期刊导航
期刊开放获取
河南省图书馆
退出
期刊文献
+
任意字段
题名或关键词
题名
关键词
文摘
作者
第一作者
机构
刊名
分类号
参考文献
作者简介
基金资助
栏目信息
任意字段
题名或关键词
题名
关键词
文摘
作者
第一作者
机构
刊名
分类号
参考文献
作者简介
基金资助
栏目信息
检索
高级检索
期刊导航
共找到
11
篇文章
<
1
>
每页显示
20
50
100
已选择
0
条
导出题录
引用分析
参考文献
引证文献
统计分析
检索结果
已选文献
显示方式:
文摘
详细
列表
相关度排序
被引量排序
时效性排序
先导光刻中的光学邻近效应修正
被引量:
4
1
作者
韦亚一
粟雅娟
刘艳松
《微纳电子技术》
CAS
北大核心
2014年第3期186-193,共8页
按照逻辑器件发展的节点顺序,依次论述了各种光学邻近效应修正技术:基于经验的光学邻近效应修正、基于模型的光学邻近效应修正、曝光辅助图形、光源和掩模版的优化、反演光刻技术以及两次曝光技术等。概括了各种技术出现的逻辑技术节点...
按照逻辑器件发展的节点顺序,依次论述了各种光学邻近效应修正技术:基于经验的光学邻近效应修正、基于模型的光学邻近效应修正、曝光辅助图形、光源和掩模版的优化、反演光刻技术以及两次曝光技术等。概括了各种技术出现的逻辑技术节点、数据处理流程、修正的表现形式和效果、优势和发展前景等。最后就先导光刻工艺的研发模式(先建立光学和光刻胶模型,再进行"计算光刻"),论证了光刻工艺的研发必须和光学邻近效应修正的数据流程实现互动的观点,即任何光刻工艺参数的变动都会影响到"计算光刻"模型的准确性,需要重新进行修正,以避免原计算可能导致的失败。因此,光学邻近效应修正是先导光刻工艺研发的核心。
展开更多
关键词
光学
邻近
效应
修正
(
opc
)
辅助图形
计算光刻
光源和掩模版的优化(SMO)
像素式光照
两次曝光技术
下载PDF
职称材料
光学邻近效应修正技术发展综述及思考
2
作者
柯顺魁
《山东工业技术》
2018年第10期207-207,共1页
光学邻近修正技术是纳米级晶圆制造的核心,随着晶圆制造工艺上的逻辑器件技术节点的不断缩小,导致光学邻近修正越来越困难。本文对近年来晶圆制造的光学邻近效应技术的发展进行综述,并对逻辑器件技术节点到20nm以下情况下的先进光刻工...
光学邻近修正技术是纳米级晶圆制造的核心,随着晶圆制造工艺上的逻辑器件技术节点的不断缩小,导致光学邻近修正越来越困难。本文对近年来晶圆制造的光学邻近效应技术的发展进行综述,并对逻辑器件技术节点到20nm以下情况下的先进光刻工艺进行深入思考,提出应强化光学邻近修正模型研发在先进光刻工艺研发中的核心地位,加强光学邻近修正技术的研发。
展开更多
关键词
光学
邻近
效应
修正
(
opc
)
先进光刻
opc
经验学习
下载PDF
职称材料
一种离线光学邻近效应匹配方法的研究和仿真
被引量:
1
3
作者
宋之洋
郭沫然
+3 位作者
苏晓菁
刘艳松
粟雅娟
韦亚一
《微纳电子技术》
CAS
北大核心
2015年第3期197-203,共7页
目前小技术节点的光学邻近效应校正(OPC)过分依赖光刻机与光刻工艺的属性,量产时难以在不同型号光刻机间转移,而国内芯片制造厂光刻机种类繁杂,不可避免地需要解决工艺转移的问题。针对上述问题,以不同光刻机间的光学邻近效应匹配为研...
目前小技术节点的光学邻近效应校正(OPC)过分依赖光刻机与光刻工艺的属性,量产时难以在不同型号光刻机间转移,而国内芯片制造厂光刻机种类繁杂,不可避免地需要解决工艺转移的问题。针对上述问题,以不同光刻机间的光学邻近效应匹配为研究对象,阐述了匹配的原理及流程,提出了一种利用常用的OPC建模工具实现离线匹配的方法,模拟分析了该方法对成像误差的补偿效果,揭示了不同性质的误差对成像性能的影响规律,验证了该方法的正确性,为不同光刻机间的工艺转移提供了新的思路。
展开更多
关键词
光刻
计算光刻
光学
邻近
效应
校正(
opc
)
光学
邻近
效应
匹配
工艺窗口控制
下载PDF
职称材料
用在可制造性设计中的光刻规则检查
被引量:
1
4
作者
陆梅君
金晓亮
+1 位作者
毛智彪
梁强
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
2006年第12期920-923,共4页
可制造性设计(DFM)已经发展成为优化通晓制造技术设计中的有效工具,它包含从理论、规则到工具的整体应用来提升从设计到硅片的流程。基于制程模型的光刻规则检查(LRC),可查出没被设计规则检查(DRC)出来的设计布局的不足之处。本设计把...
可制造性设计(DFM)已经发展成为优化通晓制造技术设计中的有效工具,它包含从理论、规则到工具的整体应用来提升从设计到硅片的流程。基于制程模型的光刻规则检查(LRC),可查出没被设计规则检查(DRC)出来的设计布局的不足之处。本设计把光刻规则检查加入到设计流程中,用来优化设计规则,改善布局更有利光学邻近效应修正,使布局图形有更大的制程窗口。
展开更多
关键词
可制造性设计
光刻规则检查
光学
邻近
效应
修正
设计规则
制程窗口
下载PDF
职称材料
亚分辨率辅助图形对28纳米密集线条光刻成像的影响
被引量:
1
5
作者
陈权
段力
毛智彪
《中国集成电路》
2016年第5期53-58,共6页
亚分辨率辅助图形(Sub-Resolution-Assist-Feature,SRAF)是光刻工艺图形增强技术(Resolution Enhancement Technology,RET)中广泛应用的一种方法。本文设计实验在密集图形(线宽/距离比约1:1)外侧放置不同的SRAF,研究了SRAF对于密集图形...
亚分辨率辅助图形(Sub-Resolution-Assist-Feature,SRAF)是光刻工艺图形增强技术(Resolution Enhancement Technology,RET)中广泛应用的一种方法。本文设计实验在密集图形(线宽/距离比约1:1)外侧放置不同的SRAF,研究了SRAF对于密集图形内部线条成像的影响,通过实验数据总结和理论分析,提出了最佳的SRAF放置位置。此外,本文还设计了一种与设计图形线宽一样大小的SRAF,并比较了其与传统尺寸SRAF对密集图形内侧线条成像的影响。
展开更多
关键词
亚分辨率辅助图形
SRAF
光学
邻近
效应
修正
opc
分辨率
下载PDF
职称材料
一种新型双重图形技术拆分方法
6
作者
于丽贤
粟雅娟
韦亚一
《微纳电子技术》
北大核心
2016年第4期259-264,共6页
基于奇数周期理论,提出一种新型快速高效率的双重图形技术(DPT)拆分方法。对于图形拆分过程中遇到的剩余违规冲突问题,分析其存在的原因,阐述了已知解决途径;基于奇数周期理论,详细阐述了新型图形拆分方法的实现步骤,该方法主要适用于...
基于奇数周期理论,提出一种新型快速高效率的双重图形技术(DPT)拆分方法。对于图形拆分过程中遇到的剩余违规冲突问题,分析其存在的原因,阐述了已知解决途径;基于奇数周期理论,详细阐述了新型图形拆分方法的实现步骤,该方法主要适用于未在设计阶段考虑兼容DPT的设计版图,能够对版图顺利完成包含更改设计和引入切割的图形拆分过程;采用新方法拆分实际版图,进一步证明了该方法能够同时减少剩余冲突和引入切割数目;采用EDA工具模拟了拆分之后进行光源掩膜优化(SMO)和光学临近效应修正(OPC)的光刻分辨率增强流程,验证了DPT能够提高分辨率、增大光刻工艺窗口。
展开更多
关键词
光刻
双重图形技术(DPT)
图形拆分
光学
临近
效应
修正
(
opc
)
奇数周期
下载PDF
职称材料
后摩尔时代集成电路制造发展趋势以及我国集成电路产业现状
被引量:
15
7
作者
康劲
吴汉明
汪涵
《微纳电子与智能制造》
2019年第1期57-64,共8页
集成电路是将电子元件依照电路互连",集成"在晶片上,实现特定功能的电路系统。在当代,集成电路已渗透到社会发展的各个领域,是信息产业高速发展的基础和动力。在经济结构调整中,集成电路产业的战略性、先导性地位凸显,有望从...
集成电路是将电子元件依照电路互连",集成"在晶片上,实现特定功能的电路系统。在当代,集成电路已渗透到社会发展的各个领域,是信息产业高速发展的基础和动力。在经济结构调整中,集成电路产业的战略性、先导性地位凸显,有望从根本上对制造业进行改造,在完成产业升级同时满足国家信息安全的需要。随着需求的不断提升,未来的集成电路需兼具低功耗、小尺寸、高性能等综合素质,传统工艺的改进已不足以满足这些要求。为此,集成电路制造业必须拓展相应制造技术以顺应新的发展趋势。我国集成电路产业近20年来取得了显著发展,总结了国内集成电路产业的发展历程及现状,并对未来发展进行了展望。
展开更多
关键词
摩尔定律
光学
邻近
效应
修正
鳍式场
效应
晶体管
良率提升
集成电路产业链
晶圆代工
集成电路专用设备
集成电路材料
下载PDF
职称材料
集成电路掩模分辨率增强技术
被引量:
1
8
作者
华卫群
周家万
尤春
《电子与封装》
2020年第11期64-67,共4页
随着大规模集成电路技术的飞速发展,掩模分辨率增强技术变得越来越重要。介绍了掩模分辨率增强技术中的相移掩模技术、光学邻近效应修正技术和光源掩模协同优化技术,重点介绍了3种技术的作用和具体做法。
关键词
掩模
分辨率增强技术
相移掩模
光学
邻近
效应
修正
光源掩模协同优化
下载PDF
职称材料
蔡司模拟光刻机的应用
9
作者
张顺勇
《集成电路应用》
2003年第6期76-77,共2页
随着半导体微电子技术的发展与进步,集成度不断提高,器件的特征尺寸不断缩小。相应的集成电路制造用掩膜板(Reticle/Mask)也变得越来越复杂,象现在正逐渐广泛应用的光学邻近效应修正(OPC)掩膜、相位转移(Phase Shift)掩膜。无论是现在...
随着半导体微电子技术的发展与进步,集成度不断提高,器件的特征尺寸不断缩小。相应的集成电路制造用掩膜板(Reticle/Mask)也变得越来越复杂,象现在正逐渐广泛应用的光学邻近效应修正(OPC)掩膜、相位转移(Phase Shift)掩膜。无论是现在还是未来,要在芯片上制作更小尺寸器件。
展开更多
关键词
蔡司公司
模拟光刻机
应用
空间影像量测系统
掩膜板
光学
邻近
效应
修正
下载PDF
职称材料
深紫外计算光刻技术研究
被引量:
3
10
作者
陈国栋
张子南
+1 位作者
李思坤
王向朝
《激光与光电子学进展》
CSCD
北大核心
2022年第9期93-111,共19页
光刻机是极大规模集成电路制造的核心装备,深紫外光刻机是用于先进技术节点芯片制造的主流光刻设备。光刻机的成像质量直接影响光刻机性能指标,是光刻机正常工作的前提。作为提高光刻成像质量的重要手段,计算光刻技术在光刻机软硬件不...
光刻机是极大规模集成电路制造的核心装备,深紫外光刻机是用于先进技术节点芯片制造的主流光刻设备。光刻机的成像质量直接影响光刻机性能指标,是光刻机正常工作的前提。作为提高光刻成像质量的重要手段,计算光刻技术在光刻机软硬件不变的条件下,采用数学模型和软件算法对照明光源、掩模图形和工艺参数等进行优化,使目标图形高保真度地成像到硅片上。光刻成像模型是计算光刻技术的基础,成像模型仿真精度和速度的不断提高支撑了计算光刻技术的发展。结合本团队的研究工作,介绍了光刻成像模型的发展,总结了光学邻近效应修正技术、光源掩模优化技术和逆向光刻技术这三种主要计算光刻技术的研究进展。
展开更多
关键词
深紫外光刻
计算光刻
光源掩模优化
光学
邻近
效应
修正
逆向光刻技术
原文传递
电子束光刻研制高分辨X射线波带片透镜最新进展
被引量:
3
11
作者
陈宜方
《光学学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2022年第11期74-88,共15页
首先综述了当前X射线透镜的分辨率和效率的水平,预测并讨论了发展我国波带片透镜、赶超国际先进水平的技术路径图。在原有100 nm分辨率波带片和会聚透镜工艺基础上,综述了电子束光刻结合金电镀进一步发展30~70 nm分辨率的X射线波带片的...
首先综述了当前X射线透镜的分辨率和效率的水平,预测并讨论了发展我国波带片透镜、赶超国际先进水平的技术路径图。在原有100 nm分辨率波带片和会聚透镜工艺基础上,综述了电子束光刻结合金电镀进一步发展30~70 nm分辨率的X射线波带片的最新进展。在研发30 nm分辨率的波带片中,电子束光刻中的邻近效应严重限制了波带高宽比,而现有商业软件(基于蒙特卡罗模型和显影动力学)的邻近效应修正在同时处理从微米到30 nm的各种图形时效果甚微。为此,本团队针对70 nm分辨率的硬X射线波带片采用了图形修正法,实现了20:1的波带高宽比,针对50 nm分辨率的硬X射线波带片采用了分区域修正法,获得了15:1的波带高宽比;30 nm波带片透镜的金属化摒弃了传统的直流电镀工艺,采用脉冲金电镀,实现了金环均匀电沉积,成功研制了30 nm分辨率的软X射线波带片透镜和30~100 nm的大高宽比分辨率测试卡。所有研制的波带片透镜在上海同步辐射装置得到了X射线光学成像验证。
展开更多
关键词
X射线
光学
X射线波带片透镜
X射线显微成像系统
电子束光刻纳米加工
30
nm分辨率
分区域/图形法
邻近
效应
修正
脉冲金电镀工艺
原文传递
题名
先导光刻中的光学邻近效应修正
被引量:
4
1
作者
韦亚一
粟雅娟
刘艳松
机构
中国科学院微电子研究所微电子器件与集成技术重点实验室
出处
《微纳电子技术》
CAS
北大核心
2014年第3期186-193,共8页
基金
国家中长期科技发展规划02科技重大专项(2014ZX02301001-004)
文摘
按照逻辑器件发展的节点顺序,依次论述了各种光学邻近效应修正技术:基于经验的光学邻近效应修正、基于模型的光学邻近效应修正、曝光辅助图形、光源和掩模版的优化、反演光刻技术以及两次曝光技术等。概括了各种技术出现的逻辑技术节点、数据处理流程、修正的表现形式和效果、优势和发展前景等。最后就先导光刻工艺的研发模式(先建立光学和光刻胶模型,再进行"计算光刻"),论证了光刻工艺的研发必须和光学邻近效应修正的数据流程实现互动的观点,即任何光刻工艺参数的变动都会影响到"计算光刻"模型的准确性,需要重新进行修正,以避免原计算可能导致的失败。因此,光学邻近效应修正是先导光刻工艺研发的核心。
关键词
光学
邻近
效应
修正
(
opc
)
辅助图形
计算光刻
光源和掩模版的优化(SMO)
像素式光照
两次曝光技术
Keywords
ptical proximity correction (
opc
)
auxiliary graph
computational lithography
source-mask optimization (SMO)
pixelated illumination
double exposure technology
分类号
TN305.7 [电子电信—物理电子学]
下载PDF
职称材料
题名
光学邻近效应修正技术发展综述及思考
2
作者
柯顺魁
机构
上海华力微电子有限公司
出处
《山东工业技术》
2018年第10期207-207,共1页
文摘
光学邻近修正技术是纳米级晶圆制造的核心,随着晶圆制造工艺上的逻辑器件技术节点的不断缩小,导致光学邻近修正越来越困难。本文对近年来晶圆制造的光学邻近效应技术的发展进行综述,并对逻辑器件技术节点到20nm以下情况下的先进光刻工艺进行深入思考,提出应强化光学邻近修正模型研发在先进光刻工艺研发中的核心地位,加强光学邻近修正技术的研发。
关键词
光学
邻近
效应
修正
(
opc
)
先进光刻
opc
经验学习
分类号
TN305.7 [电子电信—物理电子学]
下载PDF
职称材料
题名
一种离线光学邻近效应匹配方法的研究和仿真
被引量:
1
3
作者
宋之洋
郭沫然
苏晓菁
刘艳松
粟雅娟
韦亚一
机构
中国科学院微电子研究所微电子器件与集成技术重点实验室
出处
《微纳电子技术》
CAS
北大核心
2015年第3期197-203,共7页
基金
国家科技重大专项资助项目(2013ZX02303)
文摘
目前小技术节点的光学邻近效应校正(OPC)过分依赖光刻机与光刻工艺的属性,量产时难以在不同型号光刻机间转移,而国内芯片制造厂光刻机种类繁杂,不可避免地需要解决工艺转移的问题。针对上述问题,以不同光刻机间的光学邻近效应匹配为研究对象,阐述了匹配的原理及流程,提出了一种利用常用的OPC建模工具实现离线匹配的方法,模拟分析了该方法对成像误差的补偿效果,揭示了不同性质的误差对成像性能的影响规律,验证了该方法的正确性,为不同光刻机间的工艺转移提供了新的思路。
关键词
光刻
计算光刻
光学
邻近
效应
校正(
opc
)
光学
邻近
效应
匹配
工艺窗口控制
Keywords
lithography
computational lithography
optical proximity correction (
opc
)
opticalproximity matching
process window control
分类号
TN305.7 [电子电信—物理电子学]
下载PDF
职称材料
题名
用在可制造性设计中的光刻规则检查
被引量:
1
4
作者
陆梅君
金晓亮
毛智彪
梁强
机构
上海宏力半导体制造有限公司
出处
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
2006年第12期920-923,共4页
基金
上海浦东新区专项基金项目(PKJ2004-58)
文摘
可制造性设计(DFM)已经发展成为优化通晓制造技术设计中的有效工具,它包含从理论、规则到工具的整体应用来提升从设计到硅片的流程。基于制程模型的光刻规则检查(LRC),可查出没被设计规则检查(DRC)出来的设计布局的不足之处。本设计把光刻规则检查加入到设计流程中,用来优化设计规则,改善布局更有利光学邻近效应修正,使布局图形有更大的制程窗口。
关键词
可制造性设计
光刻规则检查
光学
邻近
效应
修正
设计规则
制程窗口
Keywords
DFM
litho-rule checking
opc
design rule
process window
分类号
TN305.7 [电子电信—物理电子学]
下载PDF
职称材料
题名
亚分辨率辅助图形对28纳米密集线条光刻成像的影响
被引量:
1
5
作者
陈权
段力
毛智彪
机构
上海交通大学
上海华力微电子有限公司
出处
《中国集成电路》
2016年第5期53-58,共6页
文摘
亚分辨率辅助图形(Sub-Resolution-Assist-Feature,SRAF)是光刻工艺图形增强技术(Resolution Enhancement Technology,RET)中广泛应用的一种方法。本文设计实验在密集图形(线宽/距离比约1:1)外侧放置不同的SRAF,研究了SRAF对于密集图形内部线条成像的影响,通过实验数据总结和理论分析,提出了最佳的SRAF放置位置。此外,本文还设计了一种与设计图形线宽一样大小的SRAF,并比较了其与传统尺寸SRAF对密集图形内侧线条成像的影响。
关键词
亚分辨率辅助图形
SRAF
光学
邻近
效应
修正
opc
分辨率
Keywords
Sub-Resolution-Assist-Feature
SRAF
opc
Optical Proximity Correction
Resolution
分类号
TN305.7 [电子电信—物理电子学]
下载PDF
职称材料
题名
一种新型双重图形技术拆分方法
6
作者
于丽贤
粟雅娟
韦亚一
机构
中国科学院微电子研究所微电子器件与集成技术重点实验室
出处
《微纳电子技术》
北大核心
2016年第4期259-264,共6页
基金
中国科学院微电子器件与集成技术重点实验室课题基金资助项目
国家科技重大专项资助项目(2013ZX02303)
国家自然科学基金青年科学基金资助项目(61504161)
文摘
基于奇数周期理论,提出一种新型快速高效率的双重图形技术(DPT)拆分方法。对于图形拆分过程中遇到的剩余违规冲突问题,分析其存在的原因,阐述了已知解决途径;基于奇数周期理论,详细阐述了新型图形拆分方法的实现步骤,该方法主要适用于未在设计阶段考虑兼容DPT的设计版图,能够对版图顺利完成包含更改设计和引入切割的图形拆分过程;采用新方法拆分实际版图,进一步证明了该方法能够同时减少剩余冲突和引入切割数目;采用EDA工具模拟了拆分之后进行光源掩膜优化(SMO)和光学临近效应修正(OPC)的光刻分辨率增强流程,验证了DPT能够提高分辨率、增大光刻工艺窗口。
关键词
光刻
双重图形技术(DPT)
图形拆分
光学
临近
效应
修正
(
opc
)
奇数周期
Keywords
lithography
double patterning technology(DPT)
layout decomposition
optical proximity correction(
opc
)
odd cycle
分类号
TN305.7 [电子电信—物理电子学]
下载PDF
职称材料
题名
后摩尔时代集成电路制造发展趋势以及我国集成电路产业现状
被引量:
15
7
作者
康劲
吴汉明
汪涵
机构
北方集成电路技术创新中心(北京)有限公司
芯创智(北京)微电子有限公司
出处
《微纳电子与智能制造》
2019年第1期57-64,共8页
文摘
集成电路是将电子元件依照电路互连",集成"在晶片上,实现特定功能的电路系统。在当代,集成电路已渗透到社会发展的各个领域,是信息产业高速发展的基础和动力。在经济结构调整中,集成电路产业的战略性、先导性地位凸显,有望从根本上对制造业进行改造,在完成产业升级同时满足国家信息安全的需要。随着需求的不断提升,未来的集成电路需兼具低功耗、小尺寸、高性能等综合素质,传统工艺的改进已不足以满足这些要求。为此,集成电路制造业必须拓展相应制造技术以顺应新的发展趋势。我国集成电路产业近20年来取得了显著发展,总结了国内集成电路产业的发展历程及现状,并对未来发展进行了展望。
关键词
摩尔定律
光学
邻近
效应
修正
鳍式场
效应
晶体管
良率提升
集成电路产业链
晶圆代工
集成电路专用设备
集成电路材料
Keywords
Moore’s law
optical proximity correction
fin field effect transistor
yield improvement
integrated circuit industry chain
wafer foundry
integrated circuit special equipment
integrated circuit materials
分类号
F426.6 [经济管理—产业经济]
TN40 [电子电信—微电子学与固体电子学]
下载PDF
职称材料
题名
集成电路掩模分辨率增强技术
被引量:
1
8
作者
华卫群
周家万
尤春
机构
无锡中微掩模电子有限公司
出处
《电子与封装》
2020年第11期64-67,共4页
文摘
随着大规模集成电路技术的飞速发展,掩模分辨率增强技术变得越来越重要。介绍了掩模分辨率增强技术中的相移掩模技术、光学邻近效应修正技术和光源掩模协同优化技术,重点介绍了3种技术的作用和具体做法。
关键词
掩模
分辨率增强技术
相移掩模
光学
邻近
效应
修正
光源掩模协同优化
Keywords
mask
resolution enhancement technology
PSM
opc
SMO
分类号
TN305.7 [电子电信—物理电子学]
下载PDF
职称材料
题名
蔡司模拟光刻机的应用
9
作者
张顺勇
出处
《集成电路应用》
2003年第6期76-77,共2页
文摘
随着半导体微电子技术的发展与进步,集成度不断提高,器件的特征尺寸不断缩小。相应的集成电路制造用掩膜板(Reticle/Mask)也变得越来越复杂,象现在正逐渐广泛应用的光学邻近效应修正(OPC)掩膜、相位转移(Phase Shift)掩膜。无论是现在还是未来,要在芯片上制作更小尺寸器件。
关键词
蔡司公司
模拟光刻机
应用
空间影像量测系统
掩膜板
光学
邻近
效应
修正
分类号
TN305.7 [电子电信—物理电子学]
下载PDF
职称材料
题名
深紫外计算光刻技术研究
被引量:
3
10
作者
陈国栋
张子南
李思坤
王向朝
机构
中国科学院上海光学精密机械研究所信息光学与光电技术实验室
中国科学院大学材料与光电研究中心
出处
《激光与光电子学进展》
CSCD
北大核心
2022年第9期93-111,共19页
基金
国家02科技重大专项(2017ZX02101004-002,2017ZX02101004)
上海市自然科学基金(17ZR1434100)。
文摘
光刻机是极大规模集成电路制造的核心装备,深紫外光刻机是用于先进技术节点芯片制造的主流光刻设备。光刻机的成像质量直接影响光刻机性能指标,是光刻机正常工作的前提。作为提高光刻成像质量的重要手段,计算光刻技术在光刻机软硬件不变的条件下,采用数学模型和软件算法对照明光源、掩模图形和工艺参数等进行优化,使目标图形高保真度地成像到硅片上。光刻成像模型是计算光刻技术的基础,成像模型仿真精度和速度的不断提高支撑了计算光刻技术的发展。结合本团队的研究工作,介绍了光刻成像模型的发展,总结了光学邻近效应修正技术、光源掩模优化技术和逆向光刻技术这三种主要计算光刻技术的研究进展。
关键词
深紫外光刻
计算光刻
光源掩模优化
光学
邻近
效应
修正
逆向光刻技术
Keywords
deep ultraviolet lithography
computational lithography
source mask optimization
optical proximity effect correction
inverse lithography technology
分类号
O436 [机械工程—光学工程]
原文传递
题名
电子束光刻研制高分辨X射线波带片透镜最新进展
被引量:
3
11
作者
陈宜方
机构
复旦大学信息科学与工程学院
出处
《光学学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2022年第11期74-88,共15页
基金
上海市科创仪器项目(STCSM2019-11-20,19142202700)
自然科学基金联合基金(U1732104)
国家重大科研仪器研制项目(61927820)。
文摘
首先综述了当前X射线透镜的分辨率和效率的水平,预测并讨论了发展我国波带片透镜、赶超国际先进水平的技术路径图。在原有100 nm分辨率波带片和会聚透镜工艺基础上,综述了电子束光刻结合金电镀进一步发展30~70 nm分辨率的X射线波带片的最新进展。在研发30 nm分辨率的波带片中,电子束光刻中的邻近效应严重限制了波带高宽比,而现有商业软件(基于蒙特卡罗模型和显影动力学)的邻近效应修正在同时处理从微米到30 nm的各种图形时效果甚微。为此,本团队针对70 nm分辨率的硬X射线波带片采用了图形修正法,实现了20:1的波带高宽比,针对50 nm分辨率的硬X射线波带片采用了分区域修正法,获得了15:1的波带高宽比;30 nm波带片透镜的金属化摒弃了传统的直流电镀工艺,采用脉冲金电镀,实现了金环均匀电沉积,成功研制了30 nm分辨率的软X射线波带片透镜和30~100 nm的大高宽比分辨率测试卡。所有研制的波带片透镜在上海同步辐射装置得到了X射线光学成像验证。
关键词
X射线
光学
X射线波带片透镜
X射线显微成像系统
电子束光刻纳米加工
30
nm分辨率
分区域/图形法
邻近
效应
修正
脉冲金电镀工艺
Keywords
X-ray optics
X-ray zone plate lens
X-ray microscopic imaging system
nanofabrication by electron beam lithography
30 nm resolution
local/pattern proximity effect correction
pulsed Au electroplating
分类号
O436 [机械工程—光学工程]
原文传递
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
先导光刻中的光学邻近效应修正
韦亚一
粟雅娟
刘艳松
《微纳电子技术》
CAS
北大核心
2014
4
下载PDF
职称材料
2
光学邻近效应修正技术发展综述及思考
柯顺魁
《山东工业技术》
2018
0
下载PDF
职称材料
3
一种离线光学邻近效应匹配方法的研究和仿真
宋之洋
郭沫然
苏晓菁
刘艳松
粟雅娟
韦亚一
《微纳电子技术》
CAS
北大核心
2015
1
下载PDF
职称材料
4
用在可制造性设计中的光刻规则检查
陆梅君
金晓亮
毛智彪
梁强
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
2006
1
下载PDF
职称材料
5
亚分辨率辅助图形对28纳米密集线条光刻成像的影响
陈权
段力
毛智彪
《中国集成电路》
2016
1
下载PDF
职称材料
6
一种新型双重图形技术拆分方法
于丽贤
粟雅娟
韦亚一
《微纳电子技术》
北大核心
2016
0
下载PDF
职称材料
7
后摩尔时代集成电路制造发展趋势以及我国集成电路产业现状
康劲
吴汉明
汪涵
《微纳电子与智能制造》
2019
15
下载PDF
职称材料
8
集成电路掩模分辨率增强技术
华卫群
周家万
尤春
《电子与封装》
2020
1
下载PDF
职称材料
9
蔡司模拟光刻机的应用
张顺勇
《集成电路应用》
2003
0
下载PDF
职称材料
10
深紫外计算光刻技术研究
陈国栋
张子南
李思坤
王向朝
《激光与光电子学进展》
CSCD
北大核心
2022
3
原文传递
11
电子束光刻研制高分辨X射线波带片透镜最新进展
陈宜方
《光学学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2022
3
原文传递
已选择
0
条
导出题录
引用分析
参考文献
引证文献
统计分析
检索结果
已选文献
上一页
1
下一页
到第
页
确定
用户登录
登录
IP登录
使用帮助
返回顶部