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Zn∶In∶LiNbO_3晶体抗光损伤性能的研究
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作者 周玉祥 周德瑞 +1 位作者 徐朝鹏 王锐 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第3期247-251,共5页
在LiNbO3 中掺进ZnO和In2 O3 以Czochralski技术生长Zn∶In∶LiNbO3 晶体。采用光斑畸变法测试Zn∶In∶LiNbO3晶体抗光损伤能力。Zn∶In∶LiNbO3 晶体抗光损伤能力比LiNbO3 晶体提高二个数量级。测试晶体的红外光谱 ,Zn∶In∶LiNbO3 晶... 在LiNbO3 中掺进ZnO和In2 O3 以Czochralski技术生长Zn∶In∶LiNbO3 晶体。采用光斑畸变法测试Zn∶In∶LiNbO3晶体抗光损伤能力。Zn∶In∶LiNbO3 晶体抗光损伤能力比LiNbO3 晶体提高二个数量级。测试晶体的红外光谱 ,Zn∶In∶LiNbO3 晶体吸收峰的位置相对LiNbO3 晶体发生紫移 ,且随着Zn2 + 和In3 + 浓度增加紫移程度增加。晶体的倍频性能(相位匹配温度和倍频转换效率 )研究表明 :Zn∶In∶LiNbO3 晶体相位匹配温度在室温附近。并研究了Zn∶In∶LiNbO3晶体抗光损伤机理和OH-吸收峰紫移的机理。 展开更多
关键词 Zn:In:LiNbO3晶体 抗光损伤性能 倍频性能 光斑畸变法
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