浅谈光成像抗蚀抗电镀油墨（湿膜）的曝光

本文叙述了光成像抗蚀抗电镀油墨近几年来在不同领域的扩大应用和在使用中，对光源的选择、如何进行合理曝光、在曝光中相关工序的影响及光源和设备的发展前景。

光成像抗蚀抗电镀油墨的应用工艺

介绍了光成像抗蚀抗电镀油墨的使用、工艺流程及操作方法,并提出了各工序中容易出现的问题及预防的办法。

光成像抗蚀抗电镀油墨(湿膜)应用中的几个问题

用于标牌、面板、金属画、电路板和一些装饰性的旅游纪念卡、牌的掩膜,经过近两年时间,就将含六价铬、污染严重的骨胶系列的掩膜抛弃,换来了全新的、无污染的、耐蚀刻。

一种新型掩膜材料——光成像抗蚀抗电镀油墨

光成像抗蚀抗电镀油墨简称湿膜,是世界上80年代末的新产品,我国于1992年开始研制,现已经批量生产。随着电子工业和装饰业的迅速发展,其应用范围不断扩大,销售量也在不断增加。 在应用领域中湿膜在印制板的行业用量最大,多用于单面板、多层板的内层掩膜和有金属化孔双面印制板的抗电镀掩膜。

液态感光成像抗电镀、抗蚀刻油墨应用

90年代以来,液态感光成像抗电镀、抗蚀刻油墨(又称湿膜)发展很快,目前有数十个品种在市场流动。为了使广大应用者较好地掌握这种油墨的特性,现将该油墨的有关技术性能介绍如下,以供参考。

液态感光抗蚀抗电镀油墨(一)

近几年来液态感光抗蚀抗电镀油墨不仅应用于电路板行业,而且广泛应用于标牌、阐述了光源和曝光设备的选择、湿膜厚度的几个因素进行了说明。摘要 近几年来液态感光抗蚀抗电镀油墨不仅应用于电路板行业,而且广泛应用于标牌、面板、模具制作等许多领域。详细阐述了光源和曝光设备的选择、光能量的测算方法,同时对影响湿膜厚度的几个因素进行了说明。最后分析了光源和曝光设备的发展前景。

液态光致抗蚀油墨的研究

随着印制电路板 (PCB)行业的飞速发展 ,液态光致抗蚀油墨已逐渐成为精细导线图形制作的主要方法。综述了液态光致抗蚀油墨的组成。

印制板用光成像耐电镀抗蚀剂的国家标准

中国国家标准公告2013年第22号，发布了笔者起草编写的“印制板用光成像耐电镀抗蚀齐 Photoimaaeable Platina and Etchina Resist Paste of Printed Circuit Board”，标准号为GB／T29846-2013，发布日期为2013年11月12日，实施日期为2014年4月15日。

装饰感光抗蚀抗电镀油墨的应用

（接上期）油墨的干燥处理，根据不同的材料和厚度，干燥温度不应超过120℃，厚度小于0．02mm时，温度应控制在80℃左右。

装饰感光抗蚀抗电镀油墨的应用

本文针对装饰感光抗蚀抗电镀油墨的应用进行探讨,选择不同的几种生产实例和读者分享。

自干型液态感光抗蚀耐电镀油墨

液态感光抗蚀油墨LPR-812广泛应用于精密金属图形的蚀刻，具有分辨率高、耐腐蚀性强的特点，但目前市场上所售感光抗蚀油墨，均需在70～90℃热风循环烘箱中预烘干30～50min，表面干燥后才能进行感光、显影，对于双面板，

新型抗蚀耐电镀油墨的性能与应用

根据市场需求，经过一段时间的研制调试，无锡市化工研究设计院成功生产出一种新型抗蚀耐电镀油墨，已得到用户的认可和应用，它是一种耐酸性抗蚀油墨，

光致抗蚀干膜的现状及前景

本世纪七十年代,电子工业跨入大规模的集成电路时代,图形电镀蚀刻工艺生产的双面孔金属化印制电路板和多层印制电路板得到迅速发展。而抗蚀干膜的发明,对于印制线路板的制备有着突出的优越性,以致完全取代了传统的制作工艺。从而对电子计算机、通讯设备、仪器仪表等的发展起到推波助澜的作用,现几乎所有的电器,包括日用电器都用此工艺。 光致抗蚀干膜(Dry Film Photore-sist)首先由杜邦公司于1954年推出;

高支化碱溶性丙烯酸化聚酯光刻胶的性能及成像性研究

将高支化碱溶性丙烯酸化聚酯用于光致抗蚀剂,因其独特的三维结构而具有的低粘度,高活性使抗蚀剂膜收缩率小,而具有良好的成像显影性。通过控制合适的树脂酸值及成像显影条件,可得到良好断面的图像,并且抗蚀剂线条图分辨率可达～1μm。当光源分别为平行光和点光源时图像清晰程度不一样:平行光比点光源好。

光成像抗电镀／抗蚀刻油墨的生产开发

随着印制电路板行业的飞速发展．液态光致抗电镀／抗蚀刻油墨已遂渐成为精细导线图形制作的主要方法。综述了液态光致抗蚀刻／抗电镀油墨的组成、特性以及目前在我单位的发展情况。