期刊导航
期刊开放获取
河南省图书馆
退出
期刊文献
+
任意字段
题名或关键词
题名
关键词
文摘
作者
第一作者
机构
刊名
分类号
参考文献
作者简介
基金资助
栏目信息
任意字段
题名或关键词
题名
关键词
文摘
作者
第一作者
机构
刊名
分类号
参考文献
作者简介
基金资助
栏目信息
检索
高级检索
期刊导航
共找到
2
篇文章
<
1
>
每页显示
20
50
100
已选择
0
条
导出题录
引用分析
参考文献
引证文献
统计分析
检索结果
已选文献
显示方式:
文摘
详细
列表
相关度排序
被引量排序
时效性排序
凹槽栅MOSFET凹槽拐角的作用与影响研究
被引量:
3
1
作者
孙自敏
刘理天
李志坚
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
1998年第5期18-21,39,共5页
短沟道效应是小尺寸MOSFET中很重要的物理效应之一,凹槽栅MOSFET对短沟道效应有很强的抑制能力。通过对凹槽栅MOSFET结构、特性的研究,发现凹槽拐角对凹槽栅MOSFET的阈值电压及特性有着显著的影响。凹槽拐角...
短沟道效应是小尺寸MOSFET中很重要的物理效应之一,凹槽栅MOSFET对短沟道效应有很强的抑制能力。通过对凹槽栅MOSFET结构、特性的研究,发现凹槽拐角对凹槽栅MOSFET的阈值电压及特性有着显著的影响。凹槽拐角处的阈值电压决定着整个凹槽栅MOSFET的阈值电压。凹槽拐角的曲率半径是凹槽MOSFET一个重要的结构参数。通过对凹槽拐角的曲率半径、源漏结深及沟道掺杂浓度进行优化设计,可使凹槽栅MOSFET不仅能完成抑制短沟道效应,而且具有相当好的输出特性和S因子,使这种结构适合于深亚微米MOSFET器件。
展开更多
关键词
凹槽
栅
MOSFET
凹槽拐角
短沟道效应
半导体器件
下载PDF
职称材料
凹槽拐角对深亚微米槽栅PMOSFET特性的影响
被引量:
1
2
作者
任红霞
郝跃
《固体电子学研究与进展》
CAS
CSCD
北大核心
2002年第1期19-24,28,共7页
为优化槽栅器件结构 ,提高槽栅 MOSFET的性能和可靠性 ,文中用器件仿真软件对凹槽拐角对深亚微米槽栅 PMOSFET的特性影响进行了研究。研究结果表明凹槽拐角强烈影响器件的特性 :随着凹槽拐角的增大 ,阈值电压上升 ,电流驱动能力提高 ,...
为优化槽栅器件结构 ,提高槽栅 MOSFET的性能和可靠性 ,文中用器件仿真软件对凹槽拐角对深亚微米槽栅 PMOSFET的特性影响进行了研究。研究结果表明凹槽拐角强烈影响器件的特性 :随着凹槽拐角的增大 ,阈值电压上升 ,电流驱动能力提高 ,而热载流子效应大大减弱 ,抗热载流子性能增强 ,热载流子可靠性获得提高 ;但凹槽拐角过大时 (例如 90°) 。
展开更多
关键词
槽栅P沟金属-氧化物-半导体场效应晶体管
凹槽拐角
器件特性
下载PDF
职称材料
题名
凹槽栅MOSFET凹槽拐角的作用与影响研究
被引量:
3
1
作者
孙自敏
刘理天
李志坚
机构
清华大学微电子所
出处
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
1998年第5期18-21,39,共5页
文摘
短沟道效应是小尺寸MOSFET中很重要的物理效应之一,凹槽栅MOSFET对短沟道效应有很强的抑制能力。通过对凹槽栅MOSFET结构、特性的研究,发现凹槽拐角对凹槽栅MOSFET的阈值电压及特性有着显著的影响。凹槽拐角处的阈值电压决定着整个凹槽栅MOSFET的阈值电压。凹槽拐角的曲率半径是凹槽MOSFET一个重要的结构参数。通过对凹槽拐角的曲率半径、源漏结深及沟道掺杂浓度进行优化设计,可使凹槽栅MOSFET不仅能完成抑制短沟道效应,而且具有相当好的输出特性和S因子,使这种结构适合于深亚微米MOSFET器件。
关键词
凹槽
栅
MOSFET
凹槽拐角
短沟道效应
半导体器件
Keywords
Grooved gate MOSFET Concave corner Short channel effect
分类号
TN305 [电子电信—物理电子学]
TN386 [电子电信—物理电子学]
下载PDF
职称材料
题名
凹槽拐角对深亚微米槽栅PMOSFET特性的影响
被引量:
1
2
作者
任红霞
郝跃
机构
西安电子科技大学微电子研究所
出处
《固体电子学研究与进展》
CAS
CSCD
北大核心
2002年第1期19-24,28,共7页
文摘
为优化槽栅器件结构 ,提高槽栅 MOSFET的性能和可靠性 ,文中用器件仿真软件对凹槽拐角对深亚微米槽栅 PMOSFET的特性影响进行了研究。研究结果表明凹槽拐角强烈影响器件的特性 :随着凹槽拐角的增大 ,阈值电压上升 ,电流驱动能力提高 ,而热载流子效应大大减弱 ,抗热载流子性能增强 ,热载流子可靠性获得提高 ;但凹槽拐角过大时 (例如 90°) 。
关键词
槽栅P沟金属-氧化物-半导体场效应晶体管
凹槽拐角
器件特性
Keywords
grooved gate PMOSFETs
concave corner
characteristics of device
分类号
TN386.1 [电子电信—物理电子学]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
凹槽栅MOSFET凹槽拐角的作用与影响研究
孙自敏
刘理天
李志坚
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
1998
3
下载PDF
职称材料
2
凹槽拐角对深亚微米槽栅PMOSFET特性的影响
任红霞
郝跃
《固体电子学研究与进展》
CAS
CSCD
北大核心
2002
1
下载PDF
职称材料
已选择
0
条
导出题录
引用分析
参考文献
引证文献
统计分析
检索结果
已选文献
上一页
1
下一页
到第
页
确定
用户登录
登录
IP登录
使用帮助
返回顶部