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光学分子影像学及其应用 被引量:7
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作者 石立兴(综述) 张继武(审校) 《中国医学影像技术》 CSCD 北大核心 2008年第12期2024-2026,共3页
光学分子影像学是一种快速发展的生物医学影像技术,它可以利用生物自发光或荧光蛋白或荧光染料,在分子和细胞层面上对在体的特定生物过程进行定性和定量研究。光学分子影像学同磁共振、核素成像等技术相比,具有无创性、高敏感性、成像... 光学分子影像学是一种快速发展的生物医学影像技术,它可以利用生物自发光或荧光蛋白或荧光染料,在分子和细胞层面上对在体的特定生物过程进行定性和定量研究。光学分子影像学同磁共振、核素成像等技术相比,具有无创性、高敏感性、成像价格低、近红外荧光穿透力强等优点。光学对比剂,特别纳米颗粒、纳米壳和量子点发展迅速。近红外(NIR)荧光染料标记的探针在转化到人类临床应用方面有着巨大的潜力。本文综述了当前光学分子影像学的发展现状及其在生物学、医学和药学中的应用。 展开更多
关键词 光学分子影像 生物
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光学分子影像学在肿瘤外科应用的前景 被引量:5
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作者 杨晓峰 《肿瘤防治研究》 CAS CSCD 2018年第6期357-361,共5页
随着光学分子成像技术和靶向光学分子显影剂的不断成熟,以靶向分子显影剂标记,术中光学分子影像引导的外科手术必将成为继开放手术、微创外科手术之后第三代外科手术新理论和新技术。本文结合国内外研究进展和我们的前期研究,对荧光染... 随着光学分子成像技术和靶向光学分子显影剂的不断成熟,以靶向分子显影剂标记,术中光学分子影像引导的外科手术必将成为继开放手术、微创外科手术之后第三代外科手术新理论和新技术。本文结合国内外研究进展和我们的前期研究,对荧光染料与荧光诊断;荧光成像和光学分子影像;光学分子影像和光学分子影像诊疗设备初步进行了概念性讨论。提出了光学分子影像外科学的学科方向,明确指出光学分子影像外科学将是精准外科的前沿理论和先进诊疗技术,光学分子影像外科学主要由靶向光学分子显影剂、光学分子成像设备及其临床诊疗技术构成。 展开更多
关键词 肿瘤外科 光学分子显影剂 光学分子成像设备 光学分子影像
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急性区域性隐匿性外层视网膜病变的眼底光学影像学特征及意义 被引量:1
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作者 周才喜 张智萍 +4 位作者 毛爱玲 李成泉 刘占芬 张武林 杜哲 《中国实用眼科杂志》 2016年第10期1094-1098,共5页
【摘要】目的观察急性区域性隐匿性外层视网膜病变(AZOOR)的眼底光学影像学特征,探讨眼底光学影像检查在AZOOR诊断及鉴别诊断中的临床作用。方法回顾性分析2008年1月至2014年9月期间经河北省眼科医院门诊检查后初诊为AZOOR的48例(4... 【摘要】目的观察急性区域性隐匿性外层视网膜病变(AZOOR)的眼底光学影像学特征,探讨眼底光学影像检查在AZOOR诊断及鉴别诊断中的临床作用。方法回顾性分析2008年1月至2014年9月期间经河北省眼科医院门诊检查后初诊为AZOOR的48例(48只眼)患者进行眼底光学影像学检查。包括频域光学相干断层扫描(FD—OCT)以及眼底自发荧光照相(FAF)、眼底荧光血管造影(FFA)、吲哚青绿血管造影(ICGA)。观察患者眼底后极部在各项检查中的改变特征;通过随诊,观察它们的预后转归;并对所有患眼的临床资料进行总结分析。结果眼科门诊初诊为I型AZOOR的48只患眼,经眼底光学影像学检查后,大致表现为两种类型。第一类28只眼,他们仅在FD—OCT检查中有异常改变,表现为眼底后极部光感受器内外节连接(IS/OS)层反光带紊乱,变薄、甚至局部缺失,伴RPE层光带紊乱,并与视野缺损区相对应,而在FAF、FFA、ICGA检查中无异常改变,属于Ⅰ型AZOOR。第二类20只眼,他们在FD—OCT中的改变与第一类相类似,但在FAF、FFA及ICGA检查中的表现却完全不同。其中在FAF检查中眼底后极部有强自发荧光灶分布;在FFA早期眼底对应部位可见轻微的斑点状强荧光,后期荧光增强;在ICGA早期眼底无异常改变,但后期眼底对应部位出现了明显的低荧光;且这些异常荧光灶在分布上与视野缺损区域均相对应,属于Ⅱ型AZOOR中的多发性一过性白点综合征(MEWDS)。结论Ⅰ型AZOOR与MEWDS具有类似的临床表现和FD—OCT表现,临床上容易混淆。但他们具有完全不同的FAF、FFA、ICGA改变特征。因此,熟练掌握它们各自在FAF、FFA及ICGA中的改变特征对于这两者的鉴别诊断具有重要意义。而FD—OCT检查由于具有简单、快捷、无创、分辨率高等特点,能够动态监测这些患者病变部位的感光细胞层内部结构的改变,非常适合于两者的随访观察。 展开更多
关键词 光学影像学 FAF FFA ICGA OCT AZOOR MEWDS
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Optical Molecular Imaging Frontiers in Oncology: The Pursuit of Accuracy and Sensitivity 被引量:1
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作者 Kun Wang Chongwei Chi +8 位作者 Zhenhua Hu Muhan Liu Hui Hui Wenting Shang Dong Peng Shuang Zhang Jiezuo Ye Haixiao Liu Jie Tian 《Engineering》 SCIE EI 2015年第3期309-323,共15页
Cutting-edge technologies in optical molecular imaging have ushered in new frontiers in cancer research, clinical translation, and medical practice, as evidenced by recent advances in optical multimodality imaging, Ce... Cutting-edge technologies in optical molecular imaging have ushered in new frontiers in cancer research, clinical translation, and medical practice, as evidenced by recent advances in optical multimodality imaging, Cerenkov luminescence imaging(CLI), and optical imageguided surgeries. New abilities allow in vivo cancer imaging with sensitivity and accuracy that are unprecedented in conventional imaging approaches. The visualization of cellular and molecular behaviors and events within tumors in living subjects is improving our deeper understanding of tumors at a systems level. These advances are being rapidly used to acquire tumor-to-tumor molecular heterogeneity, both dynamically and quantitatively, as well as to achieve more effective therapeutic interventions with the assistance of real-time imaging. In the era of molecular imaging, optical technologies hold great promise to facilitate the development of highly sensitive cancer diagnoses as well as personalized patient treatment—one of the ultimate goals of precision medicine. 展开更多
关键词 optical molecular imaging multimodality molecular imaging optical multimodality tomography Cerenkov luminescence imaging intraoperative image-guided surgery
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Various Effective Resist Diffusion Lengths Methodology for OPC Model Calibration
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作者 朱亮 闻人青青 +2 位作者 阎江 顾以理 杨华岳 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第12期2346-2352,共7页
A various effective resist diffusion lengths methodology for OPC model calibration is proposed,which considers the discrepancy of effective resist diffusion lengths between 1D and 2D patterns. An important step of thi... A various effective resist diffusion lengths methodology for OPC model calibration is proposed,which considers the discrepancy of effective resist diffusion lengths between 1D and 2D patterns. An important step of this methodology is to set up a new calibration flow that lets 1D and 2D patterns have the same optical parameters but different effective diffusion lengths. Furthermore, a design for manufacturing (DFM) interaction is suggested in the calibration flow of the pro- posed model. From the CD errors of fitting results and the comparison between simulated contours and SEM images,it is found that the various effective resist diffusion lengths model calibration methodology results in a more accurate and stable model. 展开更多
关键词 OPC DFM DAIM EPE CAR MEF
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