原子纳米光刻中双层光学掩膜的实现方法研究

利用原子光刻的方法制备纳米结构的光栅已经成为了一种较为成熟的工艺。通过原子与激光驻波场的相互作用,利用原子自生在势能场中的偶极力对原子的密度进行调制,从而得到所需要的光栅结构。利用此种工艺所制备的光栅相对于传统工艺来说具有精度高,光栅常数直接溯源于原子能级。希望能够通过对激光的改良来提升原子沉积结果。通过双层驻波场来提高原子沉积质量已经被多次提到。实验中利用几何光学的方法实现了所需要的新型激光驻波场。并对其汇聚,相干等特性进行了研究,取得了较为满意的结果。为利用双层驻波场来沉积原子打下了基础。

对象模型在集成电路掩膜光学临近矫正中的应用

随着超大规模集成电路的发展 ,其特征尺寸已经接近或小于掩膜光刻工艺中所使用的光波长 由于光的衍射和干涉现象 ,实际得到的光刻图形与掩膜图形之间存在一定的误差 为尽量消除这种误差 ,常用的两种方法是OPC和PSM 提出一种基于对象模型的OPC方法以及由此而开发的可实际应用的工具软件OPCM 该方法也为基于规则的OPC提供了产生基本规则的引擎 。

基于掩膜的光场采集与重建的研究

针对现有光场采集方式中存在的:相机阵列采集方式的硬件成本高,体积庞大;单相机分时采集光场局限采集静态光场;积分成像光场采集得到的光场空间分辨率低等问题。研究了一种基于掩膜(mask)的光场采集与重建方法。建立了光场采集模型,分析了光场在傅里叶域的成像过程;采用了随机衰减掩膜mask对光场信号进行随机编码,得到了被编码的传感器图像;离线学习了过完备光场字典,结合压缩感知理论对编码的传感器图像进行了非线性优化,重新恢复了原始的光场。