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光学相干显微术测量散射介质内层形貌的研究 被引量:1
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作者 朱永凯 李纪念 +2 位作者 孙艳 赵宏 王昭 《半导体光电》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第1期92-94,共3页
提出了采用光学相干显微术测量散射介质内层形貌的方法,该方法基于低相干术和共焦显微术,其纵向测试精度是由共焦门与相干门共同决定的,能有效地排除非焦面处的杂散光的影响。通过对样品内层的三维扫描,测量样品的不同点的厚度,最终透... 提出了采用光学相干显微术测量散射介质内层形貌的方法,该方法基于低相干术和共焦显微术,其纵向测试精度是由共焦门与相干门共同决定的,能有效地排除非焦面处的杂散光的影响。通过对样品内层的三维扫描,测量样品的不同点的厚度,最终透过表面层得到了样品的内层形貌,实际实验中的轴向分辨率约为5μm,横向分辨率约为1.2μm。该方法对样品无破坏作用,能有效地测量散射样品内层形貌,且具有测试精度高、工作可靠的特点。 展开更多
关键词 光学相干显微术 散射介质 内层形貌
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