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扩Ga基区高反压晶体三极管V—1特性分析
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作者 修显武 孙海波 +3 位作者 裴素华 杨利 周忠平 郭兴龙 《科学技术与工程》 2002年第5期32-35,共4页
从器件物理的角度,对杂质、掺杂方式不同,形成基区的高耐压晶体三极管I-V负阻效应随机性进行分析。结果认为,负阻摆幅的大小对小电流注入下放大性能的优劣产生直接影响,而对发射极-收集极间的真正击穿电压并无减小损失;进一步证明了在Si... 从器件物理的角度,对杂质、掺杂方式不同,形成基区的高耐压晶体三极管I-V负阻效应随机性进行分析。结果认为,负阻摆幅的大小对小电流注入下放大性能的优劣产生直接影响,而对发射极-收集极间的真正击穿电压并无减小损失;进一步证明了在SiO_2/Si系统中,开管扩Ga形成的晶体管,具有耐压高、漏电流小的特点。 展开更多
关键词 扩Ga基区 高反压晶体三极管 V-1特性 负阻效应 击穿电压 流放大系数 共基极直流电流放大系数
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