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题名光学相干显微术测量散射介质内层形貌的研究
被引量:1
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作者
朱永凯
李纪念
孙艳
赵宏
王昭
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机构
西安交通大学机械制造系统工程国家重点实验室
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出处
《半导体光电》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2006年第1期92-94,共3页
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文摘
提出了采用光学相干显微术测量散射介质内层形貌的方法,该方法基于低相干术和共焦显微术,其纵向测试精度是由共焦门与相干门共同决定的,能有效地排除非焦面处的杂散光的影响。通过对样品内层的三维扫描,测量样品的不同点的厚度,最终透过表面层得到了样品的内层形貌,实际实验中的轴向分辨率约为5μm,横向分辨率约为1.2μm。该方法对样品无破坏作用,能有效地测量散射样品内层形貌,且具有测试精度高、工作可靠的特点。
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关键词
光学相干显微术
散射介质
内层形貌
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Keywords
optical coherence microscopy
scattering media
interface roughness
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分类号
TN744.3
[电子电信—电路与系统]
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