制取上颌骨缺损腔印模的新方法

上颌骨缺损后,健侧组织与缺损区组织所在位置相差较大,印模的范围又特别广泛,如果用一般的印模方法将无法取得完整而精确的印模,必须采用特殊的取模方法。常用的有:(1)个别托盘印模法;(2)注射印模法:(3)分层印模法;(4)裂缝托盘印模法;(5)分段印模法。对上颌骨缺损腔较大且深者,只能采用分层印模法取模。该方法无法一次取得完整印模,需反复制取,对创口、创面损伤较大,患者难以承受。