一种新颖的光罩可制造性规则检查方法与系统

介绍了一种较为先进的光罩可制造性规则检查的方法及其系统构成。实验结果表明,通过整合各种EDA工具,在光罩检验前就可发现这些可能给光罩检验造成困难的图形,为后续光罩检验步骤提供参考,显著提高了光罩检验的效率。

用在可制造性设计中的光刻规则检查

可制造性设计(DFM)已经发展成为优化通晓制造技术设计中的有效工具,它包含从理论、规则到工具的整体应用来提升从设计到硅片的流程。基于制程模型的光刻规则检查(LRC),可查出没被设计规则检查(DRC)出来的设计布局的不足之处。本设计把光刻规则检查加入到设计流程中,用来优化设计规则,改善布局更有利光学邻近效应修正,使布局图形有更大的制程窗口。

基于 PMI领域知识图谱的完备性检查技术研究

针对产品MBD三维模型PMI标注形式不统一、标注易出错和人工检查难度大等问题,提出了一种基于PMI领域知识图谱的完备性检查技术。该技术采用自顶向下的方法构建了PMI领域知识图谱,利用SWRL规则构建了完备性检查的规则,从标注的冗余关系、标注的取代关系和标注的矛盾性3个方面进行检查,并结合Java Web技术实现了知识推理。最后以船用柴油机的机架为对象,验证了该方法的可行性。该技术极大地缩短了检查时间和降低了设计错误率,提高了工作人员的设计效率。

可制造性设计(DFM)

Miller Freeman的可制造性设计(De-sign for Manufacturability)专题讨论的开办旨在建立一个交换意见的媒介,让设计者、制造者及组装者开诚布公进行对话。目的在于把可制造性设计这一概念更好地贯穿于电子互联工业中。为使这一点更具说服力,我们让设计者、制造者、组装者提出他们在与其他两组人员工作交往中面临的最大问题。

DFM工具有助于实现“光刻友好”布局

明导国际（Mentor Graphics）认为，其最新的DFM（可制造性设计，designfor-manufacturing）将对集成电路设计人员设计”光刻友好”的集成电路布局提供帮助。该公司的新型Calibre LFD（光刻友好设计，lithography-friendly design）是一种类似于DRC／LVS（设计规则检查／低压信令，designrule-checking／low—voltage—signaling）的工具。不过，Calibre LFD并不检查布局是否符合设计规则（例如线迹宽度和间距）与早期原理图，而是检查布局是否符合描述给定生产线剂量和焦点的光刻制造规则。该工具集成了与OPCVerify一样的引擎，它采用的是一种类似OPC（光学接近修正，optical-proximitycorrection）的技术，是Mentor在1月份为光刻设计人员推出的。