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超薄晶圆减薄工艺研究
被引量:
2
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作者
衣忠波
丛瑞
常庆麒
《电子工业专用设备》
2020年第1期36-40,49,共6页
主要研究了超薄晶圆减薄工艺和设备。从设备结构、晶圆传输、晶圆加工工艺、晶圆测量等方面,介绍了先进封装用减薄机如何解决超薄晶圆易碎问题,以及设备的国内外现状。
关键词
减薄抛光机
超
薄
晶圆
抛光
工艺
下载PDF
职称材料
题名
超薄晶圆减薄工艺研究
被引量:
2
1
作者
衣忠波
丛瑞
常庆麒
机构
中国电子科技集团公司第四十五研究所
出处
《电子工业专用设备》
2020年第1期36-40,49,共6页
文摘
主要研究了超薄晶圆减薄工艺和设备。从设备结构、晶圆传输、晶圆加工工艺、晶圆测量等方面,介绍了先进封装用减薄机如何解决超薄晶圆易碎问题,以及设备的国内外现状。
关键词
减薄抛光机
超
薄
晶圆
抛光
工艺
Keywords
Grinding and Polishing machine
Ultra-thin wafer
Polishing technology
分类号
TN305.2 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
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作者
出处
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1
超薄晶圆减薄工艺研究
衣忠波
丛瑞
常庆麒
《电子工业专用设备》
2020
2
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