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一维0.18μm CMOS光电二极管量子效率的研究与模拟
被引量:
1
1
作者
颜永红
汪立
《电子器件》
CAS
2008年第4期1073-1076,共4页
为了建立更精确的CMOS光电二极管SPICE模型,使之在像素电路模拟中能够更好地反映实际的光电转换物理现象。使用连续性方程和不同的边界条件对CMOS光电二极管建立了一维物理模型,然后代入普通CMOS0.18工艺参数在温度为300K、反偏电压为2...
为了建立更精确的CMOS光电二极管SPICE模型,使之在像素电路模拟中能够更好地反映实际的光电转换物理现象。使用连续性方程和不同的边界条件对CMOS光电二极管建立了一维物理模型,然后代入普通CMOS0.18工艺参数在温度为300K、反偏电压为2.2V时,对N-diff/P-epi,N-well/P-epi两种结构的二极管量子效率进行了模拟。其中考虑了表面复合速率、外延层厚度、P+衬底与P外延同质结等因素对模拟结果的影响。在此基础上,还对CMOS光栅二极管的量子效率进行了计算。模拟结果符合这些器件已知的特性。
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关键词
CMOS
光电
二极管
光栅二极管
量子效率
数值模拟
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职称材料
题名
一维0.18μm CMOS光电二极管量子效率的研究与模拟
被引量:
1
1
作者
颜永红
汪立
机构
湖南大学物理与微电子科学学院
出处
《电子器件》
CAS
2008年第4期1073-1076,共4页
文摘
为了建立更精确的CMOS光电二极管SPICE模型,使之在像素电路模拟中能够更好地反映实际的光电转换物理现象。使用连续性方程和不同的边界条件对CMOS光电二极管建立了一维物理模型,然后代入普通CMOS0.18工艺参数在温度为300K、反偏电压为2.2V时,对N-diff/P-epi,N-well/P-epi两种结构的二极管量子效率进行了模拟。其中考虑了表面复合速率、外延层厚度、P+衬底与P外延同质结等因素对模拟结果的影响。在此基础上,还对CMOS光栅二极管的量子效率进行了计算。模拟结果符合这些器件已知的特性。
关键词
CMOS
光电
二极管
光栅二极管
量子效率
数值模拟
Keywords
CMOS
photodiode
photogate
quantum efficiency
numerical simulation
分类号
TN43 [电子电信—微电子学与固体电子学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
一维0.18μm CMOS光电二极管量子效率的研究与模拟
颜永红
汪立
《电子器件》
CAS
2008
1
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