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微米级冰冻固结磨料抛光微晶玻璃的工艺研究 被引量:2
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作者 祝晓亮 孙玉利 +1 位作者 左敦稳 周亮 《硅酸盐通报》 CAS CSCD 北大核心 2010年第5期1184-1189,共6页
通过四因素三水平正交实验,对微米级冰冻固结磨料抛光微晶玻璃的工艺进行了研究。采用单位时间试样厚度变化表征抛光速度,以平均粗糙度表征抛光质量。获得了以优化抛光质量为目的的工艺参数:抛光压力:0.05MPa;主轴转速:200r/min;偏心距:... 通过四因素三水平正交实验,对微米级冰冻固结磨料抛光微晶玻璃的工艺进行了研究。采用单位时间试样厚度变化表征抛光速度,以平均粗糙度表征抛光质量。获得了以优化抛光质量为目的的工艺参数:抛光压力:0.05MPa;主轴转速:200r/min;偏心距:105mm;抛光时间:60min。在该条件下获得了表面平均粗糙度为2.86nm的超光滑表面,并且抛光速率为12.35nm/min,并对抛光因素对表面质量和抛光速度的影响趋势进行了分析。 展开更多
关键词 冰冻固结磨料抛光盘 微晶玻璃 正交试验 工艺
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