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去钻污及化学铜对ICD影响的试验和评估 被引量:1
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作者 苏培涛 吴楚龙 《印制电路信息》 2010年第6期41-44,48,共5页
文章通过利用正交实验法对除胶渣和化学沉铜加工过程中影响孔壁内层连接性能的控制参数进行试验,寻找影响ICD的显著因子和工艺参数。
关键词 除胶渣 化学沉铜 正交实验 内层连接不良
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