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基于透反式二维绝对零位光栅的光刻对准技术 被引量：3
1
作者 叶锡标 周成刚 +1 位作者 张阳 黄文浩 《中国科学技术大学学报》 CAS CSCD 北大核心 2007年第3期264-267,共4页
在二维零位光栅原理的基础上提出了一种透反式二维零位光栅系统,从理论上分析了系统的可行性,并进行了对准性能的试验.实验数据表明透反式光栅系统比一般的光刻对准技术的对比度更强,判别零位的性能更好.该系统作为一种新型的掩模-硅片... 在二维零位光栅原理的基础上提出了一种透反式二维零位光栅系统,从理论上分析了系统的可行性,并进行了对准性能的试验.实验数据表明透反式光栅系统比一般的光刻对准技术的对比度更强,判别零位的性能更好.该系统作为一种新型的掩模-硅片对准技术,应用于光刻机中可获得优于20 nm的定位对准精度. 展开更多
关键词 透反式二维零位光栅 光刻对准技术 光强信号对比度 对准精度
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