利用分步沉积法实现非铁磁性磨屑自动识别的研究

本文介绍了一种结合磁化液的使用将同一个油样中的铁磁性磨屑和非铁磁性磨屑分别沉积在不同谱片上的分步沉积法 ,并给出了该法的理论依据 ,且通过实验证明了该法在实际应用中的可行性。该法的提出成功地解决了利用计算机对谱片进行分析时 ,在磨屑材质识别方面的难题。

PDA与PEI共沉积和分步沉积方法对纳滤膜性能的影响

采用聚多巴胺(PDA)与聚乙烯亚胺(PEI)共沉积和分步沉积两种方法对聚砜(PSf)基膜进行改性,对比两种方法改性后纳滤膜性能的差异.对改性前后膜的接触角、通量、截留率及稳定性进行了测试,并通过SEM、AFM、ATR-FTIR、XPS等方法对改性前后膜表面形貌结构、官能团种类、元素组成等进行表征.结果表明,改性时间为8 h时,PDA与PEI分步沉积改性后的膜接触角为49.85°,小于共沉积的68.55°;对MgSO4的截留率为95.2%,高于共沉积改性后的83.0%,但分步沉积对膜通量的影响更大.连续7 d的过滤实验表明两种方法改性后的纳滤膜的盐渗透通量和截留率具有长期稳定性.Zeta电位显示两种沉积方法均使膜表面电负性降低.膜表面表征表明两种方法均能使PDA与PEI交联涂层牢牢黏附在PSf基膜上,但两种改性方法的反应机理有所不同:PDA/PEI共沉积更易发生Schiff base反应,而分步沉积法更倾向于发生Michael addition反应.研究结果对于不同功能改性膜的发展提供理论基础,为PSf膜表面改性提供参考依据.

用分步沉积法去除Nb(OH)_5/Ta(OH)_5中Ti,Sb等金属杂质的工艺研究

从理论和实践应用方面,研究了在不同活性金属离子存在的条件下控制pH值,应用分步沉积的方法去除Nb(OH)5/Ta(OH)5中某些金属杂质.在一定温度下,可在不影响Nb(OH)5/Ta(OH)5沉积的条件下,达到有效去除Ti,Sb,Sn,Al,Fe等杂质元素的目的.

氢化微晶硅薄膜的两因素优化及高速沉积

采用甚高频等离子体辅助化学气相沉积技术(VHF-PECVD)分别对薄膜沉积参数进行了功率密度—沉积气压和硅烷浓度—气体总流量两因素优化。主要研究沉积参数对薄膜沉积速率和结晶状况的影响,结果表明:高沉积压强下,功率密度的提高对微晶硅薄膜(μc-Si∶H)沉积速率的影响减弱,硅烷浓度和气体总流量影响作用相对增强,高硅烷浓度有利于材料的利用,最终在高压强(600Pa)条件下,使微晶硅薄膜的沉积速率提升到2.1nm.s-1。同时,利用分步沉积法对薄膜的纵向结构均匀性进行了初步研究。

微型超级电容器PPy/GO-RuO_2复合膜电极的制备与电化学性能

为了解决氧化钌(RuO2)沉积电位过高,难以在三维微结构金属集流体上直接沉积的问题,提出采用分步电沉积方法在微三维结构镍(Ni)集流体上制备RuO2复合膜电极,即先在三维微结构Ni集流体上沉积聚吡咯/氧化石墨烯(PPy/GO)薄膜作为基底,经热处理后,在基底上二次沉积出RuO2颗粒,最后再对RuO2复合薄膜进行二次热处理。扫描电子显微镜(SEM)观察显示,随着热处理温度的升高,薄膜表面多孔结构增多,达到了提高膜电极结构孔隙分布的目的。能量分散谱(EDS)和X射线光电子能谱分析(XPS)表明,薄膜中无定形RuO2·x H2O的存在保证了膜电极的大比容量。电化学性能测试结果表明,经105℃处理后的膜电极电化学性能最佳,比电容为28.5 m F/cm2,能量密度为0.04 Wh/m2,功率密度为14.25 W/m2。采用分步电沉积方法制备出的RuO2复合薄膜是一种良好的MEMS超级电容器电极材料。

电化学方法制备金属基复合材料研究进展

金属基复合材料具有高比强度、高比模量、高硬度、耐高温等一系列优点,在现代航空、航天及武器装备等领域具有广阔的应用前景。综述了近年来电化学方法制备金属基复合材料的研究进展,具体介绍了电化学渗浸、连续分步电沉积和复合电沉积3种不同的电化学工艺过程。

多层分步镀方法制备用于氢气分离的Pd-Ag膜（英文）

用基于化学镀方法的钯银共沉积和分步沉积2种方法制备了PdAg膜。对比研究了2种方法制备的钯银膜的形貌、相结构、成分均匀性和致密性。实验结果表明共沉积法获得的钯银膜是树枝状的,成分不均匀,且致密性很差。分步沉积获得的钯银膜成分均匀、沿侧面生长趋势好,更适合制备超薄致密的用于氢气分离的钯银合金膜。多层分步镀形成Pd-Ag合金需要更高的温度和更长时间的热处理。Ag层的交替使得Pd的晶粒减小,并且最终沉积的膜表面更光滑。

太阳光谱金属-介质干涉型强吸收膜的研究

随着军事隐形、太阳能转换以及激光热处理等技术研究的日益深入,对表面吸收膜的技术要求不断提高。为满足太阳光谱吸收的要求,研制了一种在400~2500nm波段具有强吸收作用、适应多种基底的光学薄膜。通过分析吸收理论,建立吸收结构模型,并结合材料的特性研究,实现了吸收膜的设计。采用真空离子辅助沉积技术,根据逆向反演法,对"分步沉积"工艺二次优化,制备了太阳光谱强吸收膜。测试结果表明,研制的吸收膜在400~2500nm波段的平均吸收率为98.15%。制备的吸收膜通过了机械牢固度测试,与基底能够很好地结合。