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理论研究激光强度对H_2^+分子高次谐波产生的影响 被引量:7
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作者 都慧妮 苗向阳 《原子与分子物理学报》 CAS CSCD 北大核心 2013年第1期115-120,共6页
本文通过求解非波恩-奥本海默近似条件下的一维含时薛定谔方程来研究脉冲强度对H_2^+分子高次谐波的影响.由于干涉相消,在啁啾激光场的条件下在谐波谱中出现了干涉最小值.我们用全量子方法计算的时频分布图分析了分子高次谐波产生中的... 本文通过求解非波恩-奥本海默近似条件下的一维含时薛定谔方程来研究脉冲强度对H_2^+分子高次谐波的影响.由于干涉相消,在啁啾激光场的条件下在谐波谱中出现了干涉最小值.我们用全量子方法计算的时频分布图分析了分子高次谐波产生中的微观机制.此外,数值计算结果显示随着脉冲强度的增加电子的有质动力势随之增加,同时干涉最小值的位置移向谐波的高阶部分. 展开更多
关键词 分子高次谐波谱 非波恩-奥本海默近似 激光强度
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