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电子束蒸镀Y_2O_3-ZrO_2减反射膜用于1.3μm半导体激光器 被引量：1
1
作者 王浙辉 林理彬 卢铁城 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 1999年第11期971-976,共6页
用ＤＭＰ４５０ 型电子束镀膜机，制备了Ｙ２Ｏ３ＺｒＯ２ 膜，并将它用作１．３μｍ 半导体激光器的减反射膜．测试结果表明，镀膜后的半导体激光器其外微分子量效率明显提高，线性化也有改善．对于减反程度很高的管子，出现了超... 用ＤＭＰ４５０ 型电子束镀膜机，制备了Ｙ２Ｏ３ＺｒＯ２ 膜，并将它用作１．３μｍ 半导体激光器的减反射膜．测试结果表明，镀膜后的半导体激光器其外微分子量效率明显提高，线性化也有改善．对于减反程度很高的管子，出现了超辐射现象．本文对这些现象及有关机理进行了讨论． 展开更多
关键词 半导体激光器 电子束蒸镀 Y2O3-ZrO2 减反射模
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