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微米级冰冻固结磨料抛光微晶玻璃的工艺研究
被引量:
2
1
作者
祝晓亮
孙玉利
+1 位作者
左敦稳
周亮
《硅酸盐通报》
CAS
CSCD
北大核心
2010年第5期1184-1189,共6页
通过四因素三水平正交实验,对微米级冰冻固结磨料抛光微晶玻璃的工艺进行了研究。采用单位时间试样厚度变化表征抛光速度,以平均粗糙度表征抛光质量。获得了以优化抛光质量为目的的工艺参数:抛光压力:0.05MPa;主轴转速:200r/min;偏心距:...
通过四因素三水平正交实验,对微米级冰冻固结磨料抛光微晶玻璃的工艺进行了研究。采用单位时间试样厚度变化表征抛光速度,以平均粗糙度表征抛光质量。获得了以优化抛光质量为目的的工艺参数:抛光压力:0.05MPa;主轴转速:200r/min;偏心距:105mm;抛光时间:60min。在该条件下获得了表面平均粗糙度为2.86nm的超光滑表面,并且抛光速率为12.35nm/min,并对抛光因素对表面质量和抛光速度的影响趋势进行了分析。
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关键词
冰冻固结磨料抛光盘
微晶玻璃
正交试验
工艺
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职称材料
题名
微米级冰冻固结磨料抛光微晶玻璃的工艺研究
被引量:
2
1
作者
祝晓亮
孙玉利
左敦稳
周亮
机构
南京航空航天大学机电学院
出处
《硅酸盐通报》
CAS
CSCD
北大核心
2010年第5期1184-1189,共6页
基金
中国博士后科学基金(No.200904501095)
南京航空航天大学基本科研业务费专项科研项目资助(No.NS2010134)
江苏省博士后科研资助计划项目(No.0901035C)
文摘
通过四因素三水平正交实验,对微米级冰冻固结磨料抛光微晶玻璃的工艺进行了研究。采用单位时间试样厚度变化表征抛光速度,以平均粗糙度表征抛光质量。获得了以优化抛光质量为目的的工艺参数:抛光压力:0.05MPa;主轴转速:200r/min;偏心距:105mm;抛光时间:60min。在该条件下获得了表面平均粗糙度为2.86nm的超光滑表面,并且抛光速率为12.35nm/min,并对抛光因素对表面质量和抛光速度的影响趋势进行了分析。
关键词
冰冻固结磨料抛光盘
微晶玻璃
正交试验
工艺
Keywords
ice fixed abrasive polishing pad
glass-ceramics
orthogonal test
process
分类号
TG580 [金属学及工艺—金属切削加工及机床]
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题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
微米级冰冻固结磨料抛光微晶玻璃的工艺研究
祝晓亮
孙玉利
左敦稳
周亮
《硅酸盐通报》
CAS
CSCD
北大核心
2010
2
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职称材料
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