多离子束反应共溅射技术及铁电薄膜制备与应用

随着现代信息科学与技术的迅速发展,多组元功能薄膜如高温超导薄膜、铁电薄膜、磁性薄膜等在微电子、光电子、光通讯、 信息存储等方面已经取得了应用,商业价值十分巨大。铁电薄膜具有优良的铁电、压电、电光、热释电、光折变及非线性光学等特性,可广泛用于微电子学、光电子学及其他高新技术领域。 考虑到制备多组元金属氧化物薄膜需精确控制各组元成分及离子束溅射成膜的特点。

花蕾状ZnO层/SiO_2多孔网络复合薄膜的制备及其发光特性

采用Zn/SiO2 复合靶 ,用射频磁控共溅射技术在Si( 111)衬底上沉积金属锌 (Zn) /二氧化硅 (SiO2 )基质复合薄膜 ,在空气气氛中 70 0℃条件下进行退火热处理 1h ,Zn从SiO2 基质中析出并在薄膜表面被空气中的O2 氧化 ,合成了花蕾状ZnO层 /SiO2 多孔网络复合薄膜材料 .用X射线衍射 (XRD)、扫描电镜 (SEM )、透射电镜 (TEM )和光致发光谱 (PL)分析了复合薄膜的微结构、组成。

AlSb多晶薄膜物相结构的实验研究

综合真空共蒸发和磁控溅射的优点,发展了双靶共溅射技术用于制备新型光伏材料AlSb多晶薄膜,采用X射线衍射、X射线荧光光谱、俄歇电子能谱等测试手段结合的分析方法,系统研究了薄膜组分、衬底温度、氧杂质等因素对薄膜物相结构的影响。结果表明,薄膜中Al、Sb原子接近1:1时,不会出现Al或Sb的结晶峰;衬底温度较高的情况下,形成了AlSb金属间化合物为主的多晶薄膜,并随着衬底温度的升高其晶粒得以长大;氧严重影响了AlSb的生成和结晶。