetic algorithm is used as the iterative algorithm to simulate some characteristics, such as the influence of Zernike polynomials’ mode, amplitude of turbulence on the phase estimation. Thus, a new method for recovery of images is explored. 展开更多
关键词 斑点 相位变化 修正 光学信号处理
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Improved FEC Code Based on Concatenated Code for Optical Transmission Systems 被引量:1
11
作者 YUAN Jian-guo JIANG Ze MAO You-ju 《Semiconductor Photonics and Technology》 CAS 2006年第3期211-216,共6页
The improved three novel schemes of the super forward error correction (super-FEC) concatenated codes are proposed after the development trend of long-haul optical transmission systems and the defects of the existin... The improved three novel schemes of the super forward error correction (super-FEC) concatenated codes are proposed after the development trend of long-haul optical transmission systems and the defects of the existing FEC codes have been analyzed. The performance simulation of the Reed-Solomon(RS)+ Bose-Chaudhuri-Hocguenghem(BCH) inner-outer serial concatenated code is implemented and the conceptions of encoding/decoding the parallel-concatenated code are presented. Furthermore, the simulation results for the RS(255,239) +RS(255,239) code and the RS(255,239) +RS(255,223) code show that the two consecutive concatenated codes are a superior coding scheme with such advantages as the better error correction, moderate redundancy and easy realization compared to the classic RS(255,239) code and other codes, and their signal to noise ratio gains are respectively 2-3 dB more than that of the RS(255,239)code at the bit error rate of 1 × 10^-13. Finally, the frame structure of the novel consecutive concatenated code is arranged to lay a firm foundation in designing its hardware. 展开更多
关键词 Optical transmission systems Super forward error correction Concatenated code Frame structure
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后摩尔时代集成电路制造发展趋势以及我国集成电路产业现状 被引量:15
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作者 康劲 吴汉明 汪涵 《微纳电子与智能制造》 2019年第1期57-64,共8页
集成电路是将电子元件依照电路互连",集成"在晶片上,实现特定功能的电路系统。在当代,集成电路已渗透到社会发展的各个领域,是信息产业高速发展的基础和动力。在经济结构调整中,集成电路产业的战略性、先导性地位凸显,有望从... 集成电路是将电子元件依照电路互连",集成"在晶片上,实现特定功能的电路系统。在当代,集成电路已渗透到社会发展的各个领域,是信息产业高速发展的基础和动力。在经济结构调整中,集成电路产业的战略性、先导性地位凸显,有望从根本上对制造业进行改造,在完成产业升级同时满足国家信息安全的需要。随着需求的不断提升,未来的集成电路需兼具低功耗、小尺寸、高性能等综合素质,传统工艺的改进已不足以满足这些要求。为此,集成电路制造业必须拓展相应制造技术以顺应新的发展趋势。我国集成电路产业近20年来取得了显著发展,总结了国内集成电路产业的发展历程及现状,并对未来发展进行了展望。 展开更多
关键词 摩尔定律 光学邻近效应修正 鳍式场效应晶体管 良率提升 集成电路产业链 晶圆代工 集成电路专用设备 集成电路材料
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New Two-dimensional Modified Quadratic Congruence Code/Optical Orthogonal Code for OCDMA
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作者 WANG Dong QIU Luo-lin +2 位作者 ZHANG Jin-rong TANG Xian-lun CAO Chang-xiu 《Semiconductor Photonics and Technology》 CAS 2007年第1期16-19,共4页
A new family of two-dimensional optical orthogonal code(2-DOOC), namely, modified quadratic congruence code(MQCC )/optical orthogonal code(OOC) is proposed who employs MQCC and OOC as wavelength hopping and time-sprea... A new family of two-dimensional optical orthogonal code(2-DOOC), namely, modified quadratic congruence code(MQCC )/optical orthogonal code(OOC) is proposed who employs MQCC and OOC as wavelength hopping and time-spreading patterns, respectively. Through analyzing the performance of MQCC/OOC, we can see that the correlation properties of the MQCC/OOC are still ideal. Simultaneously, our analysis shows that the proposed new code families can get more cardinalities than other codes and can improve the bit error rate(BER) of optical code division multiple access(OCDMA) effectively. 展开更多
关键词 MQCC/OOC bit-error-rate(BER) OCDMA
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集成电路掩模分辨率增强技术 被引量:1
14
作者 华卫群 周家万 尤春 《电子与封装》 2020年第11期64-67,共4页
随着大规模集成电路技术的飞速发展,掩模分辨率增强技术变得越来越重要。介绍了掩模分辨率增强技术中的相移掩模技术、光学邻近效应修正技术和光源掩模协同优化技术,重点介绍了3种技术的作用和具体做法。
关键词 掩模 分辨率增强技术 相移掩模 光学邻近效应修正 光源掩模协同优化
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Evaluation of Correction Algorithm for the Reflectance Measured with Optical Glass 被引量:1
15
作者 车江宁 周志华 陈东辉 《Journal of Donghua University(English Edition)》 EI CAS 2003年第2期52-55,共4页
The proposed algorithm for reflectance measured with optical glass has been verified with materials of various forms. The reflectances measured with optical glass ( raw), without glass (true) and corrected by the algo... The proposed algorithm for reflectance measured with optical glass has been verified with materials of various forms. The reflectances measured with optical glass ( raw), without glass (true) and corrected by the algorithm are compared. The results show that the corrected reflectance agrees very well with true one and their color differences fall below the acceptable limit, which indicates the validity of the correction algorithm. The algorithm could be used not only for fiber-forming materials, but also for powder-forming, granulate-forming, etc. 展开更多
关键词 Correction Algorithm Reflectance Optical Glass
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Modified Optical Properties of SemiconductorQuantum Dots by Photonic Structures
16
作者 XIAOMin 《量子光学学报》 CSCD 2004年第B09期2-3,共2页
关键词 半导体量子点 修正光学性能 光子结构 光子晶体 发射寿命
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B→ρ(ω,φ)η(′)Decays and NLO Contributions in pQCD Approach 被引量:1
17
作者 ZHANG Zhi-Qing XIAO Zhen-Jun 《Communications in Theoretical Physics》 SCIE CAS CSCD 2009年第5期885-894,共10页
By employing the perturbative QCD (pQCD) factorization approach, we calculate some important next- to-leading-order (NLO) contributions to the two-body charmless hadronic decays B^+ →ρ^+η(') and B^0 → ρ^... By employing the perturbative QCD (pQCD) factorization approach, we calculate some important next- to-leading-order (NLO) contributions to the two-body charmless hadronic decays B^+ →ρ^+η(') and B^0 → ρ^0(ω, φ)η('), induced by the vertex QCD corrections, the quark-loops as well as the chromo-magnetic penguins. From the numerical results and phenomenological analysis we find that (a) for B^± → ρ^±η(') (B^0 → ρ^0(ω, φ)η(')decays, the partial NLO contributions to branching ratios are small (large) in magnitude; and (b) the pQCD predictions for ACP^dir(B^± → ρ^±η(')) are consistent with the data, while the predicted .ACP(B^0 → ρ^0(ω)η(')) are generally large in magnitude and could be tested by the forthcoming LHCb experiments. 展开更多
关键词 pQCD factorization approach B meson decays branching ratio CP-violating asymmetry
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新闻集锦
18
《电子产品世界》 2004年第11A期145-145,共1页
关键词 英飞凌科技公司 半导体市场 华虹NEC公司 光学近似修正软件 储存器业务
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蔡司模拟光刻机的应用
19
作者 张顺勇 《集成电路应用》 2003年第6期76-77,共2页
随着半导体微电子技术的发展与进步,集成度不断提高,器件的特征尺寸不断缩小。相应的集成电路制造用掩膜板(Reticle/Mask)也变得越来越复杂,象现在正逐渐广泛应用的光学邻近效应修正(OPC)掩膜、相位转移(Phase Shift)掩膜。无论是现在... 随着半导体微电子技术的发展与进步,集成度不断提高,器件的特征尺寸不断缩小。相应的集成电路制造用掩膜板(Reticle/Mask)也变得越来越复杂,象现在正逐渐广泛应用的光学邻近效应修正(OPC)掩膜、相位转移(Phase Shift)掩膜。无论是现在还是未来,要在芯片上制作更小尺寸器件。 展开更多
关键词 蔡司公司 模拟光刻机 应用 空间影像量测系统 掩膜板 光学邻近效应修正
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基于DEM与“宽带结构”联合优化的XCH4遥感反演算法研究
20
作者 王晨 许德刚 +3 位作者 达虹鞠 唐智和 栾辉 范海浩 《山东大学学报(理学版)》 CAS CSCD 北大核心 2024年第4期127-134,共8页
加权修正的差分光学吸收光谱法(weighting function modified differential optical absorption spectroscopy,WFM-DOAS)是用于甲烷平均干空气摩尔分数(XCH4)遥感反演的经典算法,其关键技术之一是分离“宽带吸收”与“窄带吸收”光谱结... 加权修正的差分光学吸收光谱法(weighting function modified differential optical absorption spectroscopy,WFM-DOAS)是用于甲烷平均干空气摩尔分数(XCH4)遥感反演的经典算法,其关键技术之一是分离“宽带吸收”与“窄带吸收”光谱结构;同时,数字高程模型(digital elevation model,DEM)对XCH4的反演有重要影响。目前已有的甲烷反演产品主要使用多项式进行宽带结构拟合,多项式阶数的选择标准不明确、对宽带结构的拟合不够精确,使用的DEM精度无法满足局部地区高精度反演要求。本文选取瓦里关大气本底基准观象台所在的青藏高原区域为研究区,使用更高精度的数字高程模型(global 30 m digital elevation model,GLO-30)并用全连接神经网络代替低阶多项式进行“宽带结构”拟合,进一步地,在传统的全连接神经网络的基础上加入了“跳连”结构,并使用dropout策略对网络进行优化。将实验结果与使用The Global Multi-resolution Terrain Elevation Data 2010(GMTED2010)和低阶多项式拟合方法下反演的XCH4进行数据对比。结果显示,改进后的全连接神经网络可以更好地拟合宽带光谱结构,同时联合更高精度的DEM可以提高XCH4的反演精度,相关系数最高提高到0.92。所使用的联合优化方法可以用于油气田产区的XCH4的遥感反演,从而更好地服务于油气田产区甲烷异常排放排查等。 展开更多
关键词 加权修正的差分光学吸收光谱法 XCH4 DEM 光谱宽带结构 人工神经网络 卫星遥感
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