基于准分子激光的X光掩膜板与压电陶瓷加工

随着元器件的微型化、精密化发展,对快速微细加工提出了巨大需求。基于准分子激光微细加工技术,以串行加工方式加工了X光掩膜板图形结构和压电陶瓷(PZT)微结构。研究了波长为248 nm KrF准分子激光微细加工技术的最优加工条件,获得了高质量的X光光刻用的掩膜板和PZT微结构。基于X光掩膜板,采用聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)为光刻胶进行X光光刻,获得了高深宽比的六角形蜂窝微结构。通过输入不同的加工参数来激光加工PZT基板,获得了加工参数与PZT基板加工深度的关系。通过对加工好的PZT微结构和六角形蜂窝微结构的测试,结果表明利用准分子激光器可实现快速微细加工的目的。

光掩膜石英玻璃基板的制造工艺概述

光掩膜石英玻璃基板是光掩膜技术中的上游产品,广泛应用于半导体和光学等领域。随着半导体器件的集成化发展,对光掩膜石英玻璃基板的技术要求也越来越高。为满足市场需求,光掩膜石英玻璃基板的制造工艺也在不断改进,包括材料石英锭的熔制、热加工和冷加工等工艺。本文对光掩膜石英玻璃基板主要的制造工艺作出探究,提出一套石英玻璃基板的生产工艺流程。该工艺流程在实际中验证了可行性,可以为光掩膜石英玻璃基板的生产与研制提供借鉴。

石英玻璃在光刻技术中的应用

本文综述了集成电路制造中的关键技术—光刻的传统及现代的主流技术。从超微细图形刻印的特征尺寸发展路线图,阐述了不同特征尺寸应采用的光刻曝光波长,以及不同曝光波长下应采用的石英玻璃光掩膜基板材料。