高校课程主导-主体式教学模式改革探索--以光电图像处理课程为例

根据教育部打造“金课”的要求,光电图像处理课程教研组做了以教师为主导、学生为学习主体的课程教学模式改革:通过精选具有前沿性、工程性的教学内容激发学生的学习兴趣,采用教师引导性教学激励学生主动思考,利用多次渐进式实践训练锻炼学生的综合能力,采用综合教学评价体系评估学生学习效果和教师教学质量,最终打造出一门既可使学生掌握知识技能又可使学生掌握学习方法的光电图像处理“金课”。文章论述了光电图像处理课程教学改革的目标、思路及内容。

基于DSP实验平台的“光电图像处理”课程探索

本文探讨"光电图像处理"课程的新教学模式,将数字信号处理DSP实验平台引入光电图像处理课堂,由演示实验导出课程的知识点,设计图像处理算法,并且与现实生活中的应用相联系,从而引导学生进行创造性思维。实践表明,这种教改有利于学生理论知识的学习,培养学生的创新能力。

以应用为引导的教学在光电图像处理中的应用

全日制工程专业硕士研究生的培养是我国研究生教育发展的一项重要改革,此项改革旨在培养有一定工程实践能力的高层次人才,因此改革涉及培养目标,教学计划,实践能力及学位论文等方面。天津大学在光学工程专业硕士学位研究生的培养方面进行了探索,以该专业的必修课程改革为例,将工程实践能力的培养与课程讲授相结合,采用以应用实例为引导的翻转课堂教育模式,增加学生在实验及实践过程中的学习能力,满足了课程改革和培养目标的要求。

研究性教学模式在光电图像处理课程教学中的应用

本文深入探讨了研究性教学模式的内涵和特性,介绍了研究性教学在光电图像处理教学改革中的应用。实践表明,开放研究性实验不仅使学生对课程的基本概念有了深刻理解,锻炼了学生的动手能力,还培养了学生的创新思维及独立分析解决实践问题的能力。

基于CDIO的光电图像处理课程教学改革探索

通过对光电图像处理课程教学现状的分析,探索改变教学现状的方法和途径。基于CDIO工程教育理念,将"做中学"和"基于项目的教学"引入到课程教学中来,使整个课程教学组织围绕着项目进行,从课堂理论教学、项目教学设计与实施、数字化教学平台建设、课程考核方式等方面进行了改革与探索。

应用型本科课程考核模式改革研究——以光电图像处理为例

作为不可或缺的教学环节和教学手段,课程考核是改进教学工作的重要依据,可有效检验教学效果,确保课程的教学质量契合专业人才培养目标的要求。随着高等教育的不断发展,传统考核方式不断暴露出诸多的问题,本文以光电图像处理课程为例,探究课程考核模式改革对课程教学改革的推进效果,为应用型本科提升人才培养质量提高参考。

光电CT垂线自动监测的图像处理

根据光电ＣＴ理论和ＣＣＤ传感技术研制的垂线自动观测仪的工作原理，研究由投影重建图像的方法。在数字信号处理中，结合垂线的特点，讨论镜射、延拓、相关处理信息提取技术。研究阵列光源精确标定的原理和方法。

基于双CPU的实时光电图像识别系统

提出并设计一种新型的基于双CPU技术的光电图像识别系统,该系统主要由目标图像采集与处理模块、光电相关联合变换模块以及自动识别模块组成。采用TMS320C6416与FPGA完成目标图像的采集与处理,采用ARM9处理器S3C2440完成对相关功率谱的采集与目标图像识别。与传统光电图像识别系统相比,该系统实时性和精度更高,并可实现智能化和网络化。

光电混合运动目标实时自动识别定位及跟踪

采用光学相关、人工神经网络算法和空域执行的综合鉴别滤波器相结合的光电混合图象处理技术 ,对三维运动目标 (模型 )进行实时识别与跟踪 .实验结果显示 :在强背景噪声干扰下 ,目标的识别速率最大可达到 16次 /s;定位精度优于± 1个象素 ;正确识别率超过 95 % .实现了在强背景噪声干扰下三维运动目标的实时畸变不变高可靠性的自动识别与精确定位 。

空间光通信捕获与跟踪技术

空间光通信系统中,要在收信端与发信端之间快速建立通信链路,并在通信过程中维持链路的稳定与可靠,捕获,跟踪与对准技术——ATP(AcquisitionTrackingandPointing)技术至关重要。通过焦平面探测器阵列CCD(Charge-CoupledDevice)采集光学信号的图像,利用灰度直方图的性质推导出捕获判决条件,采用光电图象处理算法进行图像的二值化处理,根据质心公式计算光信号的空间坐标,得到的结果作为控制参数,再由控制装置进行收发双方的对准,并通过实验验证了捕获与跟踪的原理,实现了信标光的捕获与跟踪。

Marathon MM红外测温仪应用研究

通过研究红外检测原理,把Marathon MM红外测温仪用于PCB检测诊断中。在此,重点介绍系统硬件接口原理和软件控制设计。该系统具有抗干扰能力强,非接触,响应速度快等优点。

一切一目了然

采用光电图像处理系统结合使用特殊的成像技术,可以自动检测螺钉切面的质量。这种 光电方法可以用于许多的质量保证和过程监控领域中。

计算光刻研究及进展

光刻是将集成电路器件的结构图形从掩模转移到硅片或其他半导体基片表面上的工艺过程,是实现高端芯片量产的关键技术。在摩尔定律的推动下,光刻技术跨越了90~7 nm及以下的多个工艺节点,逐步逼近其分辨率的物理极限。同时,光刻系统的衍射受限特性,以及各类系统像差、误差和工艺偏差,都会严重影响光刻成像精度。此时,必须采用计算光刻技术来提高光刻成像分辨率和图形保真度。计算光刻是涉及光学、半导体技术、计算科学、图像与信号处理、材料科学、信息学等多个专业的交叉研究领域。它以光学成像和工艺建模为基础,采用数学方法对光刻成像过程进行全链路的仿真与优化,实现成像误差的高精度补偿,能够有效提升工艺窗口和芯片制造良率,降低光刻工艺的研发周期与成本,目前已成为高端芯片制程的核心环节之一。本文首先简单介绍了计算光刻的前身,即传统的分辨率增强技术,在此基础上介绍了计算光刻的基本原理、模型和算法。之后对光学邻近效应校正、光源优化和光源掩模联合优化三种常用的计算光刻技术进行了综述,总结了相关的研究进展、成果和应用。最后,阐述了计算光刻当前所面临的需求与挑战,并讨论了最新技术进展和未来发展方向。