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与Si CMOS兼容的Graphene/MoS2异质结全差分光电探测器和读出电路
1
作者
胡跃文
谢生
+2 位作者
叶崇光
周高磊
毛陆虹
《光电子.激光》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2019年第4期347-352,共6页
提出了一种基于Graphene/MoS2异质结的全差分光电探测器。利用标准半导体微纳加工技术,制作了有效区域为2.3μm×10μm的Graphene/MoS2异质结结构,用以产生差分光电流;使用0.18μmCMOS工艺设计了差分放大与恒压控制电路,实现光电流...
提出了一种基于Graphene/MoS2异质结的全差分光电探测器。利用标准半导体微纳加工技术,制作了有效区域为2.3μm×10μm的Graphene/MoS2异质结结构,用以产生差分光电流;使用0.18μmCMOS工艺设计了差分放大与恒压控制电路,实现光电流到电压的转换和放大。结果表明:在白光照射下,单个Graphene/MoS2异质结结构光响应度达2435A/W。差分光生电流经过差分放大器后,以电压形式输出,总光响应度加倍。该全差分光探测器基于新型二维材料,对可见光具有较高的灵敏度,在可见光探测和成像领域具有广阔的应用前景。
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关键词
Graphene/MoS2异质结
二维材料
全差分光电探测电路
光响应度
原文传递
题名
与Si CMOS兼容的Graphene/MoS2异质结全差分光电探测器和读出电路
1
作者
胡跃文
谢生
叶崇光
周高磊
毛陆虹
机构
天津大学电气自动化与信息工程学院
天津大学微电子学院
出处
《光电子.激光》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2019年第4期347-352,共6页
基金
集成光电子学国家重点实验室开放课题(IOSKL2017KF07)资助项目
文摘
提出了一种基于Graphene/MoS2异质结的全差分光电探测器。利用标准半导体微纳加工技术,制作了有效区域为2.3μm×10μm的Graphene/MoS2异质结结构,用以产生差分光电流;使用0.18μmCMOS工艺设计了差分放大与恒压控制电路,实现光电流到电压的转换和放大。结果表明:在白光照射下,单个Graphene/MoS2异质结结构光响应度达2435A/W。差分光生电流经过差分放大器后,以电压形式输出,总光响应度加倍。该全差分光探测器基于新型二维材料,对可见光具有较高的灵敏度,在可见光探测和成像领域具有广阔的应用前景。
关键词
Graphene/MoS2异质结
二维材料
全差分光电探测电路
光响应度
Keywords
graphene/MoS2 heterojunction
two-dimensional(2D) materials
fully differential optoelectronic detection circuit
photoresponse
分类号
TN256 [电子电信—物理电子学]
原文传递
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
与Si CMOS兼容的Graphene/MoS2异质结全差分光电探测器和读出电路
胡跃文
谢生
叶崇光
周高磊
毛陆虹
《光电子.激光》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2019
0
原文传递
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