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GaAs分子束外延中硅阶梯掺杂优化及C-V测量
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作者 孙永伟 张秀兰 +2 位作者 杨国华 叶晓军 陈良惠 《激光与红外》 CAS CSCD 北大核心 2005年第8期593-595,共3页
以硅作为砷化镓分子束外延(MBE)生长中的n型掺杂剂,为了确定硅的掺杂浓度,在一片GaAs半绝缘衬底上生长多个GaAs处延层,每一层中进行不同浓度的Si掺杂,然后用电化学C-V的方法确定各层中的载流子浓度,一次性得到了不同Si掺杂浓度与Si炉的... 以硅作为砷化镓分子束外延(MBE)生长中的n型掺杂剂,为了确定硅的掺杂浓度,在一片GaAs半绝缘衬底上生长多个GaAs处延层,每一层中进行不同浓度的Si掺杂,然后用电化学C-V的方法确定各层中的载流子浓度,一次性得到了不同Si掺杂浓度与Si炉的温度之间的关系曲线。本文还介绍了如何采用控制生长的条件得到陡峭的界面,使不同掺杂浓度的层与层之间的界面变化非常明显。 展开更多
关键词 分子束外延mbe 硅掺杂 砷化镓 电化学C—V
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Ge(211)衬底上分子束外延CdTe薄膜 被引量:1
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作者 李艳辉 杨春章 +3 位作者 苏栓 谭英 高丽华 赵俊 《红外技术》 CSCD 北大核心 2011年第10期598-601,共4页
采用分子束外延在3英寸Ge(211)衬底上生长了10μm厚的CdTe(211)B薄膜。CdTe表面镜面光亮,3英寸范围厚度平均值9.72μm,偏差0.3μm;薄膜晶体质量通过X射线双晶迴摆曲线进行评价,FWHM平均值80.23 arcsec,偏差3.03 arcsec;EPD平均值为4.5&#... 采用分子束外延在3英寸Ge(211)衬底上生长了10μm厚的CdTe(211)B薄膜。CdTe表面镜面光亮,3英寸范围厚度平均值9.72μm,偏差0.3μm;薄膜晶体质量通过X射线双晶迴摆曲线进行评价,FWHM平均值80.23 arcsec,偏差3.03 arcsec;EPD平均值为4.5×106 cm-2。通过研究CdTe薄膜厚度与FWHM和EPD的关系,得到CdTe的理想厚度为8~9μm。 展开更多
关键词 分子外延(mbe) CDTE薄膜 半峰宽(FWHM) 腐蚀坑密度(EPD)
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垂直堆垛InAs量子点材料的分子束外延生长 被引量:3
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作者 李树玮 小池一步 矢野满明 《稀有金属》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第1期207-209,共3页
用MBE设备以Stranski Krastanov生长方式外延生长了 5个周期垂直堆垛的InAs量子点 ,在生长过程中使用对形状尺寸控制法来提高垂直堆垛InAs量子点质量和均匀性。样品外延的主要结构是 5 0 0nm的GaAs外延层 ,15nm的Al0 .5Ga0 .5As势垒外延... 用MBE设备以Stranski Krastanov生长方式外延生长了 5个周期垂直堆垛的InAs量子点 ,在生长过程中使用对形状尺寸控制法来提高垂直堆垛InAs量子点质量和均匀性。样品外延的主要结构是 5 0 0nm的GaAs外延层 ,15nm的Al0 .5Ga0 .5As势垒外延层 ,5个周期堆跺的InAs量子点 ,5 0nm的Al0 .5Ga0 .5Asnm势垒外延层等。在生长过程中用反射式高能电子衍射仪 (RHEED)实时监控。生长后用原子力显微镜 (AFM)进行表面形貌的表征 ,再利用光制发光 (PL) 展开更多
关键词 晶体生长 垂直堆垛的InAs量子点 分子外延(mbe) 光致发光
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利用全固态分子束外延方法在Ge(100)衬底上异质外延GaAs薄膜及相关特性表征 被引量:2
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作者 何巍 陆书龙 杨辉 《红外与毫米波学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2016年第2期206-209,共4页
利用全固态分子束外延(MBE)方法在Ge(100)衬底上异质外延GaAs薄膜,并通过高能电子衍射(RHEED)、高分辨X射线衍射(XRD),原子力显微镜等手段研究了不同生长参数对外延层的影响.RHEED显示在较高的生长温度或较低的生长速率下,低温GaAs成核... 利用全固态分子束外延(MBE)方法在Ge(100)衬底上异质外延GaAs薄膜,并通过高能电子衍射(RHEED)、高分辨X射线衍射(XRD),原子力显微镜等手段研究了不同生长参数对外延层的影响.RHEED显示在较高的生长温度或较低的生长速率下,低温GaAs成核层呈现层状生长模式.同时降低生长温度和生长速率会使GaAs薄膜的XRD摇摆曲线半高宽(FWHM)减小,并降低外延层表面的粗糙度,这主要是由于衬底和外延薄膜之间的晶格失配度减小的结果. 展开更多
关键词 分子外延(mbe) GAAS/GE 异质外延
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分子束外延生长InAsSb材料的组分控制(英文) 被引量:1
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作者 孙庆灵 王禄 +6 位作者 姚官生 曹先存 王文奇 孙令 王文新 贾海强 陈弘 《红外与毫米波学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2016年第4期386-388,共3页
采用分子束外延方法在GaAs和GaSb衬底上生长了一系列InAsSb薄膜,研究了Sb组分与Sb4束流间关系.实验发现,在分子束外延生长中,相比As原子,Sb原子更易并入晶格中.利用该特性可较好实现InAsSb材料的组分控制.
关键词 分子外延(mbe) 铟砷锑 组分控制
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ZnSeTe薄膜的分子束外延生长 被引量:1
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作者 任敬川 刘超 +1 位作者 崔利杰 曾一平 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2016年第6期461-466,共6页
研究了用分子束外延设备在GaAs(001)衬底上异质外延生长ZnSeTe单晶薄膜材料的工艺技术。在VI族元素富集条件下,通过调节Se/Zn束流比,制备了全组分分布(x=0-1)的Zn SexTe1-x单晶薄膜样品。XRD分析结果显示外延生长的ZnSeTe薄膜样品... 研究了用分子束外延设备在GaAs(001)衬底上异质外延生长ZnSeTe单晶薄膜材料的工艺技术。在VI族元素富集条件下,通过调节Se/Zn束流比,制备了全组分分布(x=0-1)的Zn SexTe1-x单晶薄膜样品。XRD分析结果显示外延生长的ZnSeTe薄膜样品呈现出单一的闪锌矿晶体结构。在450和550℃氮气氛保护下对Zn Se0.70Te0.30样品做了快速热退火处理,退火后发现其晶体质量和表面形貌都得到了明显改善:双晶X射线摇摆曲线(DCXRC)(004)衍射峰的半峰宽(FWHM)从0.707 7°降低至0.571 9°,表面均方根粗糙度从2.44 nm降低至1.34 nm。采用点In电极做室温Hall测试的结果显示,本征ZnSeTe薄膜表面In电极之间的电阻值很高,外延薄膜呈现载流子浓度很低的高阻状态。 展开更多
关键词 ZnSeTe 分子外延(mbe) II-VI族半导体 晶体质量 电学性能
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与GaN晶格匹配的InAlN分子束外延生长及其性能
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作者 顾俊 吴渊渊 +2 位作者 杨文献 陆书龙 罗向东 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2016年第7期532-538,共7页
采用等离子体辅助的分子束外延(MBE)方法制备了InAlN外延薄膜,探讨了InAlN材料In原子数分数和生长条件的关系,以及等效束流强度(BEP)对材料质量的影响。绘制了InAlN关于温度与In和Al BEP的生长相图,经过优化后生长了与GaN晶格匹配的InAl... 采用等离子体辅助的分子束外延(MBE)方法制备了InAlN外延薄膜,探讨了InAlN材料In原子数分数和生长条件的关系,以及等效束流强度(BEP)对材料质量的影响。绘制了InAlN关于温度与In和Al BEP的生长相图,经过优化后生长了与GaN晶格匹配的InAlN外延薄膜。使用高分辨率透射电子显微镜、X射线衍射仪、原子力显微镜和阴极荧光光谱(CL)对制备的InAlN材料进行了测试和表征。结果表明,InAlN/GaN异质界面清晰,In_(0.18)Al_(0.82)N外延材料(002)面X射线衍射峰半高宽为263 arcsec,表面粗糙度仅为0.23 nm,CL发光波长为283 nm,弯曲系数为5.2 e V,根据CL图像估算的材料位错密度约为2×108cm-2。 展开更多
关键词 分子外延(mbe) INALN 晶格匹配 弯曲系数 表面粗糙度
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分子束外延生长Hg1-_xCd_xTe材料原位退火研究
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作者 苏栓 李艳辉 +4 位作者 周旭昌 杨春章 谭英 高丽华 李全保 《红外技术》 CSCD 北大核心 2009年第1期5-7,共3页
对分子束外延(MBE)生长了Hg1-xCdxTe薄膜材料进行原位退火研究。显微镜观察可知,原位退火可以得到光滑的材料表面,并可以降低材料的腐蚀坑密度(EPD)。霍尔测试结果表明,通过调整退火温度和汞束流可以明显地改善Hg1-xCdxTe材料的电学性... 对分子束外延(MBE)生长了Hg1-xCdxTe薄膜材料进行原位退火研究。显微镜观察可知,原位退火可以得到光滑的材料表面,并可以降低材料的腐蚀坑密度(EPD)。霍尔测试结果表明,通过调整退火温度和汞束流可以明显地改善Hg1-xCdxTe材料的电学性能。研究表明Hg1-xCdxTe材料的原位退火技术在改善材料的微观结构和电学性能方面有着重要的意义。 展开更多
关键词 分子外延(mbe) 原位退火 HG1-XCDXTE 电学性能
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无倾斜选择的分子束外延模型变步长BDF2格式的最优误差估计 被引量:1
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作者 张继伟 赵成超 《数学杂志》 2022年第5期377-401,共25页
对于没有斜率选择的分子束外延模型,具有可变时间步长的两步向后微分公式(BDF2)的稳定性和收敛性仍未被完全解决。在本文中,我们首先证明了该BDF2格式在新的相邻时间步长比条件下保持修正的能量耗散定律:r_(k)=τ_(k)/τ_(k-1)≤4.8645-... 对于没有斜率选择的分子束外延模型,具有可变时间步长的两步向后微分公式(BDF2)的稳定性和收敛性仍未被完全解决。在本文中,我们首先证明了该BDF2格式在新的相邻时间步长比条件下保持修正的能量耗散定律:r_(k)=τ_(k)/τ_(k-1)≤4.8645-δ,其中δ>0是给定的任意小常数。然后,我们介绍了最近发展的离散正交卷积(DOC)和离散互补卷积(DCC)核技巧,并在新的比率条件r_(k)≤4.8645-δ下给出了BDF2格式的鲁棒且最优的二阶收敛性。鲁棒性意味着,除了r_(k)≤4.8645-δ以外,收敛性不需要其他时间步长上的约束条件。此外,我们的分析表明,使用一阶BDF1格式计算第一步数值解足以确保全局最优收敛阶。也就是说,选择BDF1格式计算起始步的数值解不会导致全局二阶收敛的损失。数值算例验证了我们的理论分析。 展开更多
关键词 变步长BDF2 离散正交卷积(DOC)核 离散互补卷积(DCC)核 误差卷积结构(ECS) 最优误差估计 分子外延(mbe)模型
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MBE方法在GaAs(001)衬底上外延生长GaSb膜 被引量:3
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作者 郝瑞亭 申兰先 +5 位作者 邓书康 杨培志 涂洁磊 廖华 徐应强 牛智川 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第4期734-736,共3页
利用分子束外延方法(MBE)在GaAs(001)衬底上外延生长了GaSb薄膜,利用高分辨透射电子显微镜(HRTEM)、原子力显微镜(AFM)、Hall效应(HallEffect)和低温光荧光谱(LTPL)等手段对薄膜的晶体质量、电学性能和光学质量进行了研究。发现直接生长... 利用分子束外延方法(MBE)在GaAs(001)衬底上外延生长了GaSb薄膜,利用高分辨透射电子显微镜(HRTEM)、原子力显微镜(AFM)、Hall效应(HallEffect)和低温光荧光谱(LTPL)等手段对薄膜的晶体质量、电学性能和光学质量进行了研究。发现直接生长的GaSb膜表面平整,空穴迁移率较高。引入GaSb/AlSb超晶格可有效阻断进入GaSb外延层的穿通位错,对应的PL谱强度增强,材料的光学质量变好。 展开更多
关键词 GASB GAAS 分子外延(mbe)
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GaSb/GaAs异质结热光伏电池材料的MBE生长 被引量:1
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作者 郝瑞亭 郭杰 +2 位作者 刘颖 缪彦美 徐应强 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2014年第5期1076-1079,1085,共5页
利用分子束外延方法(MBE)在GaAs(001)衬底上外延生长了GaSb薄膜,并对GaSb薄膜进行了高温退火研究,利用高分辨透射电子显微镜(HRTEM)、原子力显微镜(AFM)、Hall效应(Hall Effect)和低温光荧光谱(LTPL)等手段对薄膜的晶体质量、电学性质... 利用分子束外延方法(MBE)在GaAs(001)衬底上外延生长了GaSb薄膜,并对GaSb薄膜进行了高温退火研究,利用高分辨透射电子显微镜(HRTEM)、原子力显微镜(AFM)、Hall效应(Hall Effect)和低温光荧光谱(LTPL)等手段对薄膜的晶体质量、电学性质和光学性质进行了研究。发现直接生长的GaSb膜表面平整,空穴迁移率较高。研究发现30 s、650℃的快速热退火可消除位错等缺陷,显著提高GaSb薄膜的光学质量。 展开更多
关键词 GASB 热光伏电池 分子外延(mbe)
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MBE制备GaN纳米柱阵列的光学特性 被引量:1
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作者 冉宏霞 王硕 +3 位作者 范滔 刘瑞峰 张雨阳 高向明 《微纳电子技术》 北大核心 2017年第1期21-25,共5页
使用U-4100紫外可见光光度计和QM40稳态/瞬态荧光光谱仪分别对不同V/Ⅲ比分子束外延(MBE)制备的GaN纳米柱阵列进行了测试,分析了V/Ⅲ比对GaN纳米柱表面形貌及发光特性的影响。反射光谱、透射光谱和室温稳态光致发光光谱结果表明:MBE制备... 使用U-4100紫外可见光光度计和QM40稳态/瞬态荧光光谱仪分别对不同V/Ⅲ比分子束外延(MBE)制备的GaN纳米柱阵列进行了测试,分析了V/Ⅲ比对GaN纳米柱表面形貌及发光特性的影响。反射光谱、透射光谱和室温稳态光致发光光谱结果表明:MBE制备的GaN纳米柱阵列其V/Ⅲ比直接影响纳米柱的带边发光、黄带发光、蓝带发光和光吸收等光学特性。当波长为480 nm蓝光段时,纳米柱有最强的反射能力。纳米柱V/Ⅲ比为6∶1时反射率峰值最大,约为55%,且峰值随V/Ⅲ比的变化交替变化。纳米柱V/Ⅲ比为8∶1时透射率最大。纳米柱V/Ⅲ比为10∶1时黄带发光几乎消失,且365 nm附近的带边发光和440 nm附近的蓝带发光增强。拟合结果中370 nm为主要的带边发光峰。 展开更多
关键词 分子外延(mbe) GaN纳米柱阵列 反射光谱 光致发光光谱 V/Ⅲ比
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高Al组分AlGaN的MBE生长及表面活性机理
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作者 贾浩林 杨文献 +1 位作者 陆书龙 丁孙安 《半导体技术》 CAS 北大核心 2020年第9期701-706,736,共7页
采用分子束外延(MBE)方法制备了高质量的高Al组分AlGaN薄膜,在室温下获得了266 nm波长的深紫外发光。利用原位监控系统,结合原子力显微镜(AFM)和变温光致发光(PL)谱研究了生长前端的Ga原子的表面活性作用对AlGaN薄膜的生长模式、表面形... 采用分子束外延(MBE)方法制备了高质量的高Al组分AlGaN薄膜,在室温下获得了266 nm波长的深紫外发光。利用原位监控系统,结合原子力显微镜(AFM)和变温光致发光(PL)谱研究了生长前端的Ga原子的表面活性作用对AlGaN薄膜的生长模式、表面形貌和光学性质的影响,并通过二次离子质谱仪(SIMS)探究了生长温度与p型AlGaN Mg掺杂浓度的变化关系及内在机理。结果显示,Ga原子不仅参与AlGaN的结晶,而且在薄膜生长和Mg掺杂中发挥着表面活性剂的作用,能够促进Al原子的迁移与并入。Ga原子作为表面活性剂有利于AlGaN薄膜进行二维层状生长,改善AlGaN薄膜的表面形貌和光学特性;它还能够提高Al原子的并入效率,使AlGaN薄膜具有更短的发光波长。此外,适当降低p型AlGaN薄膜的生长温度,能减少Mg原子脱吸附并增强Ga原子的表面活性剂作用,从而提高Mg的掺杂浓度。 展开更多
关键词 AlGaN薄膜 光致发光(PL) Ga表面活性剂 分子外延(mbe) 深紫外 光学特性
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MBE系统中GaAs样品的RHEED分析
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作者 黄旭 潘金福 +2 位作者 王云 周勋 丁召 《现代机械》 2009年第3期77-78,共2页
本文根据在调试分子束外延(MBE)系统过程中,使用反射式高能电子衍射(RHEED)对GaAs样品实时监控得到的图片进行分析,从而总结出在MBE外延生长实验中对采用的GaAs样品的化学清洗方法。
关键词 分子外延(mbe) 反射式高能电子衍射(RHEED) GAAS 样品清洗
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P-type AlAs/[GaAs/AlAs] Semiconductor/Superlattice DBR Grown by MBE
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作者 YANChang-ling ZHONGJing-chang 《Semiconductor Photonics and Technology》 CAS 2001年第1期8-12,41,共6页
A p-type AlAs(70.2 nm)/16.5 period [GaAs(3 nm)/AlAs(0.7 nm)] semiconductor/superlatice distributed Bragg reflector (DBR) has been grown on n +-GaAs(100) substrate by V80H molecular beam epitaxy system. Experimental re... A p-type AlAs(70.2 nm)/16.5 period [GaAs(3 nm)/AlAs(0.7 nm)] semiconductor/superlatice distributed Bragg reflector (DBR) has been grown on n +-GaAs(100) substrate by V80H molecular beam epitaxy system. Experimental reflection spectrum shows that its central wavelength is 820 nm, with the peak reflectivity for 10-pair DBR of as high as 96 %, and the reflection bandwidth of as wide as 90 nm. We formed a 20×20 μm 2 square mesa to measure the series resistance using wet chemical etching. From the measurement result, the series resistance of about 50 Ω is obtained at a moderate doping (3×10 18 cm -3 ). Finally, the dependence of the resistance of the DBR on the temperature is analyzed. From the experimental result, it is found that the mechanism of the low series resistance of this kind of DBR may increase the tunneling current in the semiconductor/superlattice mirror structure, which will result in a decrease in series resistance. 展开更多
关键词 Distributed Bragg reflector SUPERLATTICE Reflection spectrum Series resistance Molecular beam epitaxy
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分子束外延法在Sapphire衬底上生长的Zn_(1-x)Mg_xO薄膜折射率及厚度的测试 被引量:5
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作者 延凤平 郑凯 +8 位作者 王琳 李一凡 龚桃荣 简水生 尾形健一 小池一步 佐佐诚彦 井上正崇 矢野满明 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2007年第7期4127-4131,共5页
利用偏振光椭圆率测量仪对分子束外延(MBE)法在Sapphire衬底上生长的Zn1-xMgxO薄膜的薄膜折射率和厚度进行了测试.结合ICP法测得的薄膜中的Mg组成量,经数值拟合,导出表征薄膜厚度与薄膜生长条件、薄膜折射率与薄膜中的Mg组成量之间关系... 利用偏振光椭圆率测量仪对分子束外延(MBE)法在Sapphire衬底上生长的Zn1-xMgxO薄膜的薄膜折射率和厚度进行了测试.结合ICP法测得的薄膜中的Mg组成量,经数值拟合,导出表征薄膜厚度与薄膜生长条件、薄膜折射率与薄膜中的Mg组成量之间关系的曲线,为MBE法在Sapphire衬底上生长Zn1-xMgxO薄膜时控制薄膜厚度以及在制作Zn1-xMgxO薄膜的波导时控制薄膜的折射率提供了理论依据. 展开更多
关键词 ZNMGO薄膜 偏振光椭圆率测量仪 折射率 分子外延(mbe)
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分子束外延生长[111]晶向CdTe的研究 被引量:2
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作者 张兵坡 蔡春锋 +2 位作者 才玺坤 吴惠桢 王淼 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2012年第4期356-360,共5页
本文采用分子束外延(MBE)方法在BaF_2衬底上直接外延生长了CdTe(111)薄膜.反射高能电子衍射(RHEED)实时监控生长表面,衍射图样揭示了CdTe(111)在BaF_2表面由二维生长向三维生长的变化过程.XRD表征验证了外延生长的CdTe薄膜的单晶性质.... 本文采用分子束外延(MBE)方法在BaF_2衬底上直接外延生长了CdTe(111)薄膜.反射高能电子衍射(RHEED)实时监控生长表面,衍射图样揭示了CdTe(111)在BaF_2表面由二维生长向三维生长的变化过程.XRD表征验证了外延生长的CdTe薄膜的单晶性质.由红外透射光谱测量和理论拟合相结合,得到了CdTe外延薄膜室温带隙宽度E_g=1.511 eV. 展开更多
关键词 CDTE 分子外延(mbe) RHEED XRD
原文传递
拓扑绝缘体(Bi_(1-x)Sb_(x))_(2)Te_(3)薄膜制备及其电输运性能研究
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作者 张哲瑞 仇怀利 +3 位作者 周同 黄文宇 葛威锋 杨远俊 《合肥工业大学学报(自然科学版)》 CAS 北大核心 2023年第11期1580-1584,共5页
文章利用分子束外延(molecular beam epitaxy, MBE)法,在超高真空的条件下,于蓝宝石衬底上制备超薄的高质量拓扑绝缘体(Bi_(1-x)Sb_(x))_(2)Te_(3)薄膜。利用反射高能电子衍射(reflection high-energy electron diffraction, RHEED)仪、... 文章利用分子束外延(molecular beam epitaxy, MBE)法,在超高真空的条件下,于蓝宝石衬底上制备超薄的高质量拓扑绝缘体(Bi_(1-x)Sb_(x))_(2)Te_(3)薄膜。利用反射高能电子衍射(reflection high-energy electron diffraction, RHEED)仪、X射线衍射(X-ray diffraction, XRD)仪、显微共焦激光拉曼光谱仪(micro confocal laser Raman spectrometer)和X射线光电子能谱(X-ray photoelectron spectroscopy, XPS)仪对不同Sb掺杂量的样品进行表征,并获得最佳的制备参数。研究结果表明:衬底温度为460℃时Bi和Te的流量比为1∶16左右;在Sb温度为350、360、370、380℃时,可以制得高质量的(Bi_(1-x)Sb_(x))_(2)Te_(3)薄膜。利用霍尔效应测量系统测量样品的电阻率、霍尔系数、迁移率和载流子浓度;测量结果表明,(Bi_(1-x)Sb_(x))_(2)Te_(3)薄膜的载流子浓度和主要载流子类型随x的变化而发生相应的变化,并伴随着费米能级位置的调谐,随着x的增加,在x=0.53到x=0.68的掺杂过程中,费米能级从导带下移到带隙,最终进入价带,多数载流子类型也从自由电子转变成空穴,(Bi_(1-x)Sb_(x))_(2)Te_(3)实现了从n型到p型的转化。 展开更多
关键词 分子外延(mbe) 拓扑绝缘体 (Bi_(1-x)Sb_(x))_(2)Te_(3)薄膜 霍尔系数 载流子迁移率
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金属间化合物Fe3Si的制备方法 被引量:2
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作者 陈站 张晋敏 +3 位作者 朱培强 谢泉 马道京 王衍 《纳米科技》 2011年第1期74-81,共8页
文章综述了金属间化合物Fe3Si制备方法的研究现状,详细介绍了Fe3Si的几种常用制备方法,如分子束外延(MBE)、脉冲激光沉积(PLD)、物理气相沉积(PVD)、化学气相沉积(CVD)和机械合金化(MA),最后归纳了金属间化合物Fe3Si研究面临... 文章综述了金属间化合物Fe3Si制备方法的研究现状,详细介绍了Fe3Si的几种常用制备方法,如分子束外延(MBE)、脉冲激光沉积(PLD)、物理气相沉积(PVD)、化学气相沉积(CVD)和机械合金化(MA),最后归纳了金属间化合物Fe3Si研究面临的主要问题,展望了今后的发展趋势。 展开更多
关键词 Fe3Si金属间化合物 分子外延(mbe) 脉冲激光沉积(PLD) 物理气相沉积(PVD)
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不对称势垒对共振隧穿二极管I-V特性的影响
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作者 武一宾 杨瑞霞 +2 位作者 商耀辉 牛晨亮 王健 《微纳电子技术》 CAS 北大核心 2010年第11期663-667,共5页
利用Airy函数和传输矩阵方法计算了不对称势垒厚度的InP基AlAs/InGaAs/AlAs DBS结构在偏压情况下的共振透射系数,并通过材料生长和器件工艺制作得到了共振隧穿二极管的直流I-V特性。在峰值电流密度为132kA/cm2下,获得了17.84的电流峰谷... 利用Airy函数和传输矩阵方法计算了不对称势垒厚度的InP基AlAs/InGaAs/AlAs DBS结构在偏压情况下的共振透射系数,并通过材料生长和器件工艺制作得到了共振隧穿二极管的直流I-V特性。在峰值电流密度为132kA/cm2下,获得了17.84的电流峰谷比。测试结果还表明不对称势垒厚度的RTD在偏压情况下,当电子从较薄势垒向较厚势垒穿透时,更容易获得高的电流峰谷比,反之可获得较大的负微分电阻电压区域。 展开更多
关键词 不对称势垒 共振隧穿二极管(RTD) 电流峰谷比(PVCR) 负微分电阻(NDR) 分子外延(mbe) 磷化铟
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