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香豆素类光敏基团对脱氧核苷5′-羟基的选择性保护
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作者 董连强 马星光 孙亚伟 《合成化学》 CAS 2024年第1期22-30,共9页
以香豆素类化合物作为光可降解保护基,探究了香豆素类化合物对脱氧核苷中5′-位羟基的保护和脱保护性能,为在传统核酸合成中使用光脱保护替代酸脱保护做了前期工作。选择可在紫外及蓝光波段区间进行光化学反应的7-二乙胺基-4-羟甲基香... 以香豆素类化合物作为光可降解保护基,探究了香豆素类化合物对脱氧核苷中5′-位羟基的保护和脱保护性能,为在传统核酸合成中使用光脱保护替代酸脱保护做了前期工作。选择可在紫外及蓝光波段区间进行光化学反应的7-二乙胺基-4-羟甲基香豆素类化合物作为保护基团,并以碳酸酯的形式连接在N-4-乙酰基脱氧胞苷的5′-羟基上,考察该化合物在紫外和蓝光光照下的光化学性质,为构建光调节DNA合成进行前期研究并奠定良好基础。 展开更多
关键词 可降解 香豆素 核苷 可见响应 光敏单元合成 DNA合成
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