电阻阵列非均匀性测试与校正

电阻阵列红外图像投射器的研究在近20年间取得了突破性的进展。作为红外图像生成系统的关键部件,电阻阵列的非均匀性是影响红外图像质量的主要因素,电阻阵列在使用之前必须进行非均匀性校正才能满足红外图像生成系统的应用要求。给出了非均匀性校正的流程;针对稀疏网格法和全屏测试法的互补性,提出了改进的全屏测试法;采用3次样条插值和分段线性法进行数据处理;采用"在线查表法"进行实时非均匀性校正。仿真结果表明,改进的全屏测试法及非均匀性实时算法取得了良好的效果。

电阻阵列非均匀性测试方法研究

给出了电阻阵列非均匀性校正方法,并根据非均匀性测试模型分析了1:1映射下的非均匀性全屏测试方法。针对图像退化会导致边缘效应以及收敛性变差的问题,研究了基于点扩散函数估计的全屏测试方法。仿真结果表明,与原方法相比,该方法可以减少边缘效应的影响,并且在平滑因子较大时可以体现出更好的收敛性。

电阻阵列非均匀测试与校正方法研究

红外图像生成技术是构建红外成像半实物仿真系统的关键技术之一,其中作为投射器件的电阻阵列一直以来是研究的热点,它存在非均匀性的固有不足。作为非均匀校正的测试手段,稀疏网格法和全屏测试法很早就已被国外研究者提出,取得了良好的校正效果。近来,随着我国电阻阵列研发脚步的跟进,校正方法也不断更新。本文针对国产电阻阵列响应曲线的特性,介绍分析了逆稀疏网格法并提出一种简化的校正流程。同时,针对数据处理方式的不同改进了插值校正方法,继而对比验证了两种校正方法,有效提升校正精度。

基于PSF估计的电阻阵列非均匀校正

电阻阵列红外仿真技术至今已发展为一项较为成熟的红外成像仿真方法,不仅像元规模越来越大,制造工艺水平也越来越高。尤其是国外,已研制出大规模商用电阻阵列器件,并在众多武器系统研制过程中得到了应用;国内在该方面同样取得了较大的进步,但是在传统的非均匀测试方法上国内研究还存在一些遗留问题未得到很好的解决。如实验中出现的莫尔条纹、边缘效应、映射与对准等相关难题很少有研究者提出详尽可行的处理措施。本文针对莫尔条纹和边缘效应问题,提出了一种基于点扩散函数估计的迭代非均匀性测试方法,实现了条纹干扰和边缘效应的去除。此外,本文对于映射比大于1:1的情况进行了仿真验证,对比了不同映射比和不同非均匀程度对校正效果的影响,给出了进行下一步实验的理论基础。