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HAN-FFS简化模型的光学透射率计算
1
作者 赵静 孙静 《河北建筑工程学院学报》 CAS 2011年第1期136-138,共3页
在边缘电场简化成均匀电场和弹性系数K11=K22=K33=K的条件下,得到HAN-FFS的简化模型.根据液晶光学中琼斯矩阵法算出光学透射率.
关键词 HAN-FFS HAN-FFS简化模型 光学透射率
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Bi_(3.15)Nd_(0.85)Ti_(3-x)Mg_xO_(12)薄膜的光学透射率研究
2
作者 胡增顺 《开封大学学报》 2015年第4期81-84,共4页
在600℃退火温度的条件下,采用化学溶液沉积法(CSD),以ITO导电玻璃为衬底,制备了不同Mg掺杂量(x=0.00,0.03,0.05,0.07)的Bi_(3.15)Nd_(0.85)Ti_(3-x)Mg_xO_(12)(简记为BNTMg(x))系列薄膜.研究了不同掺杂含量对薄膜的结晶性能和光学透射... 在600℃退火温度的条件下,采用化学溶液沉积法(CSD),以ITO导电玻璃为衬底,制备了不同Mg掺杂量(x=0.00,0.03,0.05,0.07)的Bi_(3.15)Nd_(0.85)Ti_(3-x)Mg_xO_(12)(简记为BNTMg(x))系列薄膜.研究了不同掺杂含量对薄膜的结晶性能和光学透射率的影响.结果表明,本征吸收边并没有随着掺杂组分的改变而发生明显的变化,并且在Mg组分为0.05时,薄膜的透射率最大. 展开更多
关键词 BNTMg(x) 铁电薄膜 光学透射率 化学溶液沉积
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氧分压对反应磁控溅射ZrO2薄膜光学透射率的影响
3
作者 赵莎 徐可为 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第z1期3162-3164,3170,共4页
从氧空位、表面粗糙度及晶界三方面,讨论了氧分压对射频反应磁控溅射ZrO2薄膜光学透射率的影响.结果表明,随氧分压增大,氧空位的减少使单斜相逐渐占优,缺氧状况的改善使薄膜透射率逐渐升高;高氧分压下,出现颗粒聚集现象,表面粗糙度大幅... 从氧空位、表面粗糙度及晶界三方面,讨论了氧分压对射频反应磁控溅射ZrO2薄膜光学透射率的影响.结果表明,随氧分压增大,氧空位的减少使单斜相逐渐占优,缺氧状况的改善使薄膜透射率逐渐升高;高氧分压下,出现颗粒聚集现象,表面粗糙度大幅增加及晶粒的聚集长大,使薄膜透射率下降. 展开更多
关键词 氧分压 反应磁控溅射 ZRO2薄膜 光学透射率
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金刚石薄膜的光学透射率研究 被引量:4
4
作者 毛敏耀 亢昌军 +6 位作者 王添平 解健芳 谭淞生 王渭源 章熙康 金晓峰 庄志诚 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 1995年第9期1509-1515,共7页
Diamond thin films are deposited on mirror-polished Si substrates using microwave plasma chemical vapour deposition (MPCVD), wherein, the substrates were first treated fornucleation by DC bias-enhanced MPCVD, and diam... Diamond thin films are deposited on mirror-polished Si substrates using microwave plasma chemical vapour deposition (MPCVD), wherein, the substrates were first treated fornucleation by DC bias-enhanced MPCVD, and diamond nucleation density as high as 1010 cm-2 has been achieved. Under the same density of nucleation, the relationships between optical transmittance and deposition parameters such as methane concentration (n), substrate temperature (T) and gas pressure (P) are established. The results show that the transmittance strongly depends on the methane concentration and substrate temperature, but hardly depends on the gas pressure. With the parameters of n = 0.7 %, T = 840℃and P =20 Torr, a highest transmittance at visible light (λ= 600 nm) reaches to 64.5 %, which is very close to the theoretical transmission limit of diamond film. 展开更多
关键词 金刚石薄膜 光学透射率 光学窗口
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Ag离子注入石英玻璃光学透射率研究 被引量:6
5
作者 陈海波 蒋昌忠 +1 位作者 石瑛 付强 《功能材料与器件学报》 CAS CSCD 2003年第1期21-24,共4页
用Mevva离子源,将Ag离子注入到石英玻璃中形成纳米晶粒。离子注入的能量为90keV,剂量分别为5×1015、1×1016、3×1016、5×1016、1×1017ions/cm2。X光电子能谱(XPS)分析纳米Ag颗粒没有发生化学反应,说明Ag仍以金... 用Mevva离子源,将Ag离子注入到石英玻璃中形成纳米晶粒。离子注入的能量为90keV,剂量分别为5×1015、1×1016、3×1016、5×1016、1×1017ions/cm2。X光电子能谱(XPS)分析纳米Ag颗粒没有发生化学反应,说明Ag仍以金属态形式存在。光学透射率测试表明,吸收峰的位置在400nm,当剂量大于5×1016ions/cm2时,发现在440nm左右有一伴峰。分析表明400nm的峰来源于表面等离子体共振吸收,而440nm的伴峰是注入离子形成了少数非常大的纳米颗粒以及纳米颗粒之间相互作用引起的。样品退火后,表面等离子体共振吸收峰红移,而伴峰消失。随着退火的温度升高,峰位红移越大,说明纳米颗粒尺寸增大。 展开更多
关键词 离子注入 纳米晶体 光学透射率
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一维金属介质光子带隙材料的光学特性(英文) 被引量:2
6
作者 赵亚丽 李旭峰 +3 位作者 贾琨 马江将 李巧燕 魏学红 《光电工程》 CAS CSCD 北大核心 2018年第11期64-71,共8页
本文描述了由不同厚度的ITO和Ag层制成的一维金属介质光子带隙材料1D M-D PBG的光学透射和反射特性。研究发现,单元尺寸小于80 nm的金属结构和较小的金属分数会导致光学透射率的提高。对于大于80 nm的单元尺寸,在可见光的低频和高频的... 本文描述了由不同厚度的ITO和Ag层制成的一维金属介质光子带隙材料1D M-D PBG的光学透射和反射特性。研究发现,单元尺寸小于80 nm的金属结构和较小的金属分数会导致光学透射率的提高。对于大于80 nm的单元尺寸,在可见光的低频和高频的频谱范围内反射率都相应增强。这是由于一种特殊结构和等离子体的带隙的作用。此外,在两个范围内的反射随着增加银膜厚度的增加而提高和扩大。结构引起的反射光谱随着单位尺寸的增大而增大,并且由于等离子体光子带隙的反射超出光学范围。研究结果对1D M-D PBG光学滤波器的设计有一定的参考价值。 展开更多
关键词 金属光子晶体 光学透射率 光学反射
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Ag、Cu离子先后注入SiO_2玻璃后形成纳米颗粒的光学性质研究 被引量:2
7
作者 陈海波 蒋昌忠 +1 位作者 石瑛 付强 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第6期714-715,718,共3页
 采用由金属蒸汽真空弧离子源(MEVVA)引出的强束流脉冲Ag、Cu离子,先后注入到SiO2玻璃。注入的剂量均为5×1016ions/cm2,Ag的加速电压为43kV,Cu的加速电压为30kV。光学吸收谱显示吸收峰的位置在442nm,可以推测Ag、Cu在SiO2玻璃表...  采用由金属蒸汽真空弧离子源(MEVVA)引出的强束流脉冲Ag、Cu离子,先后注入到SiO2玻璃。注入的剂量均为5×1016ions/cm2,Ag的加速电压为43kV,Cu的加速电压为30kV。光学吸收谱显示吸收峰的位置在442nm,可以推测Ag、Cu在SiO2玻璃表层形成了纳米合金。借助X射线光电子能谱仪(XPS)考察注入样品的价态分布,观察到Ag、Cu仍大多以金属态形式存在。对样品进行退火后,发现光学透射率发生了明显的变化。 展开更多
关键词 金属离子注入 光学透射率 纳米颗粒 表面等离子体 光学性质 SIO2玻璃 XPS 光开关
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反射式近场光学显微镜样品近场光分布特性 被引量:1
8
作者 吴才章 张思团 +1 位作者 叶梅 叶虎年 《光电工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第7期15-18,共4页
建立了一种反射式近场光学显微镜中样品近场光分布特性的模型,应用矢量衍射理论,得到了系统的场方程。在弱波动条件下,采用微扰法对场方程进行了求解,能方便地得到样品表面的各阶近场光反射和透射模复振幅表达式。计算结果表明,一级场... 建立了一种反射式近场光学显微镜中样品近场光分布特性的模型,应用矢量衍射理论,得到了系统的场方程。在弱波动条件下,采用微扰法对场方程进行了求解,能方便地得到样品表面的各阶近场光反射和透射模复振幅表达式。计算结果表明,一级场分布要比零级场小一个量级,各阶近场信号的强弱完全由面形函数的傅里叶变换决定。通过与零级结果的比较,证明了计算结果的正确性。提供了一种计算样品表面近场分布简便方法,对反射式近场光学显微镜中调制检测技术具有指导意义。 展开更多
关键词 近场光学显微镜:透射率 反射率 光强分布
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光学玻璃
9
《中国光学》 CAS 2004年第3期87-89,共3页
TQ171.112 2004032273 Ag离子注入石英玻璃光学透射率研究=Study of opticaltransmission rate for Ag implanted silica glass[刊,中]/陈海波(武汉大学物理科学与技术学院.湖北,武汉(430072)),蒋昌忠∥功能材料与器件学报.—2003,9(1).
关键词 光学玻璃 功能材料 光学透射率 离子注入 光致发光 磁光玻璃 光纤传感器 石英玻璃 样品 光学均匀性
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溅射电流对钛薄膜光电性能的影响 被引量:1
10
作者 朱秀榕 董煜 李晓芬 《赣南师范大学学报》 2021年第6期30-34,共5页
为了研究溅射电流对磁控溅射沉积钛薄膜光、电学性能的影响,在其它工艺参数相同的情况下改变溅射电流(0.3 A~0.8 A)制备了6组薄膜样品,采用四探针电阻测试仪测量样品的电阻率,用紫外可见分光光度计测量样品的透射率.同时,利用磁控溅射... 为了研究溅射电流对磁控溅射沉积钛薄膜光、电学性能的影响,在其它工艺参数相同的情况下改变溅射电流(0.3 A~0.8 A)制备了6组薄膜样品,采用四探针电阻测试仪测量样品的电阻率,用紫外可见分光光度计测量样品的透射率.同时,利用磁控溅射技术成功制取钛薄膜光栅,采用读数显微镜测量光栅常量.研究表明:钛薄膜电阻率随溅射电流的增大而减小,最小电阻率为3.0343Ω·cm;透射率随溅射电流的增大先减小后增大,最大透射率约为99%(对应溅射电流0.3 A),最小透射率约为0.03%(对应溅射电流0.7 A);测得钛薄膜光栅的光栅常量为(0.1701±0.0007)mm. 展开更多
关键词 磁控溅射 钛薄膜 电阻率 光学透射率 钛光栅
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Cu-Ba-O薄膜在超短激光脉冲作用下的光透射率特性
11
作者 吴锦雷 王传敏 邹英华 《光学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1998年第8期1102-1107,共6页
用泵浦-探测技术测量了金属-介质复合薄膜Cu-Ba-O的光学透射率在超短激光脉冲作用下随延迟时间的瞬态变化曲线,获得了薄膜对光的透射率迅速减小并在皮秒时间内恢复原状的实验结果。该现象是由薄膜中金属超微粒子内费米能级附... 用泵浦-探测技术测量了金属-介质复合薄膜Cu-Ba-O的光学透射率在超短激光脉冲作用下随延迟时间的瞬态变化曲线,获得了薄膜对光的透射率迅速减小并在皮秒时间内恢复原状的实验结果。该现象是由薄膜中金属超微粒子内费米能级附近电子被飞秒激光脉冲激发所产生的非平衡态电子经历瞬态弛豫造成的。本文从理论上给出了薄膜中Cu超微粒子的电子声子相互作用常数g的修正数值。 展开更多
关键词 光学透射率 超短激光脉冲 薄膜
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激光还原氧化石墨烯助力光电器件
12
《光电工程》 CAS CSCD 北大核心 2018年第5期I0003-I0003,91,共2页
二维材料石墨烯凭借其超高的载流子迁移率、电导率以及光学透射率等优异的光电特性,成为当今新兴研究领域的研究热点。然而,如何以价格低廉的方法来实现石墨烯的大面积量产仍然是其实际生产应用中的巨大挑战。激光诱导还原氧化石墨烯... 二维材料石墨烯凭借其超高的载流子迁移率、电导率以及光学透射率等优异的光电特性,成为当今新兴研究领域的研究热点。然而,如何以价格低廉的方法来实现石墨烯的大面积量产仍然是其实际生产应用中的巨大挑战。激光诱导还原氧化石墨烯克服了传统化学和热退火还原过程中复杂的材料制备与转移的工艺劣势,极大加速了石墨烯微纳光电子器件的发展和应用。其中,基于氧化石墨烯还原诱导折射率变化的衍射光学器件的研究正方兴未艾。 展开更多
关键词 氧化石墨 光还原 光电器件 载流子迁移率 衍射光学器件 激光诱导 光学透射率 光电子器件
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低能离子束诱导单晶硅点状纳米结构与光学性能研究 被引量:5
13
作者 陈智利 刘卫国 《光学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第9期237-242,共6页
使用微波回旋共振离子源,研究了低能Ar+束在不同入射角度下对旋转单晶硅(100)表面的刻蚀效果及其光学性能。结果表明:样品旋转、离子束能量为1000eV、束流密度为265μA/cm2、刻蚀时间为60min时,在不同入射角度下,刻蚀后的样品表面可形... 使用微波回旋共振离子源,研究了低能Ar+束在不同入射角度下对旋转单晶硅(100)表面的刻蚀效果及其光学性能。结果表明:样品旋转、离子束能量为1000eV、束流密度为265μA/cm2、刻蚀时间为60min时,在不同入射角度下,刻蚀后的样品表面可形成均匀的自组装点状结构。入射角度为0°~25°时,随着角度增加,样品表面粗糙度增大,点状结构有序性更强,光学透射率提高;继续增加入射角度,样品表面粗糙度及点状结构尺寸开始减小,光学透射率降低;增加入射角度到45$时,自组装点状结构消失,粗糙度和平均光学透射率达到最小值分别为0.83nm和55.05%;进一步增加入射角度,样品表面再次出现自组织装点状结构,表面粗糙度急剧增大,入射角度在65$时,平均光学透射率达到极大值64.59%;此后,随着离子束入射角度的增加,表面粗糙度缓慢减小,光学透射率降低。自组织结构变化是溅射粗糙化和表面弛豫机制相互作用的结果。 展开更多
关键词 表面光学 微纳米制造技术 自组织纳米结构 低能离子束刻蚀 表面形貌 光学透射率
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DLC/Ag/DLC复合多层薄膜光学性能 被引量:8
14
作者 张德恒 徐照方 李伯勋 《光学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第10期2031-2035,共5页
采用等离子体增强化学气相沉积类金刚石(DLC)薄膜、高真空磁控溅射镀膜设备溅射Ag靶的方法制备了不同厚度Ag、DLC层的DLC/Ag/DLC多层膜,分别用紫外可见分光光度计、四探针测试仪对样品的光学性能、电学性能进行了测试。结果表明,随着Ag... 采用等离子体增强化学气相沉积类金刚石(DLC)薄膜、高真空磁控溅射镀膜设备溅射Ag靶的方法制备了不同厚度Ag、DLC层的DLC/Ag/DLC多层膜,分别用紫外可见分光光度计、四探针测试仪对样品的光学性能、电学性能进行了测试。结果表明,随着Ag层厚度的增加,DLC/Ag/DLC多层膜透射率先增后减,外层DLC薄膜和内层DLC薄膜对透射率影响基本一致,随着厚度增加透射率先增后减,在内外层厚度为40 nm,Ag夹层厚度为16 nm时,DLC(30 nm)/Ag(16 nm)/DLC(40 nm)膜在550 nm处的透射率高达94.4%,电气指数高达112.4×10-3Ω-1,远远超过现有透明导电膜的电气指数(FTC≈20×10-3Ω-1)。 展开更多
关键词 薄膜光学 光学性能 多层膜 光学透射率 电气指数 磁控溅射
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