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UMG多晶硅片的少子寿命
被引量:
2
1
作者
潘淼
郑兰花
+4 位作者
武智平
罗学涛
陈文辉
李锦堂
陈朝
《太阳能学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2013年第1期45-49,共5页
利用微波光电导衰减方法,研究磷吸杂、热氧化以及氮化硅钝化后快速热退火等工艺对物理冶金法制备的UMG硅片少子寿命的影响。实验发现:磷吸杂可有效改善冶金法硅片的少子寿命,其优化的条件是950℃处理4h;经热氧化处理后,少子寿命有所下降...
利用微波光电导衰减方法,研究磷吸杂、热氧化以及氮化硅钝化后快速热退火等工艺对物理冶金法制备的UMG硅片少子寿命的影响。实验发现:磷吸杂可有效改善冶金法硅片的少子寿命,其优化的条件是950℃处理4h;经热氧化处理后,少子寿命有所下降;氮化硅钝化后快速热退火处理可提高少子寿命,其优化的条件为800℃退火30s。
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关键词
冶金法硅片
少子寿命
磷吸杂
热氧化
快速热处理
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职称材料
题名
UMG多晶硅片的少子寿命
被引量:
2
1
作者
潘淼
郑兰花
武智平
罗学涛
陈文辉
李锦堂
陈朝
机构
厦门大学物理系
厦门大学材料系
出处
《太阳能学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2013年第1期45-49,共5页
基金
福建省重大科技专项专题(2007HZ0005-2)
国家自然科学基金(61076056)
福建省经贸委资助项目
文摘
利用微波光电导衰减方法,研究磷吸杂、热氧化以及氮化硅钝化后快速热退火等工艺对物理冶金法制备的UMG硅片少子寿命的影响。实验发现:磷吸杂可有效改善冶金法硅片的少子寿命,其优化的条件是950℃处理4h;经热氧化处理后,少子寿命有所下降;氮化硅钝化后快速热退火处理可提高少子寿命,其优化的条件为800℃退火30s。
关键词
冶金法硅片
少子寿命
磷吸杂
热氧化
快速热处理
Keywords
UMG silicon wafer
minority carrier lifetime
phosphorus gettering
thermal oxidation
rapid thermalannealing
分类号
TM914.41 [电气工程—电力电子与电力传动]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
UMG多晶硅片的少子寿命
潘淼
郑兰花
武智平
罗学涛
陈文辉
李锦堂
陈朝
《太阳能学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2013
2
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