电子回旋共振等离子分解CH_(19)Si_2N制备SICNB膜XPS分析

电子回旋共振等离子分解ＣＨ１９Ｓｉ２Ｎ－Ｎ２混合气体，采用溅射共混、气相液相共混沉积技术，制备四元素ＳｉＣＮＢ膜，由ＸＰＳ分析了膜的成份及生成的键结构，发现溅射共混、气液共混沉积过程中聚合成了Ｃ－Ｎ、Ｃ－Ｂ、Ｎ－Ｂ、Ｓｉ－Ｃ化合物。