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红外硒基硫系玻璃光学非均匀性及影响因素分析 被引量:10
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作者 宋宝安 王乔方 +7 位作者 张莹昭 戴世勋 徐铁锋 聂秋华 王训四 沈祥 吴礼刚 林常规 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2012年第8期1985-1989,共5页
针对Ge-Sb-Se硫系玻璃光学非均匀性(内部条纹、裂纹、气泡、均匀性等)检测与表征的困难,提出了一种利用样品的近红外透射图像、及中红外线扩散函数和调制传递函数(MTF)并举表征其光学非均匀性的新方法,并建立了相应的检测装置。在此基础... 针对Ge-Sb-Se硫系玻璃光学非均匀性(内部条纹、裂纹、气泡、均匀性等)检测与表征的困难,提出了一种利用样品的近红外透射图像、及中红外线扩散函数和调制传递函数(MTF)并举表征其光学非均匀性的新方法,并建立了相应的检测装置。在此基础上,对自制的Ge28Sb12Se60(mol%)硫系玻璃样品进行了内部缺陷和光学均匀性测试,并比较分析了样品平面度与平行度对实验结果的影响。结果表明,近红外透射成像能清晰地检测到样品内部的条纹分布和缺陷;中红外线扩散函数和MTF可半定量地表征样品的光学非均匀特性;当表面光圈小于1时,均匀Ge-Sb-Se硫系玻璃样片的线扩散函数呈高斯分布,MTF实验值与理论值相近且平均值相差小于10%。 展开更多
关键词 光学非均匀性 硫系玻璃 红外材料 MTF
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干涉法测量光学材料光学非均匀性 被引量:2
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作者 刘旭 任寰 +2 位作者 于德强 杨一 郑芳兰 《激光技术》 CAS CSCD 北大核心 2011年第2期189-192,共4页
为了实现光学材料光学非均匀性的高精度检测,采用将光学材料制成一小楔角(小于0.117°)光学元件并利用菲索干涉法检测其光学非均匀性的方法,对测量过程进行了理论仿真分析和熔石英材料光学非均匀性的实验验证,取得了熔石英材料的光... 为了实现光学材料光学非均匀性的高精度检测,采用将光学材料制成一小楔角(小于0.117°)光学元件并利用菲索干涉法检测其光学非均匀性的方法,对测量过程进行了理论仿真分析和熔石英材料光学非均匀性的实验验证,取得了熔石英材料的光学非均匀性数据,峰谷值为4.33×10^(-6),均方根值为0.862×10^(-6),测量准确度优于4.8×10^(-7)。结果表明,该测量方法能有效避免目前检测方法中将光学材料制成平板元件而引起干涉混叠的现象。 展开更多
关键词 测量与计量 干涉测量 光学非均匀性 计算机仿真 高功率激光系统
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基于神经网络的红外焦平面光学非均匀性校正改进算法 被引量:7
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作者 李谦 杨波 +3 位作者 粟宇路 樊佩琦 刘传明 苏俊波 《红外技术》 CSCD 北大核心 2019年第3期251-255,共5页
基于场景的非均匀校正依然是红外领域的一个研究热门。神经网络算法是一种较为典型的场景校正算法。本文主要针对神经网络算法本身不能校正光学引入的非均匀性问题,提出了新的改进算法,通过对神经网络输入层的预处理,消除图像的低频噪声... 基于场景的非均匀校正依然是红外领域的一个研究热门。神经网络算法是一种较为典型的场景校正算法。本文主要针对神经网络算法本身不能校正光学引入的非均匀性问题,提出了新的改进算法,通过对神经网络输入层的预处理,消除图像的低频噪声,此外,为了消除预处理对图像对比度的影响,本文增加了神经网络的层数,使用双层神经网络对算法进行更新,从而消除了图像对比度下降的现象。实验结果表明,改进的神经网络算法能够有效的改善图像质量,消除图像中光学引入的非均匀性。 展开更多
关键词 均匀校正 光学非均匀性 直方图均衡化
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Contact stress non-uniformity of wafer surface for multi-zone chemical mechanical polishing process 被引量:3
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作者 WANG TongQing LU XinChun +1 位作者 ZHAO DeWen HE YongYong 《Science China(Technological Sciences)》 SCIE EI CAS 2013年第8期1974-1979,共6页
A finite element analysis(FEA)model is developed for the chemical-mechanical polishing(CMP)process on the basis of a 12-in five-zone polishing head.The proposed FEA model shows that the contact stress non-uniformity i... A finite element analysis(FEA)model is developed for the chemical-mechanical polishing(CMP)process on the basis of a 12-in five-zone polishing head.The proposed FEA model shows that the contact stress non-uniformity is less dependent on the material property of the membrane and the geometry of the retaining ring.The larger the elastic modulus of the pad,the larger contact stress non-uniformity of the wafer.The applied loads on retaining ring and zone of the polishing head significantly affect the contact stress distribution.The stress adjustment ability of a zone depends on its position.In particular,the inner-side zone has a high stress adjustment ability,whereas the outer-side zone has a low stress adjustment ability.The predicted results by the model are shown to be consistent with the experimental data.Analysis results have revealed some insights regarding the performance of the multi-zone CMP. 展开更多
关键词 chemical mechanical polishing contact stress NON-UNIFORMITY multi-zone polishing head retaining ring
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