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利用全息相衬干涉显微术研究EDTA对KDP晶体生长习性的影响 被引量:2
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作者 赵朋 夏海瑞 +2 位作者 孙大亮 卢贵武 郑文强 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第1期31-34,共4页
利用全息相衬干涉显微术 (HPCIM)研究了EDTA对KDP晶体 (10 0 )柱面和 (10 1)锥面生长习性的影响。通过界面边界层宽度的变化 ,可以直观地观测到在溶液中添加少量的EDTA后 ,促使KDP晶体沿柱面和锥面的生长 ,特别是对柱面的影响更为显著 ... 利用全息相衬干涉显微术 (HPCIM)研究了EDTA对KDP晶体 (10 0 )柱面和 (10 1)锥面生长习性的影响。通过界面边界层宽度的变化 ,可以直观地观测到在溶液中添加少量的EDTA后 ,促使KDP晶体沿柱面和锥面的生长 ,特别是对柱面的影响更为显著 ,并对此作了解释。最佳的EDTA浓度范围有待于进一步研究。 展开更多
关键词 全息相衬干涉显微术 EDTA KDP晶体 晶体生长习性
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