0.8～1μm分步重复投影光刻机六自由度硅片定位系统设计与计算

介绍用于０．８～１μｍ分步重复投影光刻机的六自由度硅片定位系统。讨论了气足、承片台系统及ＳＴＡＭＰ的设计和计算方法，并给出了设计数据与计算结果。本系统在Ｘ、Ｙ１、Ｙ２三个方向达到了±０．１μｍ（３σ）的重复定位精度、±５０ｎｍ的调焦分辨力和５μｍ／全片的调平精度。

分步重复投影光刻机精密快速定位工件台研究

介绍了“１．５～２微米实用型分步重复投影光刻机”用的精密快速定位工件台的设计、结构特点、精度分析、检测及使用情况。工件台由大行程Ｘ－Ｙ工件台、微动台（Δｘ，Δｙ）和调平微转台（Δｚ１，Δｚ２，Δｚ３，Δθ）组成。同时该工件台利用大行程Ｘ－Ｙ工件台粗动兼微动与调平微转台的组合完成了“１０∶１分步重复投影光刻机”

分步重复投影光刻机同轴对准系统

对投影光刻机同轴对准系统进行了理论分析，阐述了系统的成象机理和工作过程，并在整机上检测了同轴对准系统的重复精度。该系统在掩模和硅片上均刻有对准光栅标记，经光栅衍射后形成干涉信号，使对准信噪比大大提高，并实现了掩模和硅片之间的直接对准，同时利用光弹性调制器组件对光学信号进行了光学调制，由电路实施解调，提供了一种保持高信噪比，又使弱信号探测不降低精度的对准方案。该系统可适用于各种硅片衬底，工艺适应能力强，稳定性能好，重复对准精度可达±０．１μｍ（３σ）。

0.8～1μm分步重复投影光刻机计算机实时控制系统接口设计

较详细介绍了０．８～１μｍ分步重复投影光刻机的主计算机实时控制系统接口设计，所有接口均采用隔离措施，各种类型接口都具有方便的再扩展功能，接口软件用ＢｏｒｌａｎｄＣ＋＋语言编写，可方便调配组合使用。

0.8～1μm分步重复投影光刻机主要机构控制系统研制

传输片、预对准、调平及预调焦系统是分步重复投影光刻机的重要组成部分 ,其精度和运行可靠性对分步重复投影光刻机的整机性能指标将产生重大影响。介绍了 0 8～ 1 μm分步重复投影光刻机传输片、预对准、调平及预调焦控制系统的组成及控制软件 ;分析了预对准、机械手上片、调平及预调焦的精度和运行可靠性 ,并给出了研制结果。

0.8～1微米分步重复投影光刻机掩模库研制

掩模库系统可提高光刻机的稳定性和实用性，该系统包括精密的气动部分、机械构件和8098单片机为核心的电子／电气自动控制系统。

分步重复投影光刻机整机控制管理软件

计算机分系统是光刻机整机控制和管理的中枢，直接反映和影响着整机的性能和指标。介绍了计算机硬件接口控制原理，描述了分步重复投影光刻机系统软件的主要设计思想和软件的主要功能。

自装三用分步重复精缩机

本文介绍自行设计组装三用分步重复精缩机的设计构思、光路及结构。

0.35μm分步重复投影光刻物镜设计

介绍 0 .35μm分步重复投影光刻物镜的设计要点 ,包括数值孔径、结构型式的确定、材料的选择。介绍了光刻物镜设计的难点、创新点及设计结果。

高分辨力高导向精度柔性铰链调焦机构

介绍一种用于亚微米曝光系统的柔性铰链调焦机构，讨论了其设计与计算方法，这种机构得到了２０ｎｍ的分辨力、２００μｍ的行程和小于１弧秒的导向精度。这是一种适合纳米定位的理想机构。

0.8μm投影光刻物镜研制

分绍了０．８～１μｍ分步重复投影光刻机投影光刻物镜双远心成象原理及设计研制。所研制的ｇ线１／５精缩投影光刻物镜，其数值孔径ＮＡ＝０．４５，视场１５ｍｍ×１５ｍｍ，畸变不超过±０．１μｍ。

i－line光刻高均匀照明系统光能分布的计算模拟

叙述了ｉ－ｌｉｎｅ光刻高均匀照明系统的均匀照明原理，以及其具有特殊面形（非球面）、特殊结构（非共轴）、超光学表面（由多个非共轴光学表面组成）的光学系统的光能分布计算模拟的原理、方法。作为例子，用所编写的程序计算模拟了我们近来设计的一曝光系统几个重要光学表面上具有权重的点列图和光能分布曲线。

紫光高均匀照明实验装置及结构设计

介绍了一种可对分步重复投影光刻机照明系统性能进行研究的紫光高均匀照明实验装置及总体结构设计。说明了在该装置的结构设计上所遇到的主要问题及解决方法。使用此装置可以对照明系统在多种不同照明条件下的照明均匀性等性能进行实验研究；并且可与光刻物镜、工件台组合成一套曝光系统，开展微细加工光刻技术的曝光实验研究。

NSR-1755i7A投影光刻机自动对准故障分析

在半导体设备当中投影光刻机应是最为精密复杂的设备,其维修工作具有高度的技术性。论述了NSR1755i7A投影光刻机自动对准系统的工作原理,并分析了两例自动对准系统故障和排除故障的过程,最后提出对此类故障检查的一般原则。

提高整机套刻精度的软件处理方法

套刻精度是衡量分步重复投影光刻机的一项重要指标。套刻精度不仅取决于对准系统的对准精度，还受环境、工艺等因素的影响。提出了提高光刻机整机套刻精度的几种软件修正处理方法，通过工艺实验和考核，取得了比较满意的结果，证明了这些方法的可行性。

液晶显示器用曝光装置

本文介绍了液晶显示器制造装置的市场动态；对ＬＣＤ用曝光机在生产工艺中的地位进行了分析，总结了各类曝光机的特点；并对几种典型的曝光机的独特技术进行了剖析，提出了选准突破口发展我国ＬＣＤ装置业的设想。

超微细加工及设备

TN305.7 97042750光电式动态光栅精密圆刻机=A precision photoelectricdynamic engraving machine for circularapparatus[刊,中]/张国范(中国航空精密机械所.北京(100076))//航空精密制造技术.—1996,32(6).—1-6介绍了一种刻划精度达±0.06″,采用圆光栅作角分度基准器,空气静压双半球轴系作主轴。

超微细加工及设备

TN305.7 97021357用化学方法制备硅场发射阵列=Preparation ofsilicon tips array[刊,中]/元光,金长春,金亿鑫,宋航,荆海,朱希玲,张宝林,周天明,宁永强,蒋红,王惟彪(中科院长春物理研究所.吉林,长春(130021))//发光学报.—1996,17(4).—341—345利用各向同性腐蚀液制了硅微尖阵列。并考察了各主要工艺参数对微尖形貌的影响。图6参6(赵桂云)

微细加工技术与设备

TN305.7 99063930照明条件对光刻成像图形质量的影响=Influence ofilluminating coildition on quality of patterns im-aged with photolithographic systems[刊,中]/罗先刚,陈旭南,姚汉民,冯伯儒(中科院光电所.四川,成都(610209))∥98’中国青年光学学术讨论会.—陕西,西安,98.