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晶体硅表面纳米孔减反光结构的制备及其性能表征
被引量:
4
1
作者
戴恩琦
王欢欢
+5 位作者
谢汝平
叶杉杉
陈雨欣
高凝
张帅
吕文辉
《光电子.激光》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2017年第12期1325-1330,共6页
利用金属辅助硅化学刻蚀法在晶体硅表面制备了大面积有序硅纳米结构,并基于金属辅助硅化学刻蚀的机理,实现了硅纳米结构从线阵列到孔阵列转变。漫反射光谱的测试结果表明,相对于平面、金字塔结构,硅纳米孔织构的晶体硅具有卓越的减反光...
利用金属辅助硅化学刻蚀法在晶体硅表面制备了大面积有序硅纳米结构,并基于金属辅助硅化学刻蚀的机理,实现了硅纳米结构从线阵列到孔阵列转变。漫反射光谱的测试结果表明,相对于平面、金字塔结构,硅纳米孔织构的晶体硅具有卓越的减反光性能,在300~1 100nm光谱范围内的AM1.5G太阳光子的光反射损失比低于3.6%。硅纳米孔阵列减反光性能优异,制备方法简单、快速,且其孔壁互连,有益于晶体硅太阳电池的后续制备工艺及其表面结构机械稳定,可作为减反光结构应用于晶体硅太阳电池。
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关键词
硅纳米孔
减反光结构
晶体硅太阳电池
减
反光
性能
原文传递
题名
晶体硅表面纳米孔减反光结构的制备及其性能表征
被引量:
4
1
作者
戴恩琦
王欢欢
谢汝平
叶杉杉
陈雨欣
高凝
张帅
吕文辉
机构
湖州师范学院理学院应用物理系
出处
《光电子.激光》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2017年第12期1325-1330,共6页
基金
浙江省自然科学基金(LY15F040002)
国家大学生创新训练计划(201610347007)
+1 种基金
浙江省大学生科技创新活动计划项目新苗人才计划(2016R427017)
湖州师范学院自然科学(2014XJKY48)资助项目
文摘
利用金属辅助硅化学刻蚀法在晶体硅表面制备了大面积有序硅纳米结构,并基于金属辅助硅化学刻蚀的机理,实现了硅纳米结构从线阵列到孔阵列转变。漫反射光谱的测试结果表明,相对于平面、金字塔结构,硅纳米孔织构的晶体硅具有卓越的减反光性能,在300~1 100nm光谱范围内的AM1.5G太阳光子的光反射损失比低于3.6%。硅纳米孔阵列减反光性能优异,制备方法简单、快速,且其孔壁互连,有益于晶体硅太阳电池的后续制备工艺及其表面结构机械稳定,可作为减反光结构应用于晶体硅太阳电池。
关键词
硅纳米孔
减反光结构
晶体硅太阳电池
减
反光
性能
Keywords
Si nanoholes
antireflection structure
crystalline Si solar cells
antireflection performance
分类号
TM914.4 [电气工程—电力电子与电力传动]
原文传递
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
晶体硅表面纳米孔减反光结构的制备及其性能表征
戴恩琦
王欢欢
谢汝平
叶杉杉
陈雨欣
高凝
张帅
吕文辉
《光电子.激光》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2017
4
原文传递
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