光学球罩抛光运动轨迹均匀性模拟分析

为提高球罩表面的加工质量、加工效率,减少成本浪费,研究磨粒抛光过程中各运动参数对光学球罩表面材料去除均匀性的影响。以离散系数为评价指标,依据相对运动与向量法建立单颗磨粒运动轨迹模型。采用三角形网格对正二十面体表面进行迭代划分,统计各三角网格中的轨迹点数,用轨迹点数来表征抛光次数。结果表明:转速比对磨粒轨迹的分布与材料去除影响显著;相同转速比下,增大抛光头半径,离散系数逐渐降低,球罩表面材料去除均匀性由差变好;增大摆速,轨迹的长度与密度逐渐减小,离散系数随之变大,球罩表面非均匀性增强;磨粒初始相位改变对轨迹均匀性基本无影响。

光学球罩真空吸附装夹结构设计

为了改善光学球罩表面加工过程中效率低、装夹繁琐等问题,课题组设计了一种针对光学球罩的真空吸附装夹结构。选用“2转动+1摆动+微量进给”的加工工艺对光学球罩的内外表面进行磨削和抛光,并设计了中空的转台结构;分析球罩装夹时所需要的真空负压并验证在此真空负压下球罩在加工过程中不会出现滑移;运用Workbench软件仿真球罩-装夹头模型在加工过程中的变形量。仿真结果表明:在相同参数下内装夹头模型的变形量大于外装夹头;作为装夹头材料,45钢抗变形效果优于铝合金;模型的变形量随磨削力的增大而增大;真空负压及砂轮尺寸对变形量影响较小。该研究有助于提高球罩表面加工的质量和效率。

光学球罩数控抛光工艺关键技术研究

光学球罩被广泛应用于各类光电系统中,其面形精度制约着光电系统的成像质量。随着数控技术的发展,数控加工技术逐渐成为目前光学加工行业的主流发展方向。基于高质量的铣磨表面,为了能够在准球心高速抛光工艺中实现等去除量加工,本文对同步抛光技术进行了理论分析及数学模型推导,并通过实验证明,同步抛光技术可以有效地提升加工效率,获得高质量的光学表面。

光学球罩球面麻点产生的原因及改善方案

摄像机的光学球罩表面麻点,对于一般的中长焦摄像机基本是没有影响的,但是在特定的条件下,对于超短焦,或者IR摄像机夜视效果,却有一定的影响。本文针对光学球罩表面麻点产生的原因进行尽可能详细的分析,并提出有效的改善方向,改善光学球罩的表面麻点不良,提高产品整体品质,降低产品不良率,降低产品成本,最终达到增加经济效益的目的。

聚碳酸酯光学球罩自动定位剪料设备的研制

文章对聚碳酸酯光学球罩自动定位剪料设备进行研究,通过对固定装置、校正装置和剪除装置等关键机构和系统进行设计,解决了人工剪切料头随意和剪切效果不理想的问题,从而实现光学球罩料头定位、校正和剪切工序的自动化及标准化,实现产品料头剪切的一致性,极大地提高了光学球罩的加工质量和效率。

PC光学球罩受IK10冲击时不同球面厚度变形量研究

针对聚碳酸酯(PC)光学球罩在受到冲击时会发生弹性形变而可能撞击到摄像头导致摄像头破损的现象,重点研究了PC球罩的球面厚度与IK10防护安全间距的关系,即在满足IK10的前提下,球罩内表面与摄像机镜头的最小安全间距,为PC保护罩开发提供基础的变形量数据。

光电平台球罩的视轴指向误差分析

利用平面几何与立体几何基础理论和光的折射基本定律,理论计算了光学球罩内任意点光源以任意方向经过球罩后输出激光轴向偏差角度。结合光学球罩内光电探测接收系统与激光发射系统的波段不同,分析了激光发射与目标探测之间的误差,模拟计算了发射激光与目标探测误差的变化规律。计算结果表明,当发射激光波段与探测目标辐射波段不一致时,需要考虑两者之间经过球罩的视轴误差,在光电系统中进行必要的误差补偿,实现精准探测与目标跟踪。