一种巯基酯类光敏胶单体的合成及其性能研究

以三羟甲基丙烷(TMP)、3-巯基丙酸为主要原料,采用酯化反应法合成了一种重要的巯基酯类光敏性单体TMPMP[三羟甲基丙烷三(3-巯基丙酸酯)]。通过单因素试验法优选出合成TMPMP的最佳工艺条件,并采用红外光谱(FT-IR)法、核磁共振氢谱(1H-NMR)法和元素分析法等对TMPMP结构进行了表征。结果表明:当m(TMP)=6.71 g、m(3-巯基丙酸)=19.10 g、m(催化剂对甲苯磺酸)=0.59 g、V(携水剂甲苯)=40 mL和反应时间为1.5 h时,产物酯化率为98.6%,收率为79.6%;以TMPMP作为UV固化胶的光敏性单体,以三羟甲基丙烷三丙烯酸酯(TMPTA)为主要原料,制成的巯基/烯烃UV固化胶具有良好的固化性能及耐热性能,满足光学领域的应用要求。

光敏性梳状共聚物膜的制备及其表面形貌调控

利用肉桂酰氯（CC）与ε-己内酯改性甲基丙烯酸酯（FMn）的酰基化反应制得了光敏性单体（FMnC,n=1~3）,使其与聚乙二醇甲基丙烯酸酯（MAPEG）大分子单体和苯乙烯（St）进行自由基共聚,合成了具有梳状结构的光敏性三元共聚物（PFMnS）。通过傅里叶变换红外光谱（FT-IR）、核磁共振（1HNMR）、凝胶渗透色谱（GPC）、差示扫描量热仪（DSC）和紫外可见光谱（UV-Vis）对产物结构及性能进行了表征。采用溶剂挥发法将PFMnS制备成膜,经紫外光照后膜表面的疏水性增强;成膜时改变溶剂类型和加入量,可调控膜的浸润性及表面形貌;同时制得的共聚物膜具有一定的降解性。