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空气对HAC太阳电池晶体硅/本征非晶硅界面污染情况分析
1
作者
杨烁
陈坤
+3 位作者
张衡
王贵林
黄海宾
袁吉仁
《南昌大学学报(工科版)》
2021年第3期217-220,284,共5页
采用热丝CVD法在N型体硅上以全程真空环境镀膜与IN镀膜后破真空再镀IP的不同形式,分别生长IN-IP非晶硅膜层,用WCT-120对薄膜钝化性能进行分析,并用wxAMPS软件模拟样品电池效率。比对结果表明全程真空环境镀膜样品的反向饱和电流密度(J_(...
采用热丝CVD法在N型体硅上以全程真空环境镀膜与IN镀膜后破真空再镀IP的不同形式,分别生长IN-IP非晶硅膜层,用WCT-120对薄膜钝化性能进行分析,并用wxAMPS软件模拟样品电池效率。比对结果表明全程真空环境镀膜样品的反向饱和电流密度(J_(0))和理论开压(iVOC)分别为5.12×10^(-15) A·cm^(-2)和0.731 V,模拟效率为23.15%;IN-IP破真空镀膜样品的J_(0)和iVOC分别为9.06×10^(-14) A·cm^(-2)和0.654 V,模拟效率为20.24%。因此,热丝CVD全程真空环境相对于IN-IP破真空镀膜具有更优的膜层生长方法。
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关键词
热丝CVD
晶体硅/非晶硅
全程真空
破
真空
镀膜
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职称材料
题名
空气对HAC太阳电池晶体硅/本征非晶硅界面污染情况分析
1
作者
杨烁
陈坤
张衡
王贵林
黄海宾
袁吉仁
机构
南昌大学光伏研究院
浙江爱旭太阳能科技有限公司
乐山职业技术学院
南昌大学理学院
出处
《南昌大学学报(工科版)》
2021年第3期217-220,284,共5页
基金
国家自然科学基金资助项目(11964018)
科技部国家重点研发计划课题(2018YFB1500403)。
文摘
采用热丝CVD法在N型体硅上以全程真空环境镀膜与IN镀膜后破真空再镀IP的不同形式,分别生长IN-IP非晶硅膜层,用WCT-120对薄膜钝化性能进行分析,并用wxAMPS软件模拟样品电池效率。比对结果表明全程真空环境镀膜样品的反向饱和电流密度(J_(0))和理论开压(iVOC)分别为5.12×10^(-15) A·cm^(-2)和0.731 V,模拟效率为23.15%;IN-IP破真空镀膜样品的J_(0)和iVOC分别为9.06×10^(-14) A·cm^(-2)和0.654 V,模拟效率为20.24%。因此,热丝CVD全程真空环境相对于IN-IP破真空镀膜具有更优的膜层生长方法。
关键词
热丝CVD
晶体硅/非晶硅
全程真空
破
真空
镀膜
Keywords
hot wire CVD
crystalline silicon/amorphous silicon
whole vacuum
broken vacuum
coating
分类号
O473 [理学—半导体物理]
O474 [理学—半导体物理]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
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1
空气对HAC太阳电池晶体硅/本征非晶硅界面污染情况分析
杨烁
陈坤
张衡
王贵林
黄海宾
袁吉仁
《南昌大学学报(工科版)》
2021
0
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职称材料
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