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W/WO_3/Nafion新型pH修饰电极的研究及其应用
被引量:
1
1
作者
陆华
李勇
施国跃
《传感器技术》
CSCD
北大核心
2003年第7期15-18,共4页
讨论了一种新型pH修饰电极的制备及其应用。将钨(W)电极放置于2 0mol/LH2SO4中,在1 0~2 0V的电位区间内进行电化学氧化,通过该方法在W电极表面生成三氧化钨(WO3)膜。为了排除样品中的污染,在W/WO3电极表面涂敷了一层Nafion(全氟化离子...
讨论了一种新型pH修饰电极的制备及其应用。将钨(W)电极放置于2 0mol/LH2SO4中,在1 0~2 0V的电位区间内进行电化学氧化,通过该方法在W电极表面生成三氧化钨(WO3)膜。为了排除样品中的污染,在W/WO3电极表面涂敷了一层Nafion(全氟化离子交换剂)膜。该W/WO3/Nafion修饰电极在pH值2.0~12.0的范围内有良好的线性关系,能斯特(Nernstian)斜率为(-53.5±0.5)mV/pH;该电极对pH值6 0~7.0范围内的缓冲溶液响应时间为3s左右;同时,对pH测量过程中的干扰离子、稳定性、寿命和重现性等问题也进行了讨论。最后,还将该修饰pH电极用于多种饮料中pH水平的测定,并和常规的pH玻璃电极进行了比较,获得满意的结果。
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关键词
W/WO3/Nafion
pH修饰电极
钨
三氧
化
钨
全氟化离子交换剂
化
学传感器
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职称材料
题名
W/WO_3/Nafion新型pH修饰电极的研究及其应用
被引量:
1
1
作者
陆华
李勇
施国跃
机构
楚雄师范学院化学系
华东师范大学化学系
出处
《传感器技术》
CSCD
北大核心
2003年第7期15-18,共4页
文摘
讨论了一种新型pH修饰电极的制备及其应用。将钨(W)电极放置于2 0mol/LH2SO4中,在1 0~2 0V的电位区间内进行电化学氧化,通过该方法在W电极表面生成三氧化钨(WO3)膜。为了排除样品中的污染,在W/WO3电极表面涂敷了一层Nafion(全氟化离子交换剂)膜。该W/WO3/Nafion修饰电极在pH值2.0~12.0的范围内有良好的线性关系,能斯特(Nernstian)斜率为(-53.5±0.5)mV/pH;该电极对pH值6 0~7.0范围内的缓冲溶液响应时间为3s左右;同时,对pH测量过程中的干扰离子、稳定性、寿命和重现性等问题也进行了讨论。最后,还将该修饰pH电极用于多种饮料中pH水平的测定,并和常规的pH玻璃电极进行了比较,获得满意的结果。
关键词
W/WO3/Nafion
pH修饰电极
钨
三氧
化
钨
全氟化离子交换剂
化
学传感器
Keywords
W
WO_3
pH modified electrode
pH measurement
分类号
TP212.2 [自动化与计算机技术—检测技术与自动化装置]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
W/WO_3/Nafion新型pH修饰电极的研究及其应用
陆华
李勇
施国跃
《传感器技术》
CSCD
北大核心
2003
1
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