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光电式光栅刻划机干涉控制系统及精度分析
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作者 张成山 孟庆孔 《长春工业大学学报》 CAS 2014年第6期633-638,共6页
采用莫尔条纹法对光栅干涉仪在工作过程中产生的干涉条纹进行分析,利用莫尔条纹的平均误差作用减少光栅刻划过程中的局部误差。实验研究表明,该方法控制光栅刻划机刻划出300l/mm和600l/mm的光栅,受环境影响小、结构简单且装调方便。
关键词 光电式光栅刻划机 衍射光栅干涉仪 莫尔条纹
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