考虑工艺参数变化的安全时钟布线算法

在超深亚微米(VDSM)工艺下,由光刻工艺带来的光学邻近效应不可忽略,时钟偏差受到光学邻近效应等工艺参数变化的影响非常严重.提出了一种带缓冲器插入的安全时钟布线算法,来防止因光学邻近造成线宽变化对时钟系统的影响.该算法提出了“分支敏感因子”(BSF)的概念,通过构造特殊的树型拓扑结构和布线过程中的缓冲器插入等操作,达到总体布线长度和偏差灵敏度的平衡.实验结果表明,算法可以得到一个抗光学邻近效应工艺参数变化的可靠时钟布线树,时钟偏差被有效地控制在合理范围之内.